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무바인더 및 고점도 나노 입자 산화물 페이스트를 이용한염료감응 태양전지의 나노 입자 산화물 전극 형성 방법

  • 기술번호 : KST2015080115
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 염료감응 태양전지의 나노 입자 산화물 전극 형성 방법을 제공한다. 본 발명은 산성 또는 염기성에서 분산이 잘되는 나노 입자 산화물 콜로이드 용액에 각각 염기성 수용액 및 산성 용액을 첨가하여 산-염기 반응에 의해 염 형태의 나노 입자 산화물 페이스트를 형성한다. 이어서, 상기 나노 입자 산화물 페이스트를 기판에 코팅한 후, 150℃ 이하의 저온에서 건조시켜 염료감응 태양전지의 나노 입자 산화물 전극을 형성한다. 이에 따라, 본 발명은 고분자를 첨가하지 않고도 점도가 높은 저온코팅용 나노 입자 산화물 페이스트를 산-염기 화학에 기초하여 제조할 수 있고, 이를 통하여 저온에서도 나노 입자 산화물 전극을 형성할 수 있다.
Int. CL H01L 31/18 (2014.01) H01L 31/04 (2014.01) H01L 31/0224 (2014.01)
CPC
출원번호/일자 1020040076426 (2004.09.23)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0582552-0000 (2006.05.16)
공개번호/일자 10-2006-0027569 (2006.03.28) 문서열기
공고번호/일자 (20060523) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2004.09.23)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박남규 대한민국 대전 유성구
2 강만구 대한민국 대전광역시 유성구
3 김광만 대한민국 대전광역시 유성구
4 류광선 대한민국 대전광역시 유성구
5 장순호 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 리앤목특허법인 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)
2 이해영 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)(리앤목특허법인)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2004.09.23 수리 (Accepted) 1-1-2004-0434402-94
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2006.01.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2006.02.20 수리 (Accepted) 9-1-2006-0012825-39
4 등록결정서
Decision to grant
2006.04.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0238424-61
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
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번호 청구항
1 1
산성 또는 염기성에서 분산이 잘되는 나노 입자 산화물 콜로이드 용액을 준비하는 단계; 상기 산성 또는 염기성에서 분산이 잘되는 나노 입자 산화물 콜로이드 용액에 각각 염기성 수용액 및 산성 용액을 첨가하여 산-염기 반응에 의해 염 형태의 나노 입자 산화물 페이스트를 형성하는 단계; 상기 나노 입자 산화물 페이스트를 기판에 코팅하는 단계; 및 상기 코팅된 나노 입자 산화물 페이스트를 건조시키는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 나노 입자 산화물 전극 형성 방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 산성에서 분산이 잘되는 나노 입자 산화물 콜로이드 용액에 포함된 나노 입자 산화물은 티타늄 산화물(TiO2), 아연 산화물(ZnO) 또는 니오븀 산화물(Nb2O5)인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 나노 입자 산화물 전극 형성 방법
3 3
제1항에서 있어서, 상기 염기성에서 분산이 잘되는 나노 입자 산화물 콜로이드 용액에 포함된 나노 입자 산화물은 주석 산화물(SnO2) 또는 텅스텐 산화물(WO3)인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 나노 입자 산화물 전극 형성 방법
4 4
제1항에 있어서, 상기 산성 나노입자 산화물 콜로이드 용액을 페이스트화할 수 있는 염기성 수용액에 포함된 염기성 물질은 물에 해리하여 수산화 이온을 내놓을 수 있는 유기 또는 무기 물질인 것을 특징으로 하는 나노 입자 산화물 전극 형성 방법
5 5
제1항에 있어서, 상기 염기성 나노입자 산화물 콜로이드 용액을 페이스트화할 수 있는 산성 수용액에 포함된 산성 물질은 물에 해리하여 수소 이온을 내놓을 수 있는 유기 또는 무기 물질 인 것을 특징으로 하는 나노 입자 산화물 전극 형성 방법
6 6
제1항에 있어서, 상기 기판은 전도성 플라스틱 기판, 전도성 유리 기판, 전도성 금속 기판, 반도체 기판 또는 부도체 기판인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 나노 입자 산화물 전극 형성 방법
7 7
제1항에 있어서, 상기 나노 입자 산화물 페이스트는 닥터 블레이드법을 이용하여 기판에 코팅하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 나노 입자 산화물 전극 형성 방법
8 8
제1항에 있어서, 상기 코팅된 나노 입자 산화물을 건조시킬 때 건조 조건은 공기 분위기, 산소 분위기, 질소 분위기, 아르곤 분위기 또는 진공 분위기의 상온 내지 150℃ 이하의 저온에서 수행하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 나노 입자 산화물 전극 형성 방법
9 9
티타늄 산화물(TiO2) 콜로이드 용액을 합성하는 단계; 상기 티타늄 산화물 콜로이드 용액에 암모니아(NH3) 수용액을 첨가하여 산-염기 반응에 따라 염 형태의 나노 입자의 티타늄 산화물 페이스트를 형성하는 단계; 상기 티타늄 산화물 페이스트를 기판에 코팅하는 단계; 및 상기 코팅된 나노 입자 티타늄 산화물 페이스트를 상온 내지 150℃ 이하의 저온에서 건조시키는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 나노 입자 산화물 전극 형성 방법
10 10
주석 산화물(SnO2) 콜로이드 용액을 합성하는 단계; 상기 주석 산화물 콜로이드 용액에 아세트산 수용액을 첨가하여 산-염기 반응에 따라 염 형태의 나노 입자의 주석 산화물 페이스트를 형성하는 단계; 상기 주석 산화물 페이스트를 기판에 코팅하는 단계; 및 상기 코팅된 나노 입자 주석 산화물 페이스트를 상온 내지 150℃ 이하의 저온에서 건조시키는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 나노 입자 산화물 전극 형성 방법
11 10
주석 산화물(SnO2) 콜로이드 용액을 합성하는 단계; 상기 주석 산화물 콜로이드 용액에 아세트산 수용액을 첨가하여 산-염기 반응에 따라 염 형태의 나노 입자의 주석 산화물 페이스트를 형성하는 단계; 상기 주석 산화물 페이스트를 기판에 코팅하는 단계; 및 상기 코팅된 나노 입자 주석 산화물 페이스트를 상온 내지 150℃ 이하의 저온에서 건조시키는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지의 나노 입자 산화물 전극 형성 방법
지정국 정보가 없습니다
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2 JP18093105 JP 일본 FAMILY
3 US20060063296 US 미국 FAMILY

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1 JP2006093105 JP 일본 DOCDBFAMILY
2 JP4343877 JP 일본 DOCDBFAMILY
3 US2006063296 US 미국 DOCDBFAMILY
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