맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

표면 패터닝된 음극 집전체로 이루어지는 리튬금속 고분자이차전지용 음극 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015080224
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 소정 형상으로 오목하게 들어간 음각이 복수개 형성되어 있는 표면을 가지는 음극 집전체로 이루어지는 리튬금속 고분자 이차전지용 음극 및 그 제조 방법에 관하여 개시한다. 상기 음극 집전체의 표면에 복수의 음각을 형성하기 위하여 물리적 또는 화학적 방법을 이용한다. 본 발명에 따른 음극을 채용한 리튬금속 고분자 이차전지에서는 음극 집전체의 표면 패턴닝에 의하여 형성된 음각내에서만 리튬의 산화/환원 및 수지상 형성 반응이 일어난다. 따라서, 리튬 음극의 두께 변화에 따른 전지 셀의 부피 팽창 및 수축이 억제되고, 싸이클 안정성 및 수명 특성이 향상된다. 리튬금속 고분자 이차전지, 음극 집전체, 음극, 패터닝, 부피 변화, 싸이클 안정성
Int. CL H01M 10/0525 (2010.01) H01M 4/13 (2010.01) H01M 4/70 (2010.01)
CPC
출원번호/일자 1020040097475 (2004.11.25)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0582557-0000 (2006.05.16)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20060522) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2004.11.25)
심사청구항수 10

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이영기 대한민국 대전 서구
2 홍영식 대한민국 대전 유성구
3 박용준 대한민국 대전 유성구
4 류광선 대한민국 대전 유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 리앤목특허법인 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)
2 이해영 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)(리앤목특허법인)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2004.11.25 수리 (Accepted) 1-1-2004-0553206-54
2 등록결정서
Decision to grant		 2006.04.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0231835-15
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
소정 형상으로 오목하게 들어간 음각이 복수개 형성되어 있는 표면을 가지는 음극 집전체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 리튬금속 고분자 이차전지용 음극
2 2
제1항에 있어서, 상기 음각은 그 평면 형상이 다각형, 원형, 또는 타원형인 것을 특징으로 하는 리튬금속 고분자 이차전지용 음극
3 3
제1항에 있어서, 상기 음극 집전체는 금속 포일(foil) 또는 금속 폼(foam)으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 리튬금속 고분자 이차전지용 음극
4 4
제3항에 있어서, 상기 음극 집전체는 구리 또는 니켈로 이루어지는 것을 특징으로 하는 리튬금속 고분자 이차전지용 음극
5 5
음극 집전체를 준비하는 단계와, 상기 음극 집전체의 표면에 복수의 음각을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 리튬금속 고분자 이차전지용 음극의 제조 방법
6 6
제5항에 있어서, 상기 음극 집전체로서 금속 포일 또는 금속 폼을 준비하는 것을 특징으로 하는 리튬금속 고분자 이차전지용 음극의 제조 방법
7 7
제5항에 있어서, 상기 음각은 물리적인 방법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 리튬금속 고분자 이차전지용 음극의 제조 방법
8 8
제7항에 있어서, 상기 음각을 형성하기 위하여 상기 음극 집전체의 표면을 소정 형상의 양각이 복수개 형성되어 있는 패터닝 틀로 프레싱(pressing)하는 것을 특징으로 하는 리튬금속 고분자 이차전지용 음극의 제조 방법
9 9
제5항에 있어서, 상기 음각은 화학적인 방법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 리튬금속 고분자 이차전지용 음극의 제조 방법
10 10
제9항에 있어서, 상기 음각을 형성하기 위하여 상기 음극 집전체의 표면 중 일부를 식각액으로 처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 리튬금속 고분자 이차전지용 음극의 제조 방법
11 10
제9항에 있어서, 상기 음각을 형성하기 위하여 상기 음극 집전체의 표면 중 일부를 식각액으로 처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 리튬금속 고분자 이차전지용 음극의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - 패밀리정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP18156351 JP 일본 FAMILY
2 US07427455 US 미국 FAMILY
3 US20060110661 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - DOCDB 패밀리 정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN100405640 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 CN1780036 CN 중국 DOCDBFAMILY
3 JP2006156351 JP 일본 DOCDBFAMILY
4 US2006110661 US 미국 DOCDBFAMILY
5 US7427455 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.