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기판 상에 비촉매 금속 아일랜드를 형성하고;상기 비촉매 금속 아일랜드 주위를 둘러싸게 촉매 금속 도넛을 형성하고; 및 상기 촉매 금속 도넛 상에 실리콘 나노튜브를 성장시키는 것을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 실리콘 나노튜브 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 비촉매 금속 아일랜드는,상기 기판 상에 비촉매 금속층을 형성하고,상기 비촉매 금속층을 열처리하여 형성하는 것을 특징으로 하는 실리콘 나노튜브 제조방법
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제2항에 있어서, 상기 비촉매 금속층은 크롬, 백금 또는 바나듐으로 형성하는 것을 특징으로 하는 실리콘 나노튜브 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 비촉매 금속 아일랜드는,상기 기판 상에 비촉매 금속층을 형성하고,상기 비촉매 금속층을 건식식각하여 형성하는 것을 특징으로 하는 실리콘 나노튜브 제조방법
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5
제1항에 있어서, 상기 촉매 금속 도넛은,상기 비촉매 금속 아일랜드가 형성된 기판 상에 촉매 금속층을 형성하고,상기 촉매 금속층을 열처리하여 형성하는 것을 특징으로 하는 실리콘 나노튜브 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 촉매 금속층은 니켈, 금, 아연 또는 철로 형성하는 것을 특징으로 하는 실리콘 나노튜브 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 실리콘 나노튜브는 열 화학기상증착법에 의해 상기 촉매 금속 도넛과 실리콘 소스와의 반응에 의하여 형성되는 것을 특징으로 하는 실리콘 나노튜브 제조방법
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기판 상에 비촉매 금속층을 형성하고;상기 비촉매 금속층을 열처리하여 상기 비촉매 금속층의 표면 에너지가 줄어 뭉쳐져 비촉매 금속 아일랜드를 형성하고;상기 비촉매 금속 아일랜드가 형성된 상기 기판 상에 촉매 금속층을 형성하고;상기 촉매 금속층을 열처리하여 상기 촉매 금속층의 표면 에너지를 줄여 상기 비촉매 금속 아일랜드 주위를 둘러싸게 촉매 금속 도넛을 형성하고; 및 상기 촉매 금속 도넛 상에서 상기 촉매 금속 도넛과 실리콘 소스와의 반응에 의해 실리콘 나노튜브를 성장시키는 것을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 실리콘 나노튜브 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 비촉매 금속층은 2 내지 10nm의 두께로 크롬, 백금 또는 바나듐으로 형성하는 것을 특징으로 하는 실리콘 나노튜브 제조방법
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제9항에 있어서, 상기 촉매 금속층은 2 내지 10nm의 두께로 니켈, 금, 아연 또는 철로 형성하는 것을 특징으로 하는 실리콘 나노튜브 제조방법
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제9항에 있어서, 상기 실리콘 나노튜브는 열 화학기상증착법에 의해 형성하는 것을 특징으로 하는 실리콘 나노튜브 제조방법
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