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파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴측정 시스템 및 그 방법

  • 기술번호 : KST2015081992
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야본 발명은 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 시스템 및 그 방법에 관한 것임.2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제본 발명은 종래의 원역장 방사 패턴 시스템을 기반으로 파이 변화법을 이용하여 무반향실의 프레넬(Fresnel) 영역에서 원거리 방사 패턴을 측정하기 위한, 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 시스템 및 그 방법을 제공하는데 그 목적이 있음.3. 발명의 해결방법의 요지본 발명은, 안테나 방사 패턴 측정 시스템에 있어서, 기준 안테나와 피측정 안테나의 각도를 변경시키기 위한 회전수단; 상기 기준 안테나와 상기 피측정 안테나 간의 RF 신호 송/수신에 따른 방사 패턴 데이터를 획득하기 위한 벡터 네트워크 분석수단; 상기 벡터 네트워크 분석수단으로부터의 방사 패턴 데이터를 이용하여 원역장 방사 패턴을 계산하기 위한 측정수단; 및 상기 측정수단으로부터의 측정 각도에 따라 상기 회전수단을 제어하기 위한 제어수단을 포함함.4. 발명의 중요한 용도본 발명은 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 등에 이용됨.프레넬 영역, 안테나 측정, 파이 변화법, 방사 패턴, 원역장
Int. CL H04B 7/02 (2006.01) G01S 3/06 (2006.01) H01Q 11/04 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020060121761 (2006.12.04)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0826527-0000 (2008.04.24)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20080430) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.12.04)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 오순수 대한민국 대전 서구
2 조용희 대한민국 대전 서구
3 윤재훈 대한민국 대전 중구
4 김종면 대한민국 대전 유성구
5 문정익 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 신성특허법인(유한) 대한민국 서울특별시 송파구 중대로 ***, ID타워 ***호 (가락동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2006.12.04 수리 (Accepted) 1-1-2006-0899151-25
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2007.10.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0572870-91
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2007.11.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0843412-36
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2007.11.23 수리 (Accepted) 1-1-2007-0843413-82
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2007.12.21 수리 (Accepted) 1-1-2007-0921281-59
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2007.12.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0921279-67
7 등록결정서
Decision to grant		 2008.04.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0209929-16
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
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번호 청구항
1 1
안테나 방사 패턴 측정 시스템에 있어서,기준 안테나와 피측정 안테나의 각도를 변경시키기 위한 회전수단;상기 기준 안테나와 상기 피측정 안테나 간의 RF 신호 송/수신에 따른 방사 패턴 데이터를 획득하기 위한 벡터 네트워크 분석수단;상기 벡터 네트워크 분석수단으로부터의 방사 패턴 데이터를 이용하여 원역장 방사 패턴을 계산하기 위한 측정수단; 및상기 측정수단으로부터의 측정 각도에 따라 상기 회전수단을 제어하기 위한 제어수단을 포함하는 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 시스템
2 2
제 1 항에 있어서,상기 회전수단은,상기 기준 안테나를 수평축을 중심으로 회전시키기 위한 제1 회전수단;상기 피측정 안테나를 수평축을 중심으로 회전시키기 위한 제2 회전수단; 및상기 피측정 안테나를 수직축을 중심으로 회전시키기 위한 제3 회전수단을 포함하는 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 시스템
3 3
제 1 항에 있어서,상기 회전수단은,상기 기준 안테나를 수평축을 중심으로 회전시키기 위한 제1 회전수단;상기 피측정 안테나를 수평축을 중심으로 회전시키기 위한 제2 회전수단; 및상기 피측정 안테나를 수직축을 중심으로 일정 반경을 갖도록 회전시키기 위한 제3 회전수단을 포함하는 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 시스템
4 4
제 1 항에 있어서,상기 측정수단은,상기 벡터 네트워크 분석수단에서 획득된 방사 패턴 데이터와 상기 피측정 안테나에 대한 푸리에 계수에 기반하여 원역장 방사 패턴을 계산하는 것을 특징으로 하는 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 시스템
5 5
제 4 항에 있어서,상기 벡터 네트워크 분석수단은,상기 기준 안테나 또는 상기 피측정 안테나 중 어느 하나의 안테나로 RF 신호를 출력하고, 상기 RF 신호를 출력하지 않은 안테나로부터 RF 신호를 입력받아 복소수 값(복소수 전계 값)을 검출하는 것을 특징으로 하는 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 시스템
6 6
제 5 항에 있어서,상기 측정수단은,상기 벡터 네트워크 분석수단에 의해 검출된 복소수 전계 값에 푸리에 계수를 곱하고 상기 곱한 값을 합산하여 원역장 방사 패턴을 계산하는 것을 특징으로 하는 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 시스템
7 7
제 6 항에 있어서,상기 복소수 전계 값은,상기 기준 안테나와 상기 피측정 안테나 간의 거리만큼 떨어진 구면의 여러 점들의 프레넬 영역에서의 복소수 전계 값인 것을 특징으로 하는 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 시스템
8 8
안테나 방사 패턴 측정 방법에 있어서,측정 각도에 따라 기준 안테나와 피측정 안테나의 각도를 변경시키는 각도 변경 단계;상기 기준 안테나와 상기 피측정 안테나 간의 RF 신호 송/수신에 따른 방사 패턴 데이터를 획득하는 방사 패턴 데이터 획득 단계;측정하고자 하는 각도에 대하여 상기 방사 패턴 데이터 획득 단계를 반복 수행하여 방사 패턴 데이터를 획득하는 단계; 및상기 획득한 방사 패턴 데이터를 이용하여 원역장 방사 패턴을 측정하는 측정 단계를 포함하는 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 방법
9 9
제 8 항에 있어서,상기 각도 변경 단계는,측정 각도에 따라 상기 기준 안테나를 수평축을 중심으로 회전시키는 단계;측정 각도에 따라 상기 피측정 안테나를 수평축을 중심으로 회전시키는 단계; 및상기 피측정 안테나를 수직축을 중심으로 일정 반경을 갖도록 회전시키는 단계를 포함하는 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 방법
10 10
제 8 항에 있어서,상기 측정 단계는,상기 획득한 방사 패턴 데이터와 상기 피측정 안테나에 대한 푸리에 계수에 기반하여 원역장 방사 패턴을 계산하는 것을 특징으로 하는 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 방법
11 11
제 9 항에 있어서,상기 측정 단계는,상기 획득한 방사 패턴 데이터 즉, 복소수 전계 값에 푸리에 계수를 곱하고 상기 곱한 값을 합산하여 원역장 방사 패턴을 계산하는 것을 특징으로 하는 파이 변화법을 이용한 프레넬 영역에서의 안테나 방사 패턴 측정 방법
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