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사중극자 질량 분석기를 이용한 챔버 상태 모니터링 방법

  • 기술번호 : KST2015082408
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 플라즈마 장비의 초기 가동 시, 챔버의 습식 세정 후 또는 챔버 비가동 시간(idle time) 이후 다시 가동할 때 사중극자 질량분석기를 이용하여 챔버 상태를 모니터링는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 플라즈마 장비를 가동하여 플라즈마 식각 공정을 수행하기 이전에 챔버가 습식 세정 단계를 거쳤는지 판단하는 단계; 상기 판단 결과에 따라 시즈닝 공정을 수행하는 단계; 사중극자 질량분석기를 이용하여 플라즈마 반응종의 양을 측정하고 전자와의 충돌로 해리된 이온이나, 라디칼의 밀도, 질량 및 에너지 분포를 측정하여 챔버 상태에 최적화된 시즈닝 레시피를 제공하는 단계를 포함함으로써, 챔버 내부의 분위기를 형성하여 챔버 상태 안정화에 필요한 소요시간을 단축함으로써 반도체 제조 공정 수율 상승을 꾀함과 동시에 웨이퍼 간에 발생하는 식각특성의 변화 문제를 미연에 방지할 수 있는 방법에 관한 것이다.이상, 본 발명에 따른 챔버 모니터링 방법을 이용함으로써 기존 플라즈마 장비에서 적은 투자로 습식 세정후 시즈닝 공정이나 챔버 상태 변화 모니터링으로 첫 번째 웨이퍼 효과와 같은 가동 초기 불량이나 공정 중 챔버 상태 변화에 따른 불량을 효과적으로 방지할 수 있어 반도체 제조 시간 단축 및 챔버 세정 주기의 증가로 수율 증가가 기대되어 제조 원가 절감을 구현할 수 있다.챔버 모니터링, 시즈닝, 사중 극자 질량 분석기, 플라즈마 식각
Int. CL H01L 21/02 (2006.01)
CPC H01L 21/3065(2013.01) H01L 21/3065(2013.01) H01L 21/3065(2013.01) H01L 21/3065(2013.01)
출원번호/일자 1020060123992 (2006.12.07)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0835379-0000 (2008.05.29)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20080604) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.12.07)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김관하 대한민국 경기 용인시 수지구
2 노태문 대한민국 대전 유성구
3 김종대 대한민국 대전 서구
4 김상기 대한민국 대전 유성구
5 구진근 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 신영무 대한민국 서울특별시 강남구 영동대로 ***(대치동) KT&G타워 *층(에스앤엘파트너스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2006.12.07 수리 (Accepted) 1-1-2006-0908604-18
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2007.10.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2007.11.08 수리 (Accepted) 9-1-2007-0064888-92
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2007.12.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0670621-16
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2008.02.11 수리 (Accepted) 1-1-2008-0100492-31
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2008.03.10 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0172343-68
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2008.03.10 수리 (Accepted) 1-1-2008-0172324-01
8 등록결정서
Decision to grant		 2008.05.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0288763-19
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
사중극자 질량분석기가 장착된 플라즈마 장비를 가동하여 플라즈마 공정을 수행하기 이전 또는 플라즈마 공정 중 상기 플라즈마 장비의 챔버 상태를 파악하기 위해, 상기 사중극자 질량분석기를 이용하여 전자와의 충돌로 해리된 이온 또는 플라즈마 반응종의 질량 및 에너지분포, 라디칼의 밀도를 측정하는 단계;상기 측정된 결과를 이용하여 상기 해리된 이온의 상대적인 분포 및 비율, 상기 플라즈마의 이온화율을 산출하는 단계;상기 산출된 상기 플라즈마의 이온화율 및 상기 해리된 이온의 상대적인 분포 및 비율과, 상기 라디칼의 밀도가 상기 플라즈마 장비의 정상 상태 범위 내인지를 판단하는 단계; 및 상기 판단 결과가 상기 정상 상태 범위를 벗어나는 경우, 상기 산출값이 상기 정상 상태 범위 내로 전환되도록 공정 챔버를 시즈닝하는 단계를 포함하는 플라즈마 챔버 모니터링 방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 정상 상태 범위를 판단하는 단계에서,상기 플라즈마의 이온화율 및 상기 이온의 상대적인 분포 및 비율과 라디칼의 밀도가 정상 상태 범위 미만인 경우에는, 폴리머 발생 플라즈마를 이용한 시즈닝 공정을 수행하는 플라즈마 챔버 모니터링 방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 정상 상태 범위를 판단하는 단계에서,상기 플라즈마의 이온화율, 상기 이온의 상대적인 분포 및 비율, 및 상기 라디칼의 밀도가 정상 상태 범위를 초과하는 경우에는, 챔버 세정 플라즈마를 이용한 시즈닝 공정을 수행하는 플라즈마 챔버 모니터링 방법
4 4
제2항 또는 제3항에 있어서,상기 정상 상태 범위의 판단에 따라 상기 폴리머 발생 플라즈마 또는 상기 쳄버 세정 플라즈마를 이용한 시즈닝 공정을 수행한 다음, 상기 챔버의 상태를 안정화시키기 위해 플라즈마 진단 단계를 수행하는 플라즈마 챔버 모니터링 방법
5 5
제1항에 있어서,상기 측정 단계는, 상기 사중 극자 질량 분석기를 이용하는 필라멘트를 가열하여 방출된 열전자를 가속하는 단계;상기 방출된 열전자를 가속하여 중성 입자와 충돌시켜 이온을 해리하는 단계;상기 사중 극자 질량 분석기를 구성하는 각 극에 직류 및 교류 전압을 인가하여 일정한 질량 대 전하 비(mass-to-charge ratio)를 갖는 입자를 사중 극자에 통과시켜 중성 입자 및 이온의 질량을 측정하는 단계를 더 포함하는 플라즈마 챔버 모니터링 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.