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4
다음 식의 반복 단위를 가지는 고분자
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5
제4항에 있어서,
Z는 다음 식들 중에서 선택되는 어느 하나의 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 고분자
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6
제4항에 있어서,
Ar1은 다음 식들 중에서 선택되는 어느 하나의 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 고분자
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7
제4항에 있어서,
Ar2는 다음 식들 중에서 선택되는 어느 하나의 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 고분자
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8
제4항에 있어서,
Ar3는 다음 식들 중에서 선택되는 어느 하나의 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 고분자
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9
제4항에 있어서,
R은 다음 식들 중에서 선택되는 어느 하나의 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 고분자
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10
제4항에 있어서,
Y1, Y2, Y3, Y4 및 Y5는 각각 -O-인 것을 특징으로 하는 고분자
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11
제4항에 따른 고분자를 포함하는 고분자 필름
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12
제4항에 따른 구조를 가지는 고분자의 가교 반응물을 포함하는 광도파로용 고분자 필름
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13
제4항에 따른 구조를 가지는 제1 고분자와, 상기 고분자와는 다른 구조를 가지는 제2 고분자와의 가교 반응물을 포함하는 광도파로용 고분자 필름
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14
제4항에 따른 고분자를 소정의 용매에 용해시켜 고분자 용액을 형성하는 단계와,
상기 고분자 용액을 사용하여 고분자 필름을 형성하는 단계와,
상기 용매의 끓는점보다 높고 상기 고분자의 가교 온도보다 낮은 제1 온도로 상기 고분자 필름을 열처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광도파로용 고분자 필름의 제조 방법
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15
제14항에 있어서,
상기 제1 온도는 100 ∼ 200 ℃의 범위 내에서 선택되는 것을 특징으로 하는 광도파로용 고분자 필름의 제조 방법
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16
제14항에 있어서,
상기 제1 온도로 열처리된 상기 고분자 필름을 상기 고분자의 유리전이온도 및 가교 온도보다 높은 제2 온도로 열처리하여 가교된 고분자 필름을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광도파로용 고분자 필름의 제조 방법
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17
제16항에 있어서,
상기 제2 온도는 200 ∼ 500 ℃의 범위 내에서 선택되는 것을 특징으로 하는 광도파로용 고분자 필름의 제조 방법
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