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반도체 웨이퍼 제조용 횡형 확산로

  • 기술번호 : KST2015083062
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 반도체 웨이퍼 제작용 횡형 확산로는 히팅 코일이 구비된 반응실; 개폐 가능한 덮개를 가지며 적어도 하나의 웨이퍼를 적재할 수 있는 보트; 상기 보트를 지지하는 지지대; 상기 지지대의 일측부와 결합되어 상기 지지대에 지지된 상기 보트를 상기 반응실로 이동시키는 운반대; 상기 지지대의 일측부에 형성되어 상기 웨이퍼가 적재된 보트에 가스를 주입하는 가스 주입구; 및 상기 가스 주입구를 통해 주입된 가스가 상기 보트에 제공되도록 상기 지지대의 길이 방향을 따라 형성된 가스 주입관을 포함한다.본 발명에 따르면, 보트에 실리콘 웨이퍼 기판의 적재를 용이하게 할 수 있고, 웨이퍼 상에 형성되는 게이트 절연막의 두께를 균일하게 할 수 있다. 또한, 웨이퍼 상에 자연 산화막이 형성되는 것을 방지할 수 있다.열산화, 웨이퍼, 횡형 확산로, 캔틸레버, 가스 주입관, 가스 유출공
Int. CL H01L 21/02 (2006.01) H01L 21/22 (2006.01)
CPC H01L 21/67098(2013.01) H01L 21/67098(2013.01)
출원번호/일자 1020070077862 (2007.08.02)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0872775-0000 (2008.12.02)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20081209) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.08.02)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유성욱 대한민국 대구 수성구
2 박건식 대한민국 대전 유성구
3 박종문 대한민국 대전 유성구
4 구진근 대한민국 대전 유성구
5 강진영 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 신영무 대한민국 서울특별시 강남구 영동대로 ***(대치동) KT&G타워 *층(에스앤엘파트너스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2007.08.02 수리 (Accepted) 1-1-2007-0565620-83
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2008.04.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2008.05.13 수리 (Accepted) 9-1-2008-0027373-13
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2008.06.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0349844-73
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2008.07.04 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0483214-93
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2008.07.04 수리 (Accepted) 1-1-2008-0483206-27
7 등록결정서
Decision to grant		 2008.11.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0606317-30
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
히팅 코일이 구비된 반응실;개폐 가능한 덮개를 가지며 적어도 하나의 웨이퍼를 적재할 수 있는 보트;상기 보트를 지지하는 지지대;상기 지지대의 일측부와 결합되어 상기 지지대에 지지된 상기 보트를 상기 반응실로 이동시키는 운반대;상기 지지대의 일측부에 형성되어 상기 웨이퍼가 적재된 보트에 가스를 주입하는 가스 주입구; 및상기 가스 주입구를 통해 주입된 가스가 상기 보트에 제공되도록 상기 지지대의 길이 방향을 따라 형성된 가스 주입관을 포함하는 반도체 웨이퍼 제조용 횡형 확산로
2 2
제 1항에 있어서, 상기 보트는 웨이퍼가 적재되는 보트 본체, 상기 보트 본체와 분리 가능한 보트 덮개를 포함하는 반도체 웨이퍼 제조용 횡형 확산로
3 3
제 2항에 있어서, 상기 보트 덮개에는 다수의 가스 출입공이 형성된 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 제조용 횡형 확산로
4 4
제 3항에 있어서, 상기 가스 출입공의 직경은 3 내지 5 mm인 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 제조용 횡형 확산로
5 5
제 2항에 있어서, 상기 보트 본체는 웨이퍼 적재용 개구가 형성된 웨이퍼 적재부를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 제조용 횡형 확산로
6 6
제 1항에 있어서, 상기 보트가 상기 반응실에 출입할 때 상기 반응실의 출입구를 열고 닫는 셔터를 더 포함하는 반도체 웨이퍼 제조용 횡형 확산로
7 7
제 1항에 있어서, 상기 지지대는 막대형상의 캔틸레버인 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 제조용 횡형 확산로
8 8
제 1항에 있어서, 상기 가스 주입관은 상기 지지대 내에 형성된 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 제조용 횡형 확산로
9 9
제 8항에 있어서, 상기 지지대 상에는 상기 가스 주입관을 통해 주입된 가스를 상기 가스 출입공으로 제공하기 위한 적어도 하나의 가스 공급공이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 제조용 횡형 확산로
10 10
제 1항에 있어서, 상기 가스 주입구에 주입되는 가스는 질소 가스인 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 제조용 횡형 확산로
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.