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(a) 양각 패턴이 형성된 하부 PDMS(Poly-Dimethal Siloxane) 마스터와, 상부 PDMS 마스터를 준비하는 단계;
(b) 상기 양각 패턴이 형성된 하부 PDMS 마스터 및 상부 PDMS 마스터 상에 액상의 하부 클래드용 에폭시 수지 및 상부 클래드용 에폭시 수지를 각각 도포하는 단계;
(c) 상기 하부 클래드용 에폭시 수지 및 상부 클래드용 에폭시 수지 상에 각각 고분자 필름을 도포한 후, UV(Ultra Violet)를 이용하여 상기 하부 및 상부 클래드용 에폭시 수지와 고분자 필름을 경화하는 단계;
(d) 상기 하부 PDMS 마스터를 제거하여 음각 패턴이 형성된 하부 클래드를 형성하고, 상기 상부 PDMS 마스터를 제거하여 상부 클래드를 형성하는 단계;
(e) 상기 하부 클래드의 음각 패턴 상에 액상의 코어용 에폭시 수지를 도포하는 단계; 및
(f) 상기 하부 클래드용 에폭시 수지 및 상기 상부 클래드용 에폭시 수지가 접촉하도록 상기 하부 클래드 및 상기 상부 클래드를 결합시킨 후, UV를 이용하여 상기 코어용 에폭시 수지를 경화하는 단계
를 포함하는 에폭시 수지를 이용한 광 도파로 제조방법
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제 1항에 있어서,
상기 하부 및 상부 클래드용 에폭시 수지는 굴절률이 동일한
에폭시 수지를 이용한 광 도파로 제조방법
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제 1항에 있어서,
상기 고분자 필름은 150℃ 이상의 유리전이 온도를 가지는 열가소성 고분자인
에폭시 수지를 이용한 광 도파로 제조방법
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4
제 1항에 있어서,
상기 코어용 에폭시 수지는 상기 하부 및 상부 클래드용 에폭시 수지보다 굴절률이 2% 내지 5 % 높은
에폭시 수지를 이용한 광 도파로 제조방법
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5
제 1항에 있어서, 상기 (c)단계는,
상기 하부 및 상부 클래드용 에폭시 수지 중 적어도 하나의 클래드용 에폭시 수지 상에 이형제를 바른 후 상기 고분자 필름을 도포하는 단계
를 포함하는 에폭시 수지를 이용한 광 도파로 제조방법
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(a) 양각 패턴이 형성된 하부 PDMS(Poly-Dimethal Siloxane) 마스터와 상부 PDMS 마스터를 준비하는 단계;
(b) 상기 양각 패턴이 형성된 하부 PDMS 마스터 상에 제 1 클래드용 에폭시 수지를 도포하는 단계;
(c) 상기 제 1 클래드용 에폭시 수지 상에 고분자 필름을 도포하는 단계;
(d) 상기 하부 PDMS 마스터를 제거함으로써 음각 패턴이 형성된 하부 클래드를 형성하는 단계;
(e) 상기 하부 클래드에 형성된 음각 패턴 상에 코어용 에폭시 수지를 도포하는 단계;
(f) 상기 코어용 에폭시 수지가 도포된 하부 클래드 상에 상부 PDMS 마스터를 적층하고 압력을 가하며 UV를 이용하여 상기 코어용 에폭시 수지를 경화하는 단계;
(g) 상기 PDMS 고무를 제거한 후에 상기 하부 클래드 상에 제 2 클래드용 에폭시 수지를 도포하는 단계; 및
(h) 상기 제 2 클래드용 에폭시 수지 상에 고분자 필름을 도포한 후 UV를 이용하여 상기 제 2 클래드용 에폭시 수지와 고분자 필름을 경화하는 단계
를 포함하는 에폭시 수지를 이용한 광 도파로 제조방법
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제 6항에 있어서,
제 1 클래드용 에폭시 수지와 제 2 클래드용 에폭시 수지는 굴절률이 동일한
에폭시 수지를 이용한 광 도파로 제조방법
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제 6항에 있어서,
상기 고분자 필름은 150℃ 이상의 유리전이 온도를 가지는 열가소성 고분자인
에폭시 수지를 이용한 광 도파로 제조방법
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9
제 6항에 있어서,
상기 코어용 에폭시 수지는 상기 하부 및 상부 클래드용 에폭시 수지보다 굴절률이 2% 내지 5 % 높은
에폭시 수지를 이용한 광 도파로 제조방법
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10
제 6항에 있어서,
상기 제 1 및 제 2 클래드용 에폭시 수지 중 적어도 하나의 클래드용 에폭시 수지 상에 이형제를 바른 후 상기 고분자 필름을 도포하는 단계
를 포함하는 에폭시 수지를 이용한 광 도파로 제조방법
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