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아노드 기판의 일면에 형성된 아노드 전극 및 형광체와, 상기 아노드 기판에 대향하는 캐소드 기판의 일면에 형성된 다수의 캐소드 전극 및 전계 방출 에미터와, 상기 아노드 기판과 상기 캐소드 기판 사이에 형성된 게이트 전극을 포함하되,서브 픽셀 혹은 특정 영역별로 상기 다수의 캐소드 전극이 블록화되어 다수의 캐소드 블록을 구성하며,상기 캐소드 기판이 다층으로 형성되어, 상기 각 층의 캐소드 기판상에 상기 각 캐소드 블록과 외부 전극의 연결을 위한 배선이 다층으로 적층되어 배치된 것을 특징으로 하는 미세 로컬 디밍이 가능한 전계 방출 장치
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제 1 항에 있어서, 특정 영역의 미세 로컬 디밍을 위해 상기 특정 영역에 해당하는 캐소드 블록에 전류 제어 신호가 전달된 경우,상기 캐소드 블록의 개별적인 전자빔 조절에 따라 상기 아노드 기판의 특정 영역에서만 발광이 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세 로컬 디밍이 가능한 전계 방출 장치
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제 2 항에 있어서, 상기 캐소드 블록에 포함된 다수의 캐소드 전극을 통해 상기 전계 방출 에미터로부터 방출되는 전자빔의 양이 조절되어 상기 아노드 기판의 특정 영역에서만 발광이 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세 로컬 디밍이 가능한 전계 방출 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 배선은 내부 전극 및 비아홀을 통해 상기 각 층의 캐소드 기판상에 적층되어 배치되는 것을 특징으로 하는 미세 로컬 디밍이 가능한 전계 방출 장치
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제 4 항에 있어서, 상기 각 캐소드 블록에 전달되는 전류 제어 신호가 동일한 타이밍에 도달할 수 있도록 상기 배선의 선폭 및 비아홀의 직경이 변화되는 것을 특징으로 하는 미세 로컬 디밍이 가능한 전계 방출 장치
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제 1 항에 있어서, 저온 동시 소성 세라믹(LTCC), 고온 동시 소성 세라믹(HTCC), 적층 스크린 프린팅 중 어느 하나의 방법에 의해, 상기 캐소드 기판이 다층으로 형성되고 각 캐소드 기판에 배선이 다층으로 배치된 것을 특징으로 하는 미세 로컬 디밍이 가능한 전계 방출 장치
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제 6 항에 있어서, 상기 저온 동시 소성 세라믹(LTCC) 또는 고온 동시 소성 세라믹(HTCC)에 사용된 개별 세라믹 레이어가 진공 실링에 대비한 외부 기판으로 사용되거나, 또는 진공 실링에 적합한 유리 기판에 본딩된 것을 특징으로 하는 미세 로컬 디밍이 가능한 전계 방출 장치
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제 1항에 있어서, 상기 아노드 전극과 상기 게이트 전극 사이에 간격 유지를 위한 스페이서가 형성되고, 상기 게이트 전극과 상기 캐소드 전극 사이에 간격 유지를 위한 스페이스가 형성된 것을 특징으로 하는 미세 로컬 디밍이 가능한 전계 방출 장치
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제 1항에 있어서, 상기 전계 방출 에미터는 카본 나노 튜브, 카본 나노 섬유 및 카본계 합성 물질 중 어느 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는 미세 로컬 디밍이 가능한 전계 방출 장치
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