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다층 전도성 박막의 식각용 조성물 및 이를 이용한 식각 방법

  • 기술번호 : KST2015084114
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 투명산화물층과 금속층이 교차적으로 다층 적층되어 있는 투명 전도막의 식각용 조성물 및 식각 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 식각용 조성물은 과산화수소, 질산, 염산, 황산 및 인산으로 이루어진 군에서 선택된 식각용 산; 산화물층 및 금속층과 동시에 착화합물을 형성할 수 있는 산; 및 물을 포함하며, 식각 방법은 상기 식각용 조성물을 투명산화물층과 금속층이 교차적으로 다층 적층되어 있는 투명 전도막에 분사하여 식각하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따른 식각 방법은 단면 특성이 우수한 패턴을 형성할 수 있다 식각, 다층, 전도성, 박막
Int. CL H01L 21/3063 (2006.01)
CPC H01L 21/32134(2013.01) H01L 21/32134(2013.01) H01L 21/32134(2013.01)
출원번호/일자 1020080081810 (2008.08.21)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0993775-0000 (2010.11.05)
공개번호/일자 10-2009-0105781 (2009.10.07) 문서열기
공고번호/일자 (20101112) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020080030160   |   2008.04.01
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.08.21)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박상희 대한민국 대전광역시 유성구
2 유민기 대한민국 서울특별시 노원구
3 황치선 대한민국 대전광역시 유성구
4 조두희 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 신영무 대한민국 서울특별시 강남구 영동대로 ***(대치동) KT&G타워 *층(에스앤엘파트너스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.08.21 수리 (Accepted) 1-1-2008-0595374-27
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2009.03.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2009.04.14 수리 (Accepted) 9-1-2009-0023925-68
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.03.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0132550-81
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.05.25 수리 (Accepted) 1-1-2010-0332952-10
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.05.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0332973-79
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2010.08.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0373836-74
9 명세서 등 보정서(심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2010.09.27 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2010-0040178-67
10 등록결정서
Decision to grant
2010.11.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0495720-15
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
투명산화물층과 은 또는 은 합금층이 교차적으로 다층 적층되어 있는 투명 전도막의 식각용 조성물에 있어서, 염산 및 인산으로 된 식각용 산; 산화물층 및 금속층과 동시에 착화합물을 형성할 수 있는 포름산, 말론산 및 옥살산으로 이루어진 군에서 일종 이상 선택된 산; 및 물을 포함하는 투명 전도막의 식각용 조성물
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제 1항에 있어서, 상기 식각용 산은 20 내지 60 중량%, 상기 착화합물을 형성하는 산은 10 내지 40 중량% 및 나머지는 물인 조성물
5 5
제 1항에 있어서, 상기 산화물층은 ITO, ZnO, IZO, ZTO, AZTO, AZO 또는 ZnO가 도핑된 ITO인 조성물
6 6
염산 및 인산으로 된 식각용 산; 산화물층 및 금속층과 동시에 착화합물을 형성할 수 있는 포름산, 말론산 및 옥살산으로 이루어진 군에서 일종 이상 선택된 산; 및 물이 혼합된 에천트를 준비하는 단계; 및 투명산화물층과 은 또는 은 합금층이 교차적으로 다층 적층되어 있는 투명 전도막에 상기 에천트를 분사하는 단계를 포함하는 투명 전도막의 식각 방법
7 7
삭제
8 8
삭제
9 9
제 6항에 있어서, 상기 에천트는 식각용 산 20 내지 60중량%, 상기 착화합물을 형성하는 산 10 내지 40 중량% 및 나머지 물인 식각 방법
10 10
제 6항에 있어서, 상기 산화물층은 ITO, ZnO, IZO, ZTO, AZTO, AZO 또는 ZnO가 도핑된 ITO인 식각 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 및 정보통신연구진흥원 한국전자통신연구원 IT원천기술개발 투명전자소자를 이용한 스마트 창