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상부벽, 상기 상부벽과 마주보는 하부벽, 그리고 이들을 연결하는 측벽을 갖는 저장챔버;
상기 저장챔버 내부에 제공되어 이온화된 가스를 저장하는 포집구조물; 및
상기 이온화된 가스의 이동 방향을 변화시키는 전자기장 발생기를 포함하되,
상기 전자기장 발생기는 상기 저장챔버 내부에 자기장(magnetic field)을 발생시키는 자기장 발생기 및 상기 저장챔버 내부에 전기장(electric field)을 발생시키는 전기장 발생기 중 적어도 어느 하나를 포함하는 가스 처리 장치
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제 1 항에 있어서,
상기 자기장 발생기는 상기 측벽에 배치되는 플레이트 형상의 자석을 포함하고,
상기 전기장 발생기는 상기 상부벽 및 상기 하부벽에 배치되는 전극들을 포함하는 가스 처리 장치
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제 1 항에 있어서,
상기 자기장 발생기는 상기 상부벽, 상기 하부벽, 그리고 상기 측벽을 감싸도록 배치되는 코일 형상을 갖고,
상기 전기장 발생기는 상기 상부벽 및 상기 하부벽에 배치되는 전극들을 포함하는 가스 처리 장치
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제 1 항에 있어서,
상기 자기장 발생기는 상기 상부벽 및 상기 하부벽에 배치되는 플레이트 형상의 자석을 갖고,
상기 전기장 발생기는 상기 측벽에 배치되는 전극들을 포함하는 가스 처리 장치
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제 1 항에 있어서,
상기 자기장 발생기는 상기 측벽을 감싸도록 배치되는 코일 형상을 갖고,
상기 전기장 발생기는 상기 측벽에 배치되는 전극들을 포함하는 가스 처리 장치
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제 1 항에 있어서,
가스를 이온화시키는 이온화 유닛을 더 포함하는 가스 처리 장치
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제 6 항에 있어서,
상기 이온화된 가스를 가압하는 가스 가압 유닛을 더 포함하는 가스 처리 장치
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8
제 1 항에 있어서,
상기 저장챔버 내부에서 상기 이온화된 가스를 감속시키는 감속기를 더 포함하되, 상기 감속기는 상기 포집구조물을 냉각시키는 냉각기를 포함하는 가스 처리 장치
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제 8 항에 있어서,
상기 가스 저장 유닛은 상기 포집구조물을 가열하는 가열기를 더 포함하는 가스 처리 장치
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10
내부에 포집구조물이 제공된 저장챔버를 구비하여, 상기 저장챔버에 자기장 및 전기장 중 적어도 어느 하나를 발생시켜, 상기 포집구조물에 이온화된 가스를 저장하는 것을 포함하는 가스 처리 방법
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11
제 10 항에 있어서,
상기 자기장 및 상기 전기장은 상기 이온화된 가스가 상기 저장챔버 내부에서 머무르도록 유도하는 가스 처리 방법
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제 10 항에 있어서,
상기 전기장은 상기 저장챔버로 유입되는 상기 이온화된 가스의 유입 방향으로 제공되고,
상기 자기장은 상기 유입 방향을 교차하는 방향으로 제공되는 가스 처리 방법
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13
제 10 항에 있어서,
상기 전기장은 상기 저장챔버로 유입되는 상기 이온화된 가스의 유입 방향을 교차하는 방향으로 제공되고,
상기 자기장은 상기 유입 방향으로 제공되는 가스 처리 방법
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14
제 10 항에 있어서,
상기 가스를 저장하기 이전에, 가스를 이온화하는 것을 더 포함하는 가스 처리 방법
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제 10 항에 있어서,
상기 저장챔버에 저장된 상기 이온화된 가스를 사용하는 것을 더 포함하되,
상기 이온화된 가스를 사용하는 것은 상기 포집구조물을 가열하는 것을 포함하는 가스 처리 방법
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