1 |
1
물체에서 나온 빛 중 소멸파 성분을 이용하여 상기 물체의 상을 만드는 하이퍼렌즈로서,전면이 오목하게 형성된 주렌즈층; 및상기 주렌즈층을 지지하는 기판층;을 포함하고,상기 주렌즈층의 전면 중앙부는 상기 기판층의 표면에 비해 돌출되게 위치된 돌출형 하이퍼렌즈
|
2 |
2
제1항에 있어서,상기 주렌즈층의 전면 중 가장 돌출된 부위와 상기 주렌즈층의 전면 중앙부의 높이 차이는 상기 주렌즈층의 전면에서 상기 물체를 향해 조사되는 빛의 반 파장 이내인 돌출형 하이퍼렌즈
|
3 |
3
제1항에 있어서,상기 주렌즈층은 전면에서 후면으로 갈수록 단면적이 넓어지는 돌출형 하이퍼렌즈
|
4 |
4
제1항에 있어서,상기 주렌즈층은 유전체 및 금속 박막을 번갈아 적층하여 이루어진 돌출형 하이퍼렌즈
|
5 |
5
제4항에 있어서,상기 유전체 및 금속은 100㎚ 이하의 두께를 갖는 돌출형 하이퍼렌즈
|
6 |
6
제4항에 있어서,상기 유전체는 산화알루미늄(Al2O3)이며 상기 금속은 은(Ag)인 돌출형 하이퍼렌즈
|
7 |
7
물체에서 나온 빛 중 소멸파 성분을 이용하여 상기 물체의 상을 만드는 하이퍼렌즈의 제조방법에 있어서,기판층 및 상기 기판층에 지지되는 오목한 형상의 주렌즈층으로 이루어진 비돌출형 하이퍼렌즈를 형성하는 단계;상기 주렌즈층의 전면 중앙부에 포토 레지스터(Photo resister)를 마스킹(Masking)하는 단계;상기 주렌즈층의 전면 중앙부가 상기 기판층의 표면에 비해 돌출되도록, 상기 마스킹된 부분을 제외한 상기 주렌즈층 및 기판층을 식각하는 단계; 및 마스킹된 상기 포토 레지스터를 제거하는 단계;를 포함하는 돌출형 하이퍼렌즈의 제조방법
|
8 |
8
제7항에 있어서,상기 포토 레지스터를 마스킹하는 단계는:상기 기판층 및 주렌즈층 전면에 포토 레지스터를 도포하는 단계; 및상기 포토 레지스터 중에서 상기 주렌즈층의 중앙부를 제외한 나머지 부분을 제거하는 단계;를 포함하는 돌출형 하이퍼렌즈의 제조방법
|
9 |
9
제8항에 있어서,상기 포토 레지스터를 마스킹하는 단계에서,상기 포토 레지스터 중 제거되지 않는 부분은 상기 주렌즈층의 중앙부로부터 전면을 향해 일정 폭으로 수직 연장된 부분인 돌출형 하이퍼렌즈의 제조방법
|
10 |
10
제9항에 있어서,상기 포토 레지스터 중 제거되지 않는 부분은 상기 주렌즈층의 내측 지름보다 작은 폭을 갖는 돌출형 하이퍼렌즈의 제조방법
|
11 |
11
제7항에 있어서,상기 식각 단계에서, 상기 주렌즈층의 전면 중 가장 돌출된 부위와 상기 주렌즈층의 전면 중앙부의 높이 차이는 상기 주렌즈층의 전면에서 상기 물체를 향해 조사되는 빛의 반 파장 이내인 돌출형 하이퍼렌즈의 제조방법
|
12 |
12
제7항에 있어서,상기 식각 단계에서, 상기 주렌즈층은 전면에서 후면으로 갈수록 단면적이 넓어지도록 상기 주렌즈층의 양측벽이 경사진 돌출형 하이퍼렌즈의 제조방법
|
13 |
13
제7항에 있어서,상기 비돌출형 하이퍼렌즈를 형성하는 단계에서,상기 기판층 전면에 반원통형 또는 반구형 홈을 형성하고, 상기 홈에 상기 주렌즈층을 적층하는 돌출형 하이퍼렌즈의 제조방법
|
14 |
14
제13항에 있어서,상기 비돌출형 하이퍼렌즈를 형성하는 단계에서, 상기 주렌즈층은 유전체 및 금속 박막을 상기 홈의 바닥면에 번갈아 적층하여 이루어진 돌출형 하이퍼렌즈의 제조방법
|
15 |
15
제14항에 있어서,상기 유전체 및 금속은 100㎚ 이하의 두께를 갖는 돌출형 하이퍼렌즈의 제조방법
|
16 |
16
제14항에 있어서,상기 유전체는 산화알루미늄(Al2O3)이며 상기 금속은 은(Ag)인 돌출형 하이퍼렌즈의 제조방법
|