| 1 |
1
반응 가스 주입구를 포함하며, 상기 반응 가스 주입구를 통해 주입된 반응 가스에 의해 실리콘 웨이퍼 기판에 대한 열산화 또는 열확산 공정이 이루어지는 반응실;
상기 반응실의 내부를 가열하는 가열 수단;
수직방향으로 개폐가능하며 그 내부에 다수의 실리콘 웨이퍼 기판이 적재되는 적재 수단;
상기 적재 수단을 수평 방향으로 이동시켜 상기 반응실 내부로 이동시키는 운반 수단; 및
상기 운반 수단에 의해 적재 수단이 반응실 내부로 이동되는 동안 상기 적재 수단의 내부로 질소 가스를 주입하는 질소 가스 주입 수단을 포함하며,
상기 적재수단은
상기 운반 수단에 연결된 상부 및 하부 캔틸레버와,
상기 상부 및 하부 캔틸레버에 고정되며, 그 내부에 실리콘 웨이퍼 기판이 적재되는 상부 및 하부 보트를 포함하여 이루어지고,
상기 상부 캔틸레버 또는 하부 캔틸레버 또는 상부 및 하부 캔틸레버가 수직 방향으로 이동함에 의해 상기 상부 보트 및 하부 보트가 개폐되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 횡형 확산로
|
| 2 |
2
제1항에 있어서, 상기 적재 수단은
상기 반응실 내부에서 주입되는 반응 가스가 균일하게 흐르도록 가스 흐름을 조절하는 가스 조절 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 횡형 확산로
|
| 3 |
3
제2항에 있어서, 상기 가스 조절 수단은
상기 적재수단의 외부에서 내부로 관통하도록 상기 적재수단의 표면에 균일하게 형성되어, 상기 반응실에서 투입된 반응 가스가 적재수단 내부로 균일하게 투입되도록 유도하는 다수의 가스 유출공을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 횡형 확산로
|
| 4 |
4
삭제
|
| 5 |
5
제1항에 있어서, 상기 상부 및 하부 보트는
각각 내부가 비어있으며, 상기 상부 또는 하부 캔틸레버의 상하 이동에 의해 닫히는 경우 서로 맞물려 원통형을 이루는 반원통형의 케이스로 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 횡형 확산로
|
| 6 |
6
제1항에 있어서,
상기 상부 및 하부 보트와 상부 및 하부 캔틸레버는 석영 또는 실리콘카바이드로 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 횡형 확산로
|
| 7 |
7
제1항에 있어서, 상기 질소 가스 주입 수단은
상기 상부 및 하부 캔틸레버와 평행하게 상기 상부 및 하부 보트의 내부로 연결되어, 상기 상부 및 하부 보트의 내부로 질소 가스를 주입하는 상부 및 하부 질소가스 주입관을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 횡형 확산로
|
| 8 |
8
제7항에 있어서, 상기 상부 및 하부 질소가스 주입관은,
석영 또는 실리콘카바이드로 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 횡형 확산로
|
| 9 |
9
제1항에 있어서,
상기 반응실은, 전,후방으로 개방되어 있는 원통형상으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 횡형 확산로
|
| 10 |
10
제9항에 있어서,
상기 반응실은, 내측에 석영관 또는 실리콘카바이드관을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 횡형 확산로
|
