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기판을 수용하는 챔버와;상기 챔버 내에 설치되어 상기 기판에 용액을 제공하는 스프레이 노즐과; 그리고상기 챔버 내에 설치되어 상기 기판을 가열하는 히터를 포함하고,상기 히터는:상기 기판을 가열하는 열원과; 그리고상기 열원에서 발생된 열을 전달받아 상기 기판에 제공하는 히트 스프레더를 포함하고,상기 히트 스프레더는 작용유체의 기체-액체 상변화로 상기 열원에서 발생되어 상기 기판을 전달되는 열을 균일화하는 박막 형성 장치
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제1항에 있어서,상기 스프레이 노즐의 상부에 결합된 높이 조절기를 더 포함하고, 상기 높이 조절기는 상기 스프레이 노즐을 상하 이동시켜 상기 스프레이 노즐과 상기 기판과의 간격을 조정하는 박막 형성 장치
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제1항에 있어서,상기 스프레이 노즐과 상기 기판과의 간격을 측정하는 눈금자를 더 포함하는 박막 형성 장치
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제1항에 있어서,상기 용액은 다수의 용액들을 포함하고,상기 스프레이 노즐은 상기 다수의 용액들의 혼합액을 상기 기판에 제공하거나 혹은 상기 다수의 용액들 각각을 독립적으로 상기 기판에 제공하는 박막 형성 장치
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제5항에 있어서,상기 스프레이 노즐은 상기 다수의 용액들 각각을 상기 기판에 독립적으로 제공하는 다수의 노즐들을 포함하는 박막 형성 장치
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제1항에 있어서,상기 박막의 두께를 인시튜로 측정하는 센서를 더 포함하는 박막 형성 장치
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제1항에 있어서,상기 스프레이 노즐은 회전형 노즐 및 상기 기판과의 간격이 조정되는 높이 가변형 노즐 중 적어도 어느 하나인 박막 형성 장치
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가열된 기판 상에 박막이 형성되는 반응이 일어나는 챔버와;상기 챔버 내에 설치되어 상기 박막 형성에 필요한 용액을 상기 기판에 스프레이하며, 상기 기판과의 간격이 조정되도록 상하 이동 가능한 높이 가변형 제1 노즐과 상기 챔버 내에 설치되어 상기 기판을 세정하는 세정액을 상기 기판에 스프레이하는 제2 노즐을 포함하는 용액 공급부; 그리고상기 제1 노즐을 마주보도록 상기 챔버 내에 설치되어 상기 기판을 지지하며, 상기 기판을 가열하는데 필요한 열을 발생시키는 열원과 상기 열원에서 발생된 열을 균일화하여 상기 기판에 제공하는 히트 스프레더를 포함하는 히터를;포함하는 박막 형성 장치
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제9항에 있어서,상기 용액 공급부는:상기 용액이 저장된 용액통에 연결되고, 상기 제1 노즐에 결합되어 상기 용액통으로부터 상기 제1 노즐로 공급되는 상기 용액의 공급 경로를 제공하는 용액 공급관과; 그리고상기 용액 공급관에 결합되어 상기 용액의 공급량을 제어하는 레귤레이터를;포함하는 박막 형성 장치
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제9항에 있어서,상기 용액은 다수의 용액들을 포함하고,상기 용액 공급부는:상기 다수의 용액들이 따로이 저장된 다수의 용액통들에 연결되고, 상기 다수의 용액들 각각의 공급 경로를 제공하는 다수의 용액 공급관들과; 그리고상기 다수의 용액 공급관들 각각에 결합된 다수의 레귤레이터들을;포함하는 박막 형성 장치
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제11항에 있어서,상기 용액 공급부는 상기 다수의 용액들의 혼합액이 저장된 혼합통으로부터 상기 제1 노즐로 상기 혼합액의 공급 경로를 제공하는 혼합액 공급관을 더 포함하는 박막 형성 장치
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제11항에 있어서,상기 제1 노즐은 상기 다수의 용액 공급관들 각각과 결합되어 상기 다수의 용액들을 독립적으로 상기 기판에 스프레이하는 다수의 스프레이 노즐들을 포함하는 박막 형성 장치
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제9항에 있어서,상기 제2 노즐은 상기 세정액과 함께 혹은 상기 세정액과 별개로 상기 기판을 건조시키는 가스를 상기 기판에 제공하는 박막 형성 장치
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제14항에 있어서,상기 세정액이 저장된 세정액통에 연결되고, 상기 세정액의 상기 제2 노즐로의 공급 경로를 제공하는 세정액 공급관과; 그리고상기 가스가 저장된 가스통에 연결되고, 상기 가스의 상기 제2 노즐로의 공급 경로를 제공하는 제1 가스 공급관을;더 포함하는 박막 형성 장치
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제15항에 있어서,상기 가스통에 연결되고, 상기 가스를 상기 제1 노즐로 공급하는 경로를 제공하는 제2 가스 공급관을 더 포함하고;상기 제1 노즐은 상기 용액 공급부로부터 제공된 상기 용액을 상기 제2 가스 공급관을 통해 제공된 상기 가스에 실어 상기 기판으로 스프레이하는 2액형 노즐인 박막 형성 장치
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제14항에 있어서,상기 챔버는:상기 가스 및 상기 용액에서 발산되는 냄새 중 적어도 어느 하나를 배기하는 배기구와;상기 세정액을 배수하는 배수구와;상기 기판과 동일한 높이로 설치되어 상기 박막의 두께를 상기 반응이 진행되는 동안 인시튜로 측정하는 두께 센서와; 그리고상기 챔버의 내부 온도를 측정하는 온도 센서를;포함하는 박막 형성 장치
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열분해 반응으로 기판 상에 박막을 형성하는 공간을 제공하는 반응 챔버와;상기 반응 챔버의 내부 상부에 설치되어, 상기 박막을 구성하는 성분을 포함하는 액상 케미컬을 상기 기판에 제공하는 스프레이 노즐과; 그리고상기 반응 챔버의 내부 하부에 설치되어 상기 기판을 지지하며, 상기 열분해 반응에 필요한 열을 발생시키고, 상기 열을 기액 상변화를 통해 균일화하여 상기 기판에 제공하는 히트 스프레더 구조의 평판형 히터를;포함하는 박막 형성 장치
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제18항에 있어서,상기 액상 케미컬은 다종의 액상 케미컬들을 포함하고,상기 다종의 액상 케미컬들은 상기 스프레이 노즐로 제공되기 이전에 혼합되어 상기 스프레이 노즐을 통해 상기 기판에 스프레이되거나, 혹은상기 다종의 액상 케미컬들 각각은 상기 스프레이 노즐로 각각 제공되어 상기 스프레이 노즐을 통해 상기 기판에 독립적으로 스프레이되는 박막 형성 장치
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제18항에 있어서,상기 박막은 CdS, ZnS 혹은 이들의 조합을 포함하는 태양전지의 버퍼층인 박막 형성 장치
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