맞춤기술찾기

이전대상기술

단일 기판 집적 회로 장치 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015085948
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 단일 기판 집적 회로 장치 및 그 제조 방법을 제공한다. 본 방법은 기판 상에 이종 접합 바이폴라 트랜지스터를 형성하고, 제 1 금속으로 이종 접합 바이폴라 트랜지스터의 배선을 형성하고 이종 접합 바이폴라 트랜지스터로부터 이격된 기판 상에 커패시터의 하부 전극을 형성하고, 기판 상에 이종 접합 바이폴라 트랜지스터 및 하부 전극을 덮는 제 1 절연막을 형성하고, 제 2 금속으로 제 1 절연막 상에 커패시터의 상부 전극을 형성하고 커패시터로부터 이격된 기판 상에 저항 패턴을 형성한다. 상부 전극의 가장자리는 하부 전극의 가장자리로부터 이격된다.MMIC, HBT, 커패시터, 저항, 컬렉터, 리프트 오프
Int. CL H01L 29/737 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020090121660 (2009.12.09)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-1275724-0000 (2013.06.11)
공개번호/일자 10-2011-0064889 (2011.06.15) 문서열기
공고번호/일자 (20130617) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.12.09)
심사청구항수 21

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이종민 대한민국 대전광역시 서구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 오세준 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)(특허법인 고려)
2 권혁수 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(삼일빌딩, 역삼동)(KS고려국제특허법률사무소)
3 송윤호 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 *** (역삼동) *층(삼일빌딩)(케이에스고려국제특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.12.09 수리 (Accepted) 1-1-2009-0759483-32
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.12.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0758163-09
3 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.02.13 수리 (Accepted) 1-1-2013-0129749-55
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.02.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0129747-64
5 등록결정서
Decision to grant
2013.06.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0390914-95
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판 상에 이종 접합 바이폴라 트랜지스터를 형성하는 것;제 1 금속으로, 상기 이종 접합 바이폴라 트랜지스터의 배선을 형성하고 상기 이종 접합 바이폴라 트랜지스터로부터 이격된 상기 기판 상에 커패시터의 하부 전극을 형성하는 것;상기 기판 상에 상기 이종 접합 바이폴라 트랜지스터 및 상기 하부 전극을 덮는 제 1 절연막을 형성하는 것; 및제 2 금속으로, 상기 제 1 절연막 상에 상기 커패시터의 상부 전극을 형성하고 상기 커패시터로부터 이격된 상기 기판 상에 저항 패턴을 형성하는 것을 포함하고,상기 상부 전극의 폭은 상기 하부 전극의 폭보다 작고,상기 상부 전극의 가장자리는 상기 하부 전극의 가장자리로부터 수평적으로 이격되고,상기 상부 전극은 상기 하부 전극 상부의 가장자리를 노출하는 단일 기판 집적 회로 장치의 제조 방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 상부 전극의 면적은 상기 하부 전극의 면적 보다 작은 단일 기판 집적 회로 장치의 제조 방법
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 상부 전극 상에 제 2 절연막을 형성하는 것;상기 제 2 절연막을 패터닝하여 상기 상부 전극의 상면을 노출하는 것; 및제 3 금속으로, 상기 상부 전극 상에 커패시터 배선을 형성하고 상기 저항 패턴 상에 저항 패턴 배선을 형성하는 것을 더 포함하는 단일 기판 집적 회로 장치의 제조 방법
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 이종 접합 바이폴라 트랜지스터를 형성하는 것은:상기 기판 상에 예비 부 컬렉터층, 예비 컬렉터층, 예비 베이스층, 예비 이미터층 및 예비 이미터 캡층을 순차적으로 형성하는 것; 및 상기 예비 부 컬렉터층, 상기 예비 컬렉터층, 상기 예비 베이스층, 상기 예비 이미터층 및 상기 예비 이미터 캡층을 패터닝하여 부 컬렉터층, 컬렉터층, 베이스층, 이미터층 및 이미터 캡층을 형성하는 것을 포함하는 단일 기판 집적 회로 장치의 제조 방법
5 5
제 4 항에 있어서, 상기 부 컬렉터층, 상기 베이스층 및 상기 이미터 캡층 상에 각각 컬렉터 전극, 베이스 전극 및 이미터 전극을 형성하는 것을 포함하는 단일 기판 집적 회로 장치의 제조 방법
6 6
제 5 항에 있어서, 상기 컬렉터 전극, 상기 베이스 전극 및 상기 이미터 전극을 형성하는 것은 리프트 오프(lift off) 공정으로 수행되는 단일 기판 집적 회로 장치의 제조 방법
7 7
제 5 항에 있어서, 상기 컬렉터 전극, 상기 베이스 전극 및 상기 이미터 전극을 형성한 후, 상기 컬렉터 전극, 상기 베이스 전극 및 상기 이미터 전극을 덮는 제 3 절연막을 콘포멀하게 형성하는 것을 더 포함하는 단일 기판 집적 회로 장치의 제조 방법
8 8
제 7 항에 있어서, 상기 제 3 절연막에 비아홀을 형성하여 상기 컬렉터 전극, 상기 베이스 전극 및 상기 이미터 전극의 상면의 적어도 일부를 노출하는 것을 더 포함하는 단일 기판 집적 회로 장치의 제조 방법
9 9
제 1 항에 있어서, 제 1 금속으로 상기 이종 접합 바이폴라 트랜지스터의 배선을 형성하고 상기 이종 접합 바이폴라 트랜지스터로부터 이격된 상기 기판 상에 커패시터의 하부 전극을 형성하는 것, 및 제 2 금속으로 상기 제 1 절연막 상에 상기 커패시터의 상부 전극을 형성하고 상기 커패시터로부터 이격된 상기 기판 상에 저항 패턴을 형성하는 것은 리프트 오프(lift off) 공정으로 수행되는 단일 기판 집적 회로 장치의 제조 방법
10 10
제 1 항에 있어서, 상기 상부 전극은 상기 하부 전극의 두께 보다 얇게 형성되는 단일 기판 집적 회로 장치의 제조 방법
11 11
기판 상에 제공되는 이종 접합 바이폴라 트랜지스터;상기 기판 상에서 상기 이종 접합 바이폴라 트랜지스터로부터 이격되고, 하부 전극, 제 1 절연막 및 상부 전극을 포함하는 커패시터; 및상기 기판 상에서 상기 커패시터로부터 이격되는 저항 패턴을 포함하고, 상기 이종 접합 바이 폴라 트랜지스터의 배선과 상기 하부 전극은 동일 물질이고, 상기 상부 전극 및 상기 저항 패턴은 동일 물질이고, 상기 상부 전극의 폭은 상기 하부 전극의 폭보다 작고,상기 상부 전극의 가장자리는 상기 하부 전극의 가장자리로부터 이격되고,상기 상부 전극은 상기 하부 전극 상부의 가장자리를 노출하는 단일 기판 집적 회로 장치
12 12
제 11 항에 있어서, 상기 상부 전극의 면적은 상기 하부 전극의 면적 보다 작은 단일 기판 집적 회로 장치
13 13
제 11 항에 있어서, 상기 제 1 절연막 상에 제공되는 제 2 절연 패턴을 더 포함하는 단일 기판 집적 회로 장치
14 14
제 13 항에 있어서, 상기 제 2 절연 패턴은 상기 상부 전극 및 상기 저항 패턴의 상면의 적어도 일부를 노출하는 단일 기판 집적 회로 장치
15 15
제 14 항에 있어서, 상기 상부 전극 상에 제공되는 커패시터 배선 및 상기 저항 패턴 상에 제공되는 저항 패턴 배선을 더 포함하는 단일 기판 집적 회로 장치
16 16
제 15 항에 있어서, 상기 커패시터 배선 및 상기 저항 패턴 배선은 동일 물질인 단일 기판 집적 회로 장치
17 17
제 11 항에 있어서, 상기 이종 접합 바이폴라 트랜지스터는 기판 상에 순차적으로 형성된 부 컬렉터층, 컬렉터층, 베이스층, 이미터층 및 이미터 캡층을 포함하는 단일 기판 집적 회로 장치
18 18
제 17 항에 있어서, 상기 부 컬렉터층, 상기 베이스층 및 상기 이미터 캡층 상에 각각 제공되는 컬렉터 전극, 베이스 전극 및 이미터 전극을 포함하는 단일 기판 집적 회로 장치
19 19
제 11 항에 있어서, 상기 제 1 절연막은 상기 기판 상에 콘포멀하게 제공되는 단일 기판 집적 회로 장치
20 20
제 19 항에 있어서, 상기 기판과 상기 제 1 절연막 사이에 제 3 절연막을 더 포함하는 단일 기판 집적 회로 장치
21 21
제 11 항에 있어서, 상기 상부 전극의 가장자리 전부는 상기 하부 전극의 가장자리로부터 내측으로 이격되어 상기 하부 전극의 가장자리를 노출하는 단일 기판 집적 회로 장치
지정국 정보가 없습니다
순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - 패밀리정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US08343843 US 미국 FAMILY
2 US20110133250 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - DOCDB 패밀리 정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2011133250 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US8343843 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.