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볼로미터용 저항재료, 이를 이용한 적외선 검출기용 볼로미터, 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015086139
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 볼로미터용 저항재료, 이를 이용한 적외선 검출기용 볼로미터, 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 볼로미터용 저항재료는 안티몬(Sb)에 질소(N), 산소(O) 및 저마늄(Ge)으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 원소가 포함된 것이며, 이와 같은 저항재료는 우수한 특성, 즉, 높은 TCR, 낮은 비저항 및 낮은 잡음 상수을 갖고 있으며, CMOS 공정에서 일반적으로 사용하는 스퍼터링법을 통해 용이하게 박막으로 제조되어 비냉각형 적외선 검출기의 볼로미터에 저항체로서 이용될 수 있어, 적외선 검출기에 우수한 온도정밀도를 갖게 할 수 있다.
Int. CL H01L 27/14 (2006.01) H01L 31/09 (2006.01) G01J 5/02 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020100026290 (2010.03.24)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0983818-0000 (2010.09.16)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20100927) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020090082675   |   2009.09.02
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.03.24)
심사청구항수 19

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 양우석 대한민국 대전 서구
2 전상훈 대한민국 대전시 유성구
3 조성목 대한민국 대전시 유성구
4 류호준 대한민국 서울시 노원구
5 최창억 대한민국 대전시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 신영무 대한민국 서울특별시 강남구 영동대로 ***(대치동) KT&G타워 *층(에스앤엘파트너스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.03.24 수리 (Accepted) 1-1-2010-0186412-41
2 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2010.03.31 수리 (Accepted) 1-1-2010-0205024-20
3 [우선심사신청]선행기술조사의뢰서
[Request for Preferential Examination] Request for Prior Art Search		 2010.04.01 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search		 2010.04.08 수리 (Accepted) 9-1-2010-0020199-15
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2010.05.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0219458-40
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2010.07.01 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0427456-81
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2010.07.01 수리 (Accepted) 1-1-2010-0427447-70
8 등록결정서
Decision to grant		 2010.09.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0408498-44
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
안티몬(Sb)에 질소(N), 산소(O) 및 저마늄(Ge)으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 원소가 포함된 볼로미터용 저항재료
2 2
제1항에 있어서, 안티몬이 20 at% 이상의 범위 내에서 포함되는 것인 볼로미터용 저항재료
3 3
제1항에 있어서,상기 저항재료는 SbNx(0
4 4
제1항에 있어서,상기 저항재료는 SbOy(0
5 5
제1항에 있어서,상기 저항재료는 SbNxOy(0
6 6
제1항에 있어서,상기 저항재료는 GexSb(0
7 7
제1항에 있어서,상기 저항재료에는 전이금속이 0at%보다는 많지만 30at% 이하로 더 포함되는 것인 볼로미터용 저항재료
8 8
제7항에 있어서,상기 전이금속으로는 티타늄(Ti), 지르코늄(Zr), 하프늄(Hf), 바나듐(V), 니오븀(Nb), 탄탈륨(Ta), 크롬(Cr), 몰리브데늄(Mo), 텅스텐(W), 망간(Mn), 철(Fe) 및 코발트(Co)로 이루어진 군에서 하나 이상 선택되는 것인 볼로미터용 저항재료
9 9
적외선 검출기용 볼로미터에 있어서,제1항 내지 제8항중 어느 하나의 항에 따른 볼로미터용 저항재료로부터 형성된 저항체를 포함하는 것을 특징으로 하는 적외선 검출기용 볼로미터
10 10
제9항에 있어서,상기 저항체는 저항이 0
11 11
제9항에 있어서,상기 저항체는 50 내지 100 ㎚의 두께의 박막인 적외선 검출기용 볼로미터
12 12
제9항에 있어서, 상기 볼로미터는 내부에 검출회로를 포함하는 반도체 기판과; 상기 반도체 기판 표면의 일부 영역에 형성된 반사막과; 상기 반사막의 양측에 소정 간격 이격되어 형성된 금속패드와; 상기 반사막의 표면으로부터 이격되어 상기 반도체 기판의 상부에 위치하는 저항체를 포함하는 센서 구조체를 포함하는 것인 적외선 검출기용 볼로미터
13 13
제12항에 있어서,상기 센서 구조체는 보호막으로 둘러싸인 저항체를 포함한 적층체이며, 상기 반사막 상부에 위치하는 몸통부와, 상기 몸통부의 바깥 쪽에 상기 금속패드에 기계적 및 전기적으로 연결되는 고정부와, 몸통부와 고정부를 연결하는 지지팔을 포함하는 것인 적외선 검출기용 볼로미터
14 14
제12항에 있어서,상기 센서구조체는 저항체의 상·하부에는 보호막, 전극 및 흡수층이 포함되는 것인 적외선 검출기용 볼로미터
15 15
제14항에 있어서, 상기 보호막은 질화실리콘(Si3N4)인 적외선 검출기용 볼로미터
16 16
제14항에 있어서, 상기 전극과 흡수층은 티타늄 질화물(TiN)인 적외선 검출기용 볼로미터
17 17
적외선 검출기용 볼로미터를 제조하는 방법에 있어서,제1항 내지 제8항중 어느 하나의 항에 따른 볼로미터용 저항재료로부터 스퍼터링법을 통해 박막의 형태로 저항체를 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 적외선 검출기용 볼로미터의 제조방법
18 18
제17항에 있어서, 상기 볼로미터의 제조방법은내부에 검출회로가 형성된 반도체 기판 표면의 일부 영역에 반사막을 형성하고, 상기 반사막의 양측에서 소정 간격 이격하여 금속패드를 형성하는 단계; 상기 반사막과 금속패드를 포함하는 반도체 기판의 전면에 소정 두께의 희생층을 형성하는 단계; 상기 희생층의 상부에 저항체를 포함하는 센서 구조체를 형성하는 단계; 및상기 희생층을 제거하는 단계를 포함하는 적외선 검출기용 볼로미터의 제조방법
19 19
제17항에 있어서,상기 스퍼터링법은 직류(DC) 또는 초고주파(RF) 전원을 인가하는 반응성 스프터링 또는 독립된 타겟을 사용하는 코스퍼터링(co-sputtering)인 적외선 검출기용 볼로미터의 제조방법
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 EP02293034 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
2 EP02293034 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
3 JP05416058 JP 일본 FAMILY
4 JP23054974 JP 일본 FAMILY
5 US08143579 US 미국 FAMILY
6 US20110049366 US 미국 FAMILY

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2 EP2293034 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
3 JP2011054974 JP 일본 DOCDBFAMILY
4 JP5416058 JP 일본 DOCDBFAMILY
5 US2011049366 US 미국 DOCDBFAMILY
6 US8143579 US 미국 DOCDBFAMILY
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1 지식경제부 한국전자통신연구원 IT원천기술개발 유비쿼터스용 CMOS 기반 MEMS 복합센서 기술개발