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이미지 센서 및 그의 제조방법

기술번호 : KST2015086161
담당센터 : 대전기술혁신센터
전화번호 : 042-610-2279

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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약	본 발명은 혼색 현상과 에너지 손실을 줄일 수 있는 이미지 센서 및 그의 제조방법을 개시한다. 그의 센서는 광전 변환 소자와, 상기 광전 변환 소자 상에 형성된 광 도파로 층과, 상기 광 도파로 층 상에서 노출되는 상부 마이크로 렌즈와, 상기 상부 마이크로 렌즈를 통해 상기 광전 변환 소자에 진행되는 빛의 구면 수차 및 색 수차를 보정하기 위해 상기 상부 마이크로 렌즈와 상기 광 도파로 층 사이에 매립된 적어도 하나의 하부 마이크로 렌즈를 포함한다.
Int. CL	H01L 27/146 (2006.01)
CPC	H01L 27/14625(2013.01) H01L 27/14625(2013.01) H01L 27/14625(2013.01)
출원번호/일자	1020100063899 (2010.07.02)
출원인	한국전자통신연구원
등록번호/일자	10-1410957-0000 (2014.06.17)
공개번호/일자	10-2012-0003182 (2012.01.10) 문서열기
공고번호/일자	(20140625) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태	소멸
심사진행상태	수리
심판사항
구분	신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자	Y (2010.07.02)
심사청구항수	14

출원인

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번호	이름	국적	주소
1	한국전자통신연구원	대한민국	대전광역시 유성구

발명자

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번호	이름	국적	주소
1	엄두승	대한민국	서울특별시 성동구
2	김상협	대한민국	대전광역시 서구
3	정명애	대한민국	대전광역시 유성구

대리인

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번호	이름	국적	주소
1	오세준	대한민국	서울특별시 강남구 테헤란로 길 * *층(역삼동)(특허법인 고려)
2	권혁수	대한민국	서울특별시 강남구 언주로 **, 층(삼일빌딩, 역삼동)(KS고려국제특허법률사무소)
3	송윤호	대한민국	서울특별시 강남구 언주로 *** (역삼동) *층(삼일빌딩)(케이에스고려국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호	이름	국적	주소
1	한국전자통신연구원		대전광역시 유성구

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application	2010.07.02	수리 (Accepted)	1-1-2010-0430130-84
2	보정요구서 Request for Amendment	2010.07.13	발송처리완료 (Completion of Transmission)	1-5-2010-0061791-70
3	[출원서등 보정]보정서(납부자번호) [Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)	2010.07.14	수리 (Accepted)	1-1-2010-0449395-09
4	선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search	2013.07.03	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
5	심사처리보류(연기)보고서 Report of Deferment (Postponement) of Processing of Examination	2013.09.29	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-6-2013-0019630-44
6	선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search	2013.10.17	수리 (Accepted)	9-1-2013-0088560-81
7	의견제출통지서 Notification of reason for refusal	2013.10.31	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2013-0753142-13
8	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)	2013.12.17	수리 (Accepted)	1-1-2013-1154983-32
9	[명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment	2013.12.17	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2013-1154982-97
10	등록결정서 Decision to grant	2014.04.23	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2014-0277304-15
11	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2015.02.02	수리 (Accepted)	4-1-2015-0006137-44

번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호	청구항
1	1 삭제
2	2 삭제
3	3 삭제
4	4 삭제
5	5 기판;상기 기판에 형성된 광전 변환 소자;상기 광전 변환 소자의 주변 상에 형성된 적어도 하나의 배선 층들과 층간 절연막들; 상기 배선 층들과 상기 층간 절연막들에 둘러싸여 상기 광전 변환 소자 상에 중첩된 광 도파로 층;상기 광 도파로 층과, 상기 배선 층들과, 상기 층간 절연막들 상부에서 형성된 상부 마이크로 렌즈; 및상기 상부 마이크로 렌즈와 상기 광 도파로 층 사이에 배치되어, 상기 상부 마이크로 렌즈를 통해 상기 광전 변환 소자에 진행되는 빛의 구면 수차 및 색 수차를 보정하는 적어도 하나의 하부 마이크로 렌즈를 포함하되,상기 하부 마이크로 렌즈는 상기 배선 층들 및 상기 층간 절연막들 사이에 둘러싸인 오목 렌즈를 포함하는 이미지 센서
6	6 삭제
7	7 제 5 항에 있어서,상기 오목 렌즈 상에 평탄하게 형성되는 평탄 층을 더 포함하는 이미지 센서
8	8 제 7 항에 있어서,상기 평탄 층과 상기 상부 마이크로 렌즈 사이에 형성된 컬러 필터 층을 더 포함하는 이미지 센서
9	9 기판에 광전 변환 소자를 형성하는 단계;상기 광전 변환 소자 상에 광 도파로 층을 형성하는 단계;상기 광 도파로 층 상에 적어도 하나의 하부 마이크로 렌즈를 형성하는 단계; 및상기 하부 마이크로 렌즈 상에 상부 마이크로 렌즈를 형성하는 단계;를 포함하되,상기 하부 마이크로 렌즈의 형성 단계는,상기 광 도파로 층 상에서 제 1 곡면을 갖는 제 1 희생 마스크 층을 형성하는 단계;상기 제 1 곡면을 유지한 채로 상기 제 1 희생 마스크 층을 제거하고, 상기 광 도파로 층의 상부 표면까지 제거하는 단계;상기 광 도파로 층 상에 투과 층을 형성하는 단계;상기 투과 층 상에 제 2 곡면을 갖는 제 2 희생 마스크 층을 형성하는 단계; 및상기 제 2 곡면을 유지한 채로 상기 제 2 희생 마스크 층을 제거하고, 상기 제 2 곡면이 상기 제 1 곡면에 근접하기 전까지 상기 투과 층을 제거하는 단계;를 포함하는 이미지 센서의 제조방법
10	10 삭제
11	11 제 9 항에 있어서,상기 제 1 곡면은 상부로 볼록한 모양을 포함하고, 상기 제 2 곡면은 하부로 볼록한 모양을 포함하는 이미지 센서의 제조방법
12	12 제 9 항에 있어서,상기 광 도파로 층 상의 상기 투과 층을 화학적 기계적 평탄화 방법으로 평탄하게 제거하는 단계를 더 포함하는 이미지 센서의 제조방법
13	13 제 9 항에 있어서,상기 제 1 희생 마스크 층과 상기 제 2 희생 마스크 층은 상기 광 도파로 층과 상기 투과 층 상에 임프린트 되는 이미지 센서의 제조방법
14	14 제 9 항에 있어서,상기 제 1 희생 마스크 층과 상기 제 2 희생 마스크 층은 포토레지스트를 포함하는 이미지 센서의 제조방법
15	15 제 9 항에 있어서,상기 제 1 희생 마스크 층 및 상기 광 도파로 층과, 상기 제 2 희생 마스크 층 및 상기 투과 층은 각각 서로 동일한 식각율을 갖는 식각가스를 사용하는 건식식각방법으로 제거되는 이미지 센서의 제조방법
16	16 제 9 항에 있어서,상기 투과 층은 상기 광 도파로 층보다 굴절률이 높은 투명 재질을 포함하는 이미지 센서의 제조방법
17	17 제 9 항에 있어서,상기 광 도파로 층의 형성 이전에 상기 광전 변환 소자의 가장자리에 적어도 하나의 배선 층들을 형성하는 단계;상기 배선 층들을 전기적으로 절연하는 적어도 하나의 층간 절연막들을 상기 기판 상에 형성하는 단계; 및상기 광전 변환 소자 상부의 층간 절연막들을 제거하는 단계를 더 포함하는 이미지 센서의 제조방법
18	18 제 9 항에 있어서,상기 하부 마이크로 렌즈와 상기 상부 마이크로 렌즈 사이에 컬러 필터 층을 형성하는 단계를 더 포함하는 이미지 센서의 제조방법
19	19 제 18 항에 있어서,상기 하부 마이크로 렌즈와 상기 컬러 필터 층 사이에 평탄 층을 형성하는 단계를 더 포함하는 이미지 센서의 제조방법
20	20 제 18 항에 있어서,상기 컬러 필터 층 상에 평탄 층을 형성하는 단계를 더 포함하는 이미지 센서의 제조방법

본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.

이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 특허 등록번호 표입니다.
특허 등록번호	10-1410957-0000

권리란

표시번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 권리란 표입니다.
표시번호	사항
1	출원 연월일 : 20100702 출원 번호 : 1020100063899 공고 연월일 : 20140625 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20140423 청구범위의 항수 : 14 유별 : H01L 27/146 발명의 명칭 : 이미지 센서 및 그의 제조방법 존속기간(예정)만료일 : 20170618

특허권자란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 특허권자란 표입니다.
순위번호	사항
1	(권리자) 한국전자통신연구원 대전광역시 유성구...

등록료란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 등록료란 표입니다.
제 1 - 3 년분	금 액	295,500 원	2014년 06월 18일	납입

본 '원본보기 서비스'는 참고용이므로, 일부 오류 및 누락이 발생할 수 있습니다.
정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송번호의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 통합행정정보 > 등록료란 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서	2010.07.02	수리 (Accepted)	1-1-2010-0430130-84
2	보정요구서	2010.07.13	발송처리완료 (Completion of Transmission)	1-5-2010-0061791-70
3	[출원서등 보정]보정서(납부자번호)	2010.07.14	수리 (Accepted)	1-1-2010-0449395-09
4	선행기술조사의뢰서	2013.07.03	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
5	심사처리보류(연기)보고서	2013.09.29	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-6-2013-0019630-44
6	선행기술조사보고서	2013.10.17	수리 (Accepted)	9-1-2013-0088560-81
7	의견제출통지서	2013.10.31	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2013-0753142-13
8	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서	2013.12.17	수리 (Accepted)	1-1-2013-1154983-32
9	[명세서등 보정]보정서	2013.12.17	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2013-1154982-97
10	등록결정서	2014.04.23	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2014-0277304-15
11	출원인정보변경(경정)신고서	2015.02.02	수리 (Accepted)	4-1-2015-0006137-44


과제고유번호	1345137935
세부과제번호	2010-50221
연구과제명	시각 생체 모방 소자 및 인지 시스템 기술 개발
성과구분	출원
부처명	교육과학기술부
연구관리전문기관명	한국연구재단
연구주관기관명	한국전자통신연구원
성과제출연도	2010
연구기간	200907~201406
기여율	1
연구개발단계명	기초연구
6T분류명	IT(정보기술)

특허성과

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