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배면 전극이 형성된 기판을 준비하는 단계;인듐 증착 가스 분위기를 제공하는 단계; 및상기 인듐 증착 가스 분위기 하에서, 금속 타겟을 스퍼터링하여 상기 배면 전극 상에 CIGS 박막을 형성하는 단계를 포함하되,상기 스퍼터링 공정 동안, 상기 금속 타겟으로부터 스퍼터링된 입자들은 상기 인듐 증착 가스 분위기로부터 얻어진 인듐과 반응하는 화합물 반도체 태양전지의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 금속 타겟은 구리, 구리/갈륨 또는 구리/갈륨/셀레늄 중 어느 하나인 화합물 반도체 태양전지의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 인듐 증착 가스는 금속 인듐을 10A/sec 내지 100A/sec의 유량(flux)으로 흘려보내면서 700℃ 내지 1000℃의 온도로 가열하여 발생된 가스 또는 유기금속 인듐을 30℃ 내지 100℃의 온도로 가열하여 발생된 가스를 사용하는 화합물 반도체 태양전지의 제조방법
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제 3 항에 있어서,상기 유기금속 인듐은 트리메틸인듐(Trimethyl Indium)인 화합물 반도체 태양전지의 제조방법
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제 3 항에 있어서,상기 인듐 증착 가스는 상기 CIGS 박막이 형성되는 반응기의 내부에서 상기 금속 인듐 또는 상기 유기금속 인듐을 가열하여 공급하는 화합물 반도체 태양전지의 제조방법
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제 3 항에 있어서,상기 인듐 증착 가스는 상기 CIGS 박막이 형성되는 반응기의 외부에서 상기 금속 인듐 또는 상기 유기금속 인듐을 가열하여 인듐 가스를 발생시킨 후 이송가스를 이용하여 상기 인듐 가스를 유도관을 통해 공급하는 화합물 반도체 태양전지의 제조방법
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제 2 항에 있어서,상기 구리 또는 구리/갈륨의 금속 타겟 사용 시, 상기 CIGS 박막이 형성되는 반응기의 내부에는 별도의 셀레늄 공급 장치를 통해 셀레늄을 공급하는 화합물 반도체 태양전지의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 스퍼터링은 350℃ 내지 550℃의 기판온도에서 수행하는 화합물 반도체 태양전지의 제조방법
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제 2 항에 있어서,상기 구리/갈륨 또는 구리/갈륨/셀레늄에 포함되는 갈륨의 함량은 전체 함량의 20atom% 내지 30atom%를 차지하는 화합물 반도체 태양전지의 제조방법
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