| 1 |
1
광을 조사하는 광원;상기 광원으로부터 조사된 광을 변조시키는 광 변조기;상기 광 변조기에 의해 변조된 광을 집광시켜 광학매체로 입사시키는 위한 광학계;상기 광학매체가 위치하는 스테이지;상기 광학매체에서 반사되는 광의 패턴을 검출하는 광 검출부; 그리고,상기 광 검출부에서 검출된 상기 광의 패턴을 분석하여 상기 광학계 또는 상기 스테이지의 위치를 제어하는 제어부;를 포함하는 광 정보 처리장치
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 광 검출부는 제1 위치 및 제2 위치에서 상기 광의 패턴을 각각 검출하고, 상기 제어부는 상기 제1 위치에서의 광의 패턴과 상기 제2 위치에서의 광의 패턴의 위치, 크기 또는 광의 세기 분포를 비교하여 상기 광학계 또는 상기 스테이지의 위치를 제어하고,상기 제1 위치와 상기 제2 위치는 상기 광학계의 위치 또는 상기 스테이지의 위치가 상이한 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치
|
| 3 |
3
제2항에 있어서,상기 제2 위치는 상기 제1 위치로부터 상기 스테이지가 광축 방향으로 기 설정된 간격만큼 이격된 위치인 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치
|
| 4 |
4
제3항에 있어서,상기 제어부는 상기 광 검출부에서 검출된 상기 제1 위치에서의 광의 패턴과 상기 제2 위치의 광이 패턴의 중심이 일치하면 상기 스테이지의 광축 방향 정렬이 일치하는 것으로 판단하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치
|
| 5 |
5
제3항에 있어서,상기 제어부는 상기 광 검출부에서 검출된 상기 제1 위치에서의 광의 패턴과 상기 제2 위치의 광의 패턴의 중심의 위치, 각 패턴에서 기 설정된 특징점의 위치 변화량을 분석하여, 상기 스테이지의 틸팅(tilting) 여부를 판단하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치
|
| 6 |
6
제2항에 있어서,상기 광학계를 구성하는 복수개의 광학 소자 중 적어도 하나의 위치를 제어할 수 있는 제1 위치조절부 및 상기 스테이지의 경사각을 조절할 수 있는 제2 위치조절부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치
|
| 7 |
7
제6항에 있어서,상기 제어부는 상기 제1 위치조절부 및 상기 제2 위치조절부를 제어하여, 상기 광학매체로 조사되는 광의 초점 위치, 스팟 사이즈(spot size), 조사 각도 또는 광의 세기 분포 중 적어도 어느 하나를 제어하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치
|
| 8 |
8
제3항에 있어서,상기 광원으로부터 입사되는 광은 상기 광 변환부 방향으로 반사시키고, 상기 광 변환부로부터 입사되는 광은 상기 광학계 방향으로 통과시키는 제1 편광 빔스플리터 및 상기 광학매체로 입사되는 광은 통과시키고 상기 광학매체로부터 반사되어 입사되는 광은 상기 광 검출부 방향으로 반사시키는 제2 편광 빔 스플리터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치
|
| 9 |
9
제1항에 있어서,상기 광원은 서로 다른 파장을 갖는 적어도 두 개의 광을 생성할 수 있도록 구성되며, 상기 제어부는 각 파장의 광에 의해 상기 광 검출부에서 검출되는 각각의 광 패턴을 분석하여 각 파장에 따른 보정 좌표를 산출하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치
|
| 10 |
10
제1항에 있어서,상기 광학매체로 기준광을 조사하는 기준광 조사부를 더 포함하고, 상기 제어부는 상기 기준광에 의해 형성되는 광 패턴의 형상을 이용하여 상기 기준광의 조사 각도를 산출하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치
|
| 11 |
11
광 변조기를 통해 변조된 광을 광학계를 통해 광학매체로 조사하는 광 조사 단계;상기 광학매체로부터 반사된 광의 패턴을 검출하는 광 패턴 검출 단계;상기 광 패턴 검출 단계에서 검출된 광의 패턴을 분석하는 분석 단계;상기 분석 단계에서 분석된 정보에 따라 상기 광학계 또는 상기 광학매체의 위치를 조절하는 위치 조절 단계;를 포함하는 광 정보 처리장치의 제어방법
|
| 12 |
12
제11항에 있어서, 상기 광 패턴 검출 단계는 제1 위치에서 상기 광학매체로부터 반사된 광의 패턴을 검출하는 제1 검출 단계 및 제2 위치에서 상기 광학매체로부터 반사된 광의 패턴을 검출하는 제2 검출 단계를 포함하고,상기 제1 위치와 상기 제2 위치는 상기 광학계 또는 상기 광학매체 중 어느 하나의 위치가 상이한 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치의 제어방법
|
| 13 |
13
제12항에 있어서,상기 제2 검출 단계는 상기 제1 검출 단계에 비해 상기 광학매체가 광의 진행 방향으로 기 설정된 간격만큼 이동하여 위치하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치의 제어방법
|
| 14 |
14
제12항에 있어서,상기 분석 단계는 상기 제1 검출 단계에서 검출된 패턴 및 상기 제2 검출 단계에서 검출된 패턴의 중심이 일치하면 상기 광학매체의 광축 방향 정렬이 일치하는 것으로 판단하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치의 제어방법
|
| 15 |
15
제12항에 있어서,상기 분석 단계는 상기 제1 검출 단계에서 검출된 패턴 및 상기 제2 검출 단계에서 검출된 패턴에서 각각의 중심의 위치 또는 기 설정된 특징점의 위치 변화량을 분석하여, 상기 광학매체의 틸팅(tilting) 여부를 판단하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치의 제어방법
|
| 16 |
16
제12항에 있어서,상기 위치 조절 단계는 상기 광학계 또는 상기 광학매체의 위치를 조절하여, 상기 광학매체로 조사되는 광의 초점 위치, 스팟 사이즈(spot size), 조사 각도 또는 광의 세기 분포 중 적어도 어느 하나를 제어하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치의 제어방법
|
| 17 |
17
제16항에 있어서,상기 위치 조절 단계는 상기 분석 단계에서 얻어진 정보에 근거하여 상기 광학계를 구성하는 복수개의 광학 소자 중 적어도 하나의 위치를 제어하거나 또는 상기 광학매체가 위치하는 스테이지의 경사각을 조절하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치의 제어방법
|
| 18 |
18
제11항에 있어서,상기 광 조사단계는 서로 다른 파장의 광을 순차적으로 조사하고,상기 광 패턴 검출 단계는 각 파장의 광이 형성하는 광 패턴을 각각 검출하고,상기 분석 단계는 해당 파장에 따른 보정 좌표를 산출하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치의 제어방법
|
| 19 |
19
제11항에 있어서,기준광 조사부를 구동하여 기준광을 상기 광학매체에 조사하는 단계;상기 기준광에 의해 광 검출부에 형성되는 기준광 패턴을 검출하는 단계; 및상기 기준광 패턴을 이용하여 상기 기준광의 조사 각도를 산출하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광 정보 처리장치의 제어방법
|
