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캐소드(Cathode), 게이트(Gate) 및 아노드(Anode)를 포함하는 삼극형 전계 방출 소자에 있어서, 절연성 기판(210) 위에 형성된 캐소드 전극(220)과; 상기 캐소드 전극(220) 위에 카본 나노튜브로 이루어진 캐소드(240)와; 상기 카본 나노튜브 캐소드(240)의 측면에 형성된 측벽(Side Wall) 절연막(250)과; 상기 캐소드 전극(220) 위에 상기 측벽 절연막(250)과 접한 측면에 형성된 게이트 절연막(260)과; 상기 게이트 절연막(260) 위에 상기 측벽 절연막(250)과 접한 측면에 형성된 게이트(270)를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 삼극형 전계 방출 소자
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제 1 항에 있어서, 상기 절연성 기판(210)은 석영, 유리 및 절연막 중 어느 하나를 선택하여 형성된 실리콘 웨이퍼로 이루어진 것을 특징으로 하는 삼극형 전계 방출 소자
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제 1 항에 있어서, 상기 카본 나노튜브 캐소드(240)와 상기 캐소드 전극(220) 사이에 전이 금속으로 이루어진 촉매제(230)를 더 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 삼극형 전계 방출 소자
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제 3 항에 있어서, 상기 카본 나노튜브 캐소드(240)는 화학 기상 증착법 (Chemical Vapor Deposition : CVD)을 이용하여 상기 촉매제(230) 위에 선택적으로 성장시킨 것을 특징으로 하는 삼극형 전계 방출 소자
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캐소드(Cathode), 게이트(Gate) 및 아노드(Anode)를 포함하는 삼극형 전계 방출 소자에 있어서, 절연성 기판(310) 위에 형성된 캐소드 전극(320)과; 상기 캐소드 전극(320) 위에 카본 나노튜브로 이루어진 캐소드(340)와; 상기 카본 나노튜브 캐소드(340)의 측면에 형성된 측벽(Side Wall) 절연막(350)과; 상기 캐소드 전극(320) 위에 상기 측벽 절연막(350)과 접한 측면에 형성된 게이트 절연막(360)과; 상기 게이트 절연막(360) 위에 상기 측벽 절연막(350)과 접한 측면에 형성된 게이트(370); 및 상기 게이트(370) 위에 상기 측벽 절연막(350)과 접한 측면에 형성된 상벽 절연막(380)을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 삼극형 전계 방출 소자
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제 5 항에 있어서, 상기 절연성 기판(310)은 석영, 유리 및 절연막 중 어느 하나를 선택하여 형성된 실리콘 웨이퍼로 이루어진 것을 특징으로 하는 삼극형 전계 방출 소자
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제 5 항에 있어서, 상기 카본 나노튜브 캐소드(340)와 상기 캐소드 전극(320) 사이에 전이 금속으로 이루어진 촉매제(330)를 더 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 삼극형 전계 방출 소자
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제 7 항에 있어서, 상기 카본 나노튜브 캐소드(340)는 화학 기상 증착법 (Chemical Vapor Deposition : CVD)을 이용하여 상기 촉매제(330) 위에 선택적으로 성장시킨 것을 특징으로 하는 삼극형 전계 방출 소자
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절연성 기판(310) 위에 형성된 캐소드 전극(320)과; 상기 캐소드 전극(320) 위에 카본 나노튜브로 이루어진 캐소드(340)와; 상기 카본 나노튜브 캐소드(340)의 측면에 형성된 측벽(Side Wall) 절연막(350)과; 상기 캐소드 전극(320) 위에 상기 측벽 절연막(350)과 접한 측면에 형성된 게이트 절연막(360)과; 상기 게이트 절연막(360) 위에 상기 측벽 절연막(350)과 접한 측면에 형성된 게이트(370); 및 상기 게이트(370) 위에 상기 측벽 절연막(350)과 접한 측면에 형성된 상벽 절연막(380)을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 삼극형 전계 방출 소자를 이용하는 3극형 고주파 진공 장치에 있어서, 상기 상벽 절연막(380) 위에 아노드 전극(890)을 포함하고, 상기 아노드 전극(890), 상기 측벽 절연막(350) 및 상기 캐소드 전극(320)에 의하여 둘러 싸인 공동은 진공 상태인 것을 특징으로 하는 삼극형 고주파 진공 장치
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제 9 항에 있어서, 상기 아노드 전극(890)은 전자 - 빔 승착기(Electron - Beam Eavaporator)의 경사 증착을 이용하여 인 - 시튜(In - Situ) 진공 상태로 형성된 것을 특징으로 하는 삼극형 고주파 진공 장치
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제 9 항 또는 제 10 항에 있어서, 상기 카본 나노튜브 캐소드(340)와 상기 캐소드 전극(320) 사이에 전이 금속으로 이루어진 촉매제(330)를 더 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 삼극형 고주파 진공 장치
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캐소드(Cathode), 게이트(Gate) 및 아노드(Anode)를 포함하는 삼극형 전계 방출 소자에 있어서, 절연성 기판(410) 위에 형성된 캐소드 전극(420)과; 상기 캐소드 전극(420) 위에 나노튜브를 가진 카본질 막(Carbonaceous Film)으로 이루어진 캐소드(441)와; 상기 카본질 막으로 이루어진 캐소드(441)의 측면에 형성된 측벽(Side Wall) 절연막(450)과; 상기 캐소드 전극(420) 위에 상기 측벽 절연막(450)과 접한 측면에 형성된 게이트 절연막(460)과; 상기 게이트 절연막(460) 위에 상기 측벽 절연막(450)과 접한 측면에 형성된 게이트(470)를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 삼극형 전계 방출 소자
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13
제 12 항에 있어서, 상기 절연성 기판(410)은 석영, 유리 및 절연막 중 어느 하나를 선택하여 형성된 실리콘 웨이퍼로 이루어진 것을 특징으로 하는 삼극형 전계 방출 소자
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제 12 항에 있어서, 상기 측벽 절연막(450)은 산화막 또는 질화막 중 어느 하나를 선택하여 형성된 것을 특징으로 하는 삼극형 전계 방출 소자
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캐소드(Cathode), 게이트(Gate) 및 아노드(Anode)를 포함하는 삼극형 전계 방출 소자에 있어서, 절연성 기판(510) 위에 형성된 캐소드 전극(520)과; 상기 캐소드 전극(520) 위에 나노튜브를 가진 카본질 막(Carbonaceous Film)으로 이루어진 캐소드(541)와; 상기 카본 나노튜브 캐소드(540)의 측면에 형성된 측벽(Side Wall) 절연막(550)과; 상기 캐소드 전극(520) 위에 상기 측벽 절연막(550)과 접한 측면에 형성된 게이트 절연막(560)과; 상기 게이트 절연막(560) 위에 상기 측벽 절연막(550)과 접한 측면에 형성된 게이트(570); 및 상기 게이트(570) 위에 상기 측벽 절연막(550)과 접한 측면에 형성된 상벽 절연막(580)을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 삼극형 전계 방출 소자
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제 15 항에 있어서, 상기 절연성 기판(510)은 석영, 유리 및 절연막 중 어느 하나를 선택하여 형성된 실리콘 웨이퍼로 이루어진 것을 특징으로 하는 삼극형 전계 방출 소자
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제 15 항에 있어서, 상기 측벽 절연막(550)은 산화막 또는 질화막 중 어느 하나를 선택하여 형성된 것을 특징으로 하는 삼극형 전계 방출 소자
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절연성 기판(510) 위에 형성된 캐소드 전극(520)과; 상기 캐소드 전극(520) 위에 나노튜브를 가진 카본질 막(Carbonaceous Film)으로 이루어진 캐소드(541)와; 상기 카본 나노튜브 캐소드(540)의 측면에 형성된 측벽(Side Wall) 절연막(550)과; 상기 캐소드 전극(520) 위에 상기 측벽 절연막(550)과 접한 측면에 형성된 게이트 절연막(560)과; 상기 게이트 절연막(560) 위에 상기 측벽 절연막(550)과 접한 측면에 형성된 게이트(570); 및 상기 게이트(570) 위에 상기 측벽 절연막(550)과 접한 측면에 형성된 상벽 절연막(580)을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 삼극형 전계 방출 소자를 이용하는 전계 방출 디스플레이 장치에 있어서, 상기 삼극형 전계 방출 소자로 구성된 하판(Lower Plate) 및 상판(Upper Plate)을 포함하고, 상기 상판은 유리 기판(991); 상기 유리 기판(991) 밑에 형성된 투명 전극(992); 상기 투명 전극(992) 밑에 형성된 형광체(993)를 포함하고, 상기 하판과 상기 상판을 평행하게 기계적으로 연결시키고 내부에 공동이 형성되도록 상기 상벽 절연막(580) 및 상기 형광체(993)를 잇는 스페이서(Spacer, 994)가 설치되며, 상기 공동은 진공 상태인 것을 특징으로 하는 전계 방출 디스플레이 장치
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