맞춤기술찾기

이전대상기술

프로그래머블 마스크 및 이를 이용한 생체분자 어레이형성 방법

  • 기술번호 : KST2015087420
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 생체분자 어레이 형성을 위한 광 리소그라피 공정에 이용되는 프로그래머블 마스크 및 이를 이용한 생체분자 어레이 형성방법에 관한 것으로, 본 발명은 인가된 전기적 신호에 따라 입사된 UV 빛을 선택적으로 투과시킬 수 있는 TFT-LCD형 프로그래머블 마스크 및 이를 이용한 생체분자 어레이 형성방법을 제공한다. 본 발명에 의하면 UV 빛이 시료 기판에 선택적으로 조사되도록 하여 고밀도의 생체분자 어레이를 형성할 수 있다.생체분자 어레이, 고분자 어레이, DNA 칩, 프로그래머블 마스크, 편광 소거기
Int. CL C12Q 1/68 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020020026698 (2002.05.15)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0451663-0000 (2004.09.23)
공개번호/일자 10-2003-0088773 (2003.11.20) 문서열기
공고번호/일자 (20041008) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 발송처리완료
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2002.05.15)
심사청구항수 11

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 정문연 대한민국 대전광역시유성구
2 양해식 대한민국 대전광역시서구
3 전치훈 대한민국 대전광역시유성구
4 김윤태 대한민국 대전광역시유성구
5 김용신 대한민국 대전광역시유성구
6 신동호 대한민국 대전광역시유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 신영무 대한민국 서울특별시 강남구 영동대로 ***(대치동) KT&G타워 *층(에스앤엘파트너스)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2002.05.15 수리 (Accepted) 1-1-2002-0147749-97
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2003.11.17 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2003.12.18 수리 (Accepted) 9-1-2003-0063857-60
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2004.05.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0200716-95
6 의견서
Written Opinion
2004.07.23 수리 (Accepted) 1-1-2004-0327464-26
7 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.
2004.07.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2004-0327463-81
8 등록결정서
Decision to grant
2004.09.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0389651-46
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

삭제

2 2

인가된 전기적 신호에 따라 픽셀 영역을 스위칭하기 위한 폴리실리콘 박막 트랜지스터, 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극과 연결된 투명전극으로 이루어진 하부 픽셀전극 및 상기 하부 픽셀전극 상에 형성된 배향막이 상부에 구비되고, 하부에 편광판이 구비된 하부 기판;

상기 박막 트랜지스터로 유입되는 UV 빛을 차단하기 위한 차광막, 상기 차광막 하부에 형성된 보호절연막, 상기 보호절연막의 하부에 형성된 투명전극으로 이루어진 상부 픽셀전극 및 상기 상부 픽셀전극 하부에 형성된 배향막이 하부에 구비되고, 상부에 편광판이 구비된 상부 기판;

상기 하부 기판과 상기 상부 기판 사이에 주입되고, 상기 박막 트랜지스터의 전기적 신호에 따라 배열 상태가 변화하여 빛을 선택적으로 투과시키는 액정; 및

상기 픽셀 영역 외곽의 하부 기판 상에 상기 폴리실리콘 박막 트랜지스터를 구동하기 위한 구동회로를 포함하되,

상기 구동회로는 상기 폴리실리콘 박막 트랜지스터와 동시에 형성되고 상기 픽셀 영역과 동일 평면상에 구비되며, 상기 액정은 네마틱(nematic) 액정에 염료가 첨가된 액정으로서 인가되는 전압에 따라 선편광된 빛의 진동 방향과 상기 염료의 광 흡수축이 일치 또는 직교됨으로써 빛을 차단하거나 투과시킬 수 있는 게스트-호스트형 액정인 것을 특징으로 하는 프로그래머블 마스크

3 3

인가된 전기적 신호에 따라 픽셀 영역을 스위칭하기 위한 폴리실리콘 박막 트랜지스터, 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극과 연결된 투명전극으로 이루어진 하부 픽셀전극, 입사된 UV 빛의 보강 간섭을 일으키기 위해 상기 하부 픽셀전극 상에 형성된 유전체 미러 및 상기 유전체 미러 상에 형성된 배향막이 상부에 구비된 하부 기판;

상기 박막 트랜지스터로 유입되는 UV 빛을 차단하기 위한 차광막, 공통전압이 인가되는 투명전극으로 이루어진 상부 픽셀전극, 입사된 UV 빛의 보강 간섭을 일으키기 위해 상기 상부 픽셀전극 하부에 형성된 유전체 미러 및 상기 유전체 미러 상에 형성된 배향막이 하부에 구비된 상부 기판;

상기 하부 기판과 상기 상부 기판 사이에 주입되고, 상기 박막 트랜지스터의 전기적 신호에 따라 배열 상태가 변화하여 빛을 선택적으로 투과시키는 액정; 및

상기 픽셀 영역 외곽의 하부 기판 상에 상기 폴리실리콘 박막 트랜지스터를 구동하기 위한 구동회로를 포함하되,

상기 구동회로는 상기 폴리실리콘 박막 트랜지스터와 동시에 형성되고 상기 픽셀 영역과 동일 평면상에 구비되며, 상기 하부 기판 상부에 구비된 유전체 미러 및 상기 상부 기판에 구비된 유전체 미러로 이루어진 패브리-패럿형 광 필터에 의하여 보강 간섭된 특정한 파장의 UV 빛만을 선택적으로 투과시키는 것을 특징으로 하는 프로그래머블 마스크

4 4

제3항에 있어서, 상기 액정은 네마틱(nematic) 액정에 염료가 첨가된 액정으로서 인가되는 전압에 따라 선편광된 빛의 진동 방향과 상기 염료의 광 흡수축이 일치 또는 직교됨으로써 빛을 차단하거나 투과시킬 수 있는 게스트-호스트형 액정인 것을 특징으로 하는 프로그래머블 마스크

5 5

제2항에 있어서, 상기 편광판은 330 내지 400nm 파장의 UV 빛에 대해 투과도가 높고, 상기 UV 빛에 의해 변성이 일어나지 않는 고분자 필름 또는 복굴절 특성을 갖는 무기 결정체로 이루어진 것을 특징으로 하는 프로그래머블 마스크

6 6

제5항에 있어서, 상기 고분자 필름은 폴리비닐 알코올로 이루어지고, 상기 무기 결정체는 방해석(calcite), 석영(quartz) 또는 전기석(tourmaline)인 것을 특징으로 하는 프로그래머블 마스크

7 7

제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 하부 기판 하부에 입사된 UV 빛을 무편광된 빛으로 바꾸기 위한 편광 소거기를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 프로그래머블 마스크

8 8

제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 배향막은 330 내지 400nm 파장의 UV 빛에 대해 투과도가 높고, 상기 UV 빛에 의해 변성이 일어나지 않는 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 프로그래머블 마스크

9 9

제8항에 있어서, 상기 UV 빛에 의해 변성이 일어나지 않는 물질은 UV 빛에 내성을 갖는 폴리이미드, 경사 스퍼터링법 또는 경사 열증착법으로 형성된 실리콘 산화막 또는 이온빔을 조사하여 액정의 배향 효과를 갖게 한 DLC(diamond-like-carbon)인 것을 특징으로 하는 프로그래머블 마스크

10 10

제2항 또는 제3항의 프로그래머블 마스크를 사용하여 생체분자 어레이를 형성하는 방법에 있어서,

상기 프로그래머블 마스크를 준비하는 단계;

상기 프로그래머블 마스크 하부에 시료 기판을 설치하는 단계;

상기 프로그래머블 마스크에 전기적 신호를 공급하여 선택된 픽셀 영역에서의 액정의 배열에 의해 UV 빛의 투과를 조절하는 단계;

상기 픽셀 영역을 선택적으로 통과한 UV 빛을 상기 시료 기판에 조사하는 단계; 및

상기 시료 기판에 조사된 UV 빛에 의해 상기 시료 기판에 구비된 생체 분자에 광반응이 일어나도록 하여 상기 프로그래머블 마스크의 패턴에 따른 생체분자 어레이를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 생체분자 어레이 형성방법

11 11

제10항에 있어서, 상기 픽셀 영역을 선택적으로 통과한 빛을 편광 소거기를 통해 무편광된 빛으로 전환하여 상기 시료 기판에 조사하고, 상기 시료 기판에서 무편광된 빛에 의해 광반응이 일어나도록 하여 생체 분자 어레이를 형성하는 것을 특징으로 하는 생체분자 어레이 형성방법

12 12

제10항에 있어서, 상기 액정은 네마틱(nematic) 액정에 염료가 첨가된 액정으로서 인가되는 전압에 따라 선편광된 빛의 진동 방향과 상기 염료의 광 흡수축이 일치 또는 직교됨으로써 빛을 차단하거나 투과시킬 수 있는 게스트-호스트형 액정으로 이루어져 있고, 상기 프로그래머블 마스크에 인가되는 전기적 신호에 의해 상기 게스트-호스트형 액정의 배열 상태를 조절함으로써 선택적으로 빛을 상기 시료 기판에 조사하여 생체분자 어레이를 형성하는 것을 특징으로 하는 생체분자 어레이 형성방법

지정국 정보가 없습니다
순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - 패밀리정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US07362387 US 미국 FAMILY
2 US20030214611 US 미국 FAMILY
3 US20060092339 US 미국 FAMILY
4 US20060094144 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - DOCDB 패밀리 정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2003214611 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US2006092339 US 미국 DOCDBFAMILY
3 US2006094144 US 미국 DOCDBFAMILY
4 US7362387 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.