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기판에 형성되며 일측벽에 N-1 개의 단차를 갖는 트렌치; 상기 트렌치 내부 및 상부에서 회전 운동하는 N 개의 플레이트들; 및 상기 N 개의 플레이트들을 서로 연결하는 2N 개의 스프링들을 포함하고, 상기 N 개의 플레이트들은 최외각 제1 플레이트, 상기 제1 플레이트와 스프링으로 연결되어 내부에 위치하는 제2 플레이트,…, 상기 제N-1 플레이트와 스프링으로 연결되어 내부에 위치하는 제N 플레이트로 이루어지고, 상기 N 개의 플레이트들과 상기 트렌치에 각각 전압이 인가되면, 정전압에 의해 상기 제1 플레이트는 상기 트렌치의 제1 단차에 소정 변위각을 가지며 제1 랜딩되고, 상기 제2 플레이트는 상기 트렌치의 제2 단차에 소정 변위각을 가지며 제2 랜딩되고,… , 상기 제N 플레이트는 상기 트렌치의 타측벽에 소정 변위각을 가지며 제N 랜딩되는 것을 특징으로 하는 다단계 랜딩형 마이크로 미러
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제1 항에 있어서, 상기 N 개의 플레이트들 중 제1 플레이트, 제2 플레이트,…,제N-1 플레이트는 각각 사각형의 고리모양인 것을 특징으로 하는 다단계 랜딩형 마이크로 미러
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제1 항에 있어서, 상기 제N 플레이트는, 사각형의 모양을 갖는 미러인 것을 특징으로 하는 다단계 랜딩형 마이크로 미러
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제1 항에 있어서, 상기 2N 개의 스프링들은, 미엔더 형, 토오션 빔 형 또는 상기 미엔더 형과 토오션 빔 형의 복합형인 것을 특징으로 하는 다단계 랜딩형 마이크로 미러
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제1 항에 있어서, 상기 제1 랜딩의 변위각, 제2 랜딩의 변위각,…,제N 랜딩의 변위각을 합한 총 변위각은 90도 인 것을 특징으로 하는 다단계 랜딩형 마이크로 미러
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제1 항에 의한 다단계 랜딩형 마이크로 미러의 제조방법에 있어서, (a) 일측벽에 N-1 개의 단차를 갖는 트렌치를 기판 내부에 형성하는 단계; (b) 상기 기판 상부 및 트렌치 내부에 제1 절연막을 형성하는 단계; (c) 상기 기판 상부 및 트렌치 내부에 도전막을 증착하고 패터닝하여, 상기 트렌치 내부 및 주변에 전극층을 형성하는 단계; (d) 상기 기판 상부 및 트렌치 내부에 제2 절연막을 형성하는 단계; (e) 상기 트렌치 상부 및 주변에 실리콘층을 부착하는 단계; 및 (f) 상기 실리콘 층을 식각하여 N 개의 플레이트들 및 2N 개의 스프링들을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다단계 랜딩형 마이크로 미러의 제조방법
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제6 항에 있어서, 상기 기판은, 유리 또는 실리콘 기판인 것을 특징으로 하는 다단계 랜딩형 마이크로 미러의 제조방법
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제6 항에 있어서, 상기 (e) 단계 후에, 상기 실리콘층을 연마하여 50~620㎛ 두께로 가공하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다단계 랜딩형 마이크로 미러의 제조방법
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제1 항에 의한 다단계 랜딩형 마이크로 미러가 m x n 의 메트릭스 형태로 동일 평면 상에 배열되어, 입사광에 대해 다수개의 반사광을 얻도록 하는 것을 특징으로 하는 다단계 랜딩형 마이크로 미러 어레이
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