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폴리머 박막 증착 반응이 수행될 반응 챔버, 상기 반응 챔버 내에 설치되어 상기 폴리머 박막이 증착될 기판을 지지하는 기판 지지부, 상기 기판 지지부에 설치되어 상기 기판을 냉각하는 기판 냉각부, 상기 폴리머 박막 증착에 참여할 증착 소스 기상 및 상기 증착 소스를 폴리머화하기 위한 활성화제 기상을 교번적으로 상기 기판 상에 공급하는 샤워링(shower ring), 및 상기 활성화제 기상을 활성화시키기 위한 광을 조사하여 광도움을 주는 광도움부를 포함하는 증착부; 및 상기 샤워링으로 제공될 상기 증착 소스 기상을 위한 증착 소스를 담는 증착 소스통, 상기 샤워링으로 제공될 상기 활성화제 기상을 활성화제 소스를 담는 활성화제 소스통, 상기 증착 소스통에서 상기 증착 소스 기상이 발생되고 상기 활성화제 소스통에서 상기 활성화제 기상이 발생되도록 상기 증착 소스통 및 상기 활성화제 소스통을 가열하는 가열부, 및 상기 발생된 증착 소스의 기상 및 상기 발생된 활성화제 기상이 시간 분할에 따라 선택적으로 상호 독립적으로 상기 샤워링으로 이송되도록 허용하고 상기 가열부의 확장에 의해서 가열되는 이송로를 포함하는 소스부를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리머 박막 증착 장치
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제1항에 있어서, 상기 활성화제 소스는 폴리머화를 개시하는 개시제로서 광개시제인 것을 특징으로 하는 폴리머 박막 증착 장치
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제1항에 있어서, 상기 가열부는 상기 증착 소스통, 상기 활성화제 소스통 및 상기 이송로를 각각 독립적으로 가열하는 것을 특징으로 하는 폴리머 박막 증착 장치
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제1항에 있어서, 상기 반응 챔버에 상기 증착 시에 희석 가스를 공급하는 희석 가스 공급원을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리머 박막 증착 장치
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제1항에 있어서, 상기 증착 소스의 기상 및 상기 활성화제 기상이 상기 이송로를 따라 이송되도록 상기 증착 소스통 및 상기 활성화제 소스통에 시간 분할에 따라 선택적으로 이송 가스를 제공하는 이송 가스 공급원을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리머 박막 증착 장치
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제5항에 있어서, 상기 이송로는 상기 이송 가스 또는 상기 증착 소스의 기상 또는 상기 활성화제 기상이 상기 반응 챔버를 거치지 않고 바이패스(bypass)하는 바이패스 경로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리머 박막 증착 장치
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제1항에 있어서, 상기 이송로가 상기 증착 소스의 기상 및 상기 활성화제 기상을 시간 분할에 따라 선택적으로 상호 독립적으로 상기 샤워 헤드로 이송하도록 상기 이송로에 설치되어 상기 시간 분할에 따라 개폐되는 다수의 밸브(valve)들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리머 박막 증착 장치
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제1항에 있어서, 상기 증착 소스통은 상기 폴리머 박막을 구성하는 성분이 다성분일 경우 서로 다른 성분의 폴리머 증착 소스들을 각각 담는 상호간에 병렬 설치되는 다수 개로 도입되는 것을 특징으로 하는 폴리머 박막 증착 장치
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제8항에 있어서, 상기 활성화제 소스통은 상기 폴리머 증착 소스들에 대해 각각 폴리머화 반응을 개시할 수 있는 서로 다른 성분의 활성화제 소스들을 담는 상호간에 병렬 설치되는 다수 개로 도입되는 것을 특징으로 하는 폴리머 박막 증착 장치
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폴리머 증착 소스 재료를 담은 증착 소스통을 가열하여 증착 소스 기상을 발생시키는 단계; 상기 증착 소스 기상의 응축을 방지하기 위해 일정 온도로 유지된 이송로를 통해 상기 증착 소스 기상을 반응 챔버 내의 샤워링으로 이송하는 단계; 상기 샤워링을 통해 상기 이송된 증착 소스 기상을 상기 샤워링에 대향된 위치에 도입된 기판 상에 분배하여 상기 증착 소스의 흡착층을 형성하는 단계; 상기 흡착층을 폴리머화하기 위한 활성화제를 담은 활성화제 소스통을 가열하여 활성화제 기상을 발생시키는 단계; 상기 활성화제 기상의 응축을 방지하기 위해 일정 온도로 유지된 이송로를 통해 상기 활성화제 기상을 상기 샤워링으로 이송하는 단계; 및 상기 샤워링을 통해 상기 이송된 활성화제 기상을 상기 증착 소스의 흡착층 상에 분배하고 반응 챔버 내의 광도움부로부터 조사되는 광에 의해 광도움 받아 상기 흡착층을 폴리머화하여 폴리머 박막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리머 박막 증착 방법
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제10항에 있어서, 상기 증착 소스의 흡착층을 형성하는 단계 이후와 상기 폴리머화하는 단계 이후에 각각 퍼지(purge) 단계들을 더 수행하는 것을 특징으로 하는 폴리머 박막 증착 방법
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제11항에 있어서, 상기 증착 소스 기상을 반응 챔버 내의 샤워링으로 이송하는 단계와 상기 활성화제 기상을 상기 샤워링으로 이송하는 단계 및 상기 퍼지 단계들은 0
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제10항에 있어서, 상기 폴리머 박막을 형성하는 단계 이후에 제2폴리머 증착 소스 재료를 담은 제2증착 소스통을 가열하여 제2증착 소스 기상을 발생시키는 단계; 상기 제2증착 소스 기상의 응축을 방지하기 위해 일정 온도로 유지된 이송로를 통해 상기 제2증착 소스 기상을 상기 샤워링으로 이송하는 단계; 상기 샤워링을 통해 상기 이송된 제2증착 소스 기상을 상기 폴리머 박막 상에 분배하여 상기 제2증착 소스의 제2흡착층을 형성하는 단계; 상기 제2흡착층을 폴리머화하기 위한 활성화제를 담은 제2활성화제 소스통을 가열하여 제2활성화제 기상을 발생시키는 단계; 상기 제2활성화제 기상의 응축을 방지하기 위해 일정 온도로 유지된 이송로를 통해 상기 제2활성화제 기상을 상기 샤워링으로 이송하는 단계; 및 상기 샤워링을 통해 상기 이송된 제2활성화제 기상을 상기 제2증착 소스의 제2흡착층 상에 분배하고 상기 광도움부로부터 조사된 광에 의해 광도움 받으며 상기 제2흡착층을 폴리머화하여 제2폴리머 박막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리머 박막 증착 방법
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제10항에 있어서, 상기 폴리머 박막을 형성하는 단계 이후에 제2폴리머 증착 소스 재료를 담은 제2증착 소스통을 가열하여 제2증착 소스 기상을 발생시키는 단계; 상기 제2증착 소스 기상의 응축을 방지하기 위해 일정 온도로 유지된 이송로를 통해 상기 제2증착 소스 기상을 상기 샤워링으로 이송하는 단계; 상기 샤워링을 통해 상기 이송된 제2증착 소스 기상을 상기 폴리머 박막 상에 분배하여 상기 제2증착 소스의 제2흡착층을 형성하는 단계; 상기 제2흡착층을 폴리머화하기 위한 활성화제를 담은 제2활성화제 소스통을 가열하여 제2활성화제 기상을 발생시키는 단계; 상기 제2활성화제 기상의 응축을 방지하기 위해 일정 온도로 유지된 이송로를 통해 상기 제2활성화제 기상을 상기 샤워링으로 이송하는 단계; 및 상기 샤워링을 통해 상기 이송된 제2활성화제 기상을 상기 제2증착 소스의 제2흡착층 상에 분배하고 상기 광도움부로부터 조사된 광에 의해 광도움 받으며 상기 제2흡착층을 폴리머화하여 제2폴리머 박막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리머 박막 증착 방법
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