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태양 전지 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015088007
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 태양 전지가 제공된다. 제 1 전극, 상기 제 1 전극 상의 제 1 반도체층, 상기 제 1 반도체층 상의 제 2 반도체층, 및 상기 제 2 반도체층 상의 제 2 전극이 제공된다. 상기 제 2 반도체층은 그 상면의 결정립계를 따라 그물형상으로 배치된 나노선을 포함한다.
Int. CL H01L 31/042 (2014.01.01) H01L 31/18 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020120145575 (2012.12.13)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-2011852-0000 (2019.08.12)
공개번호/일자 10-2014-0077265 (2014.06.24) 문서열기
공고번호/일자 (20190820) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.12.13)
심사청구항수 20

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정문연 대한민국 대전 유성구
2 양승경 대한민국 대전 유성구
3 송기봉 대한민국 대전 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 고려 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.12.13 수리 (Accepted) 1-1-2012-1038774-74
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2013.05.16 수리 (Accepted) 1-1-2013-0433108-18
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2013.05.16 수리 (Accepted) 1-1-2013-0433735-14
4 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2015.01.16 수리 (Accepted) 1-1-2015-0045356-47
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
6 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2017.12.13 수리 (Accepted) 1-1-2017-1242656-53
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.10.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0735712-00
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.12.31 수리 (Accepted) 1-1-2018-1324681-20
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.12.31 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-1324682-76
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2019.03.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0183537-03
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.04.11 수리 (Accepted) 1-1-2019-0374385-37
12 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2019.04.11 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2019-0374386-83
13 등록결정서
Decision to Grant Registration
2019.05.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0353721-96
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
제 1 전극;상기 제 1 전극 상에 배치되어 제 1 결정립계를 갖는 제 1 반도체층;상기 제 1 반도체층 상에 배치되어 상기 제 1 결정립계와 다른 제 2 결정립계와, 상기 제 2 결정립계 상에 배치되어 상기 제 2 결정립계보다 넓은 리세스 영역을 갖는 제 2 반도체층;상기 제 2 반도체층의 상면의 상기 제 2 결정립계를 따라 그물형상을 갖는 나노선; 및상기 나노선 및 상기 제 2 반도체 층의 일부 상에 배치된 제 2 전극을 포함하되,상기 나노선은 상기 제 2 결정립계 상의 상기 리세스 영역 내에 배치되어 상기 제 1 결정립계와 독립적으로 분리되는 태양 전지
2 2
제 1 항에 있어서,상기 나노선의 두께는 상기 제 2 반도체층의 두께의 절반 이하인 태양 전지
3 3
제 1 항에 있어서,상기 나노선의 폭은 10Å내지 100Å인 태양 전지
4 4
제 1 항에 있어서,상기 나노선은 금속을 포함하는 태양 전지
5 5
제 1 항에 있어서,상기 제 2 반도체층 n형 실리콘이고, 상기 제 1 반도체층은 p형 실리콘인 태양 전지
6 6
제 5 항에 있어서,상기 제 1 반도체층은 그 하면의 상기 제 1 결정립계를 따라 그물형상으로 배치된 나노선을 포함하는 태양 전지
7 7
제 5 항에 있어서,상기 제 1 반도체층 및 상기 제 2 반도체층은 다결정 실리콘인 태양 전지
8 8
제 1 항에 있어서,상기 나노선은 상기 태양 전지에 입사된 빛의 세기를 증가시키는 태양 전지
9 9
제 1 전극 상에 제 1 결정립계를 갖는 제 1 반도체층을 형성하는 것;상기 제 1 반도체층의 상부에 상기 제 1 결정립계와 다른 제 2 결정립계를 갖는 제 2 반도체층을 형성하는 것;상기 제 2 반도체층의 상면에 노출된 제 2 결정립계를 식각하여 상기 제 2 결정립계의 폭보다 넓은 폭을 갖는 리세스 영역을 형성하는 것; 및상기 리세스 영역 내에 나노선을 형성하는 것을 포함하되,상기 나노선은 상기 제 1 결정립계와 독립적으로 분리되는 태양 전지의 제조 방법
10 10
제 9 항에 있어서,상기 리세스 영역을 형성하는 것은 습식 식각 공정을 포함하는 태양 전지의 제조 방법
11 11
제 10 항에 있어서,상기 습식 식각 공정은 크롬산을 포함하는 식각액으로 수행되는 태양 전지의 제조 방법
12 12
제 9 항에 있어서,상기 리세스 영역을 형성하는 것은 건식 식각 공정을 포함하는 태양 전지의 제조 방법
13 13
제 9 항에 있어서,상기 리세스 영역 내에 나노선을 형성하는 것은:상기 리세스 영역을 채우는 금속층을 형성하는 것: 및상기 리세스 영역 외부의 금속층을 제거하는 것을 포함하는 태양 전지의 제조 방법
14 14
제 13 항에 있어서,상기 리세스 영역 외부의 금속층을 제거하는 것은 CMP 공정 또는 에치백 공정을 포함하는 태양 전지의 제조 방법
15 15
제 9 항에 있어서,상기 리세스 영역의 폭은 10Å내지 100Å으로 형성되는 태양 전지의 제조 방법
16 16
제 9 항에 있어서,상기 리세스 영역의 깊이는 상기 제 2 반도체층 두께의 절반 이하로 형성되는 태양 전지의 제조 방법
17 17
제 9 항에 있어서,상기 제 2 반도체층을 형성하는 것은 상기 제 1 반도체층의 상부에 상기 제 1 반도체층의 도전형과 다른 도전형의 도펀트들을 이온 주입하는 것을 포함하는 태양 전지의 제조 방법
18 18
제 9 항에 있어서,상기 제 1 반도체층의 하면에 나노선을 형성하는 것을 더 포함하는 태양 전지의 제조 방법
19 19
제 18 항에 있어서,상기 제 1 반도체층의 하면에 나노선을 형성하는 것은:상기 제 1 반도체층의 하면에 노출된 상기 제 1 결정립계를 식각하여 리세스 영역을 형성하는 것; 및상기 리세스 영역 내에 나노선을 형성하는 것을 포함하는 태양 전지의 제조 방법
20 20
제 9 항에 있어서,상기 제 1 반도체층의 하면에 제 1 전극을 형성하는 것; 및상기 제 2 반도체층의 상면에 제 2 전극을 형성하는 것을 더 포함하는 태양 전지의 제조 방법
21 21
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2 US9379260 US 미국 DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한국전자통신연구원 신기술융합형 성장동력사업 생체진단가능 시각/미각 수용체 기반 센싱 기술 개발