1 |
1
제 1 전극;상기 제 1 전극 상에 배치되어 제 1 결정립계를 갖는 제 1 반도체층;상기 제 1 반도체층 상에 배치되어 상기 제 1 결정립계와 다른 제 2 결정립계와, 상기 제 2 결정립계 상에 배치되어 상기 제 2 결정립계보다 넓은 리세스 영역을 갖는 제 2 반도체층;상기 제 2 반도체층의 상면의 상기 제 2 결정립계를 따라 그물형상을 갖는 나노선; 및상기 나노선 및 상기 제 2 반도체 층의 일부 상에 배치된 제 2 전극을 포함하되,상기 나노선은 상기 제 2 결정립계 상의 상기 리세스 영역 내에 배치되어 상기 제 1 결정립계와 독립적으로 분리되는 태양 전지
|
2 |
2
제 1 항에 있어서,상기 나노선의 두께는 상기 제 2 반도체층의 두께의 절반 이하인 태양 전지
|
3 |
3
제 1 항에 있어서,상기 나노선의 폭은 10Å내지 100Å인 태양 전지
|
4 |
4
제 1 항에 있어서,상기 나노선은 금속을 포함하는 태양 전지
|
5 |
5
제 1 항에 있어서,상기 제 2 반도체층 n형 실리콘이고, 상기 제 1 반도체층은 p형 실리콘인 태양 전지
|
6 |
6
제 5 항에 있어서,상기 제 1 반도체층은 그 하면의 상기 제 1 결정립계를 따라 그물형상으로 배치된 나노선을 포함하는 태양 전지
|
7 |
7
제 5 항에 있어서,상기 제 1 반도체층 및 상기 제 2 반도체층은 다결정 실리콘인 태양 전지
|
8 |
8
제 1 항에 있어서,상기 나노선은 상기 태양 전지에 입사된 빛의 세기를 증가시키는 태양 전지
|
9 |
9
제 1 전극 상에 제 1 결정립계를 갖는 제 1 반도체층을 형성하는 것;상기 제 1 반도체층의 상부에 상기 제 1 결정립계와 다른 제 2 결정립계를 갖는 제 2 반도체층을 형성하는 것;상기 제 2 반도체층의 상면에 노출된 제 2 결정립계를 식각하여 상기 제 2 결정립계의 폭보다 넓은 폭을 갖는 리세스 영역을 형성하는 것; 및상기 리세스 영역 내에 나노선을 형성하는 것을 포함하되,상기 나노선은 상기 제 1 결정립계와 독립적으로 분리되는 태양 전지의 제조 방법
|
10 |
10
제 9 항에 있어서,상기 리세스 영역을 형성하는 것은 습식 식각 공정을 포함하는 태양 전지의 제조 방법
|
11 |
11
제 10 항에 있어서,상기 습식 식각 공정은 크롬산을 포함하는 식각액으로 수행되는 태양 전지의 제조 방법
|
12 |
12
제 9 항에 있어서,상기 리세스 영역을 형성하는 것은 건식 식각 공정을 포함하는 태양 전지의 제조 방법
|
13 |
13
제 9 항에 있어서,상기 리세스 영역 내에 나노선을 형성하는 것은:상기 리세스 영역을 채우는 금속층을 형성하는 것: 및상기 리세스 영역 외부의 금속층을 제거하는 것을 포함하는 태양 전지의 제조 방법
|
14 |
14
제 13 항에 있어서,상기 리세스 영역 외부의 금속층을 제거하는 것은 CMP 공정 또는 에치백 공정을 포함하는 태양 전지의 제조 방법
|
15 |
15
제 9 항에 있어서,상기 리세스 영역의 폭은 10Å내지 100Å으로 형성되는 태양 전지의 제조 방법
|
16 |
16
제 9 항에 있어서,상기 리세스 영역의 깊이는 상기 제 2 반도체층 두께의 절반 이하로 형성되는 태양 전지의 제조 방법
|
17 |
17
제 9 항에 있어서,상기 제 2 반도체층을 형성하는 것은 상기 제 1 반도체층의 상부에 상기 제 1 반도체층의 도전형과 다른 도전형의 도펀트들을 이온 주입하는 것을 포함하는 태양 전지의 제조 방법
|
18 |
18
제 9 항에 있어서,상기 제 1 반도체층의 하면에 나노선을 형성하는 것을 더 포함하는 태양 전지의 제조 방법
|
19 |
19
제 18 항에 있어서,상기 제 1 반도체층의 하면에 나노선을 형성하는 것은:상기 제 1 반도체층의 하면에 노출된 상기 제 1 결정립계를 식각하여 리세스 영역을 형성하는 것; 및상기 리세스 영역 내에 나노선을 형성하는 것을 포함하는 태양 전지의 제조 방법
|
20 |
20
제 9 항에 있어서,상기 제 1 반도체층의 하면에 제 1 전극을 형성하는 것; 및상기 제 2 반도체층의 상면에 제 2 전극을 형성하는 것을 더 포함하는 태양 전지의 제조 방법
|
21 |
21
삭제
|