| 1 |
1
외부 광원으로부터 입력된 광빔을 분할하여 일정량의 빔은 흡수하고 나머지는 투과시켜서 상기 흡수된 광 전력을 검출하여 상기 광 전력에 대응되는 광 전류를 출력하는 제1 광 검출기; 상기 광원으로부터 일정거리에 위치하며 상기 광원으로부터 방사되는 레이저빔의 가우시안빔의 축에 대하여 일정각을 가지도록 정렬되어 상기 제1 광 검출기를 투과하여 입사되는 레이저빔의 파장에 따라 소정의 파장을 가지는 빔이 투과되도록 하는 페브리-페롯 필터; 상기 페브리-페롯 필터를 투과한 빔의 파장에 따라 변화되는 광 전력을 검출하여 상기 광 전력에 대응되는 광 전류를 출력하는 제2 광 검출기; 및 상기 제1 및 제2 광 검출기에서 출력된 광 전류의 비와 특정 기준값의 차이에 의해 상기 광원을 제어하여 파장을 안정화시키는 파장 안정화부 를 포함하는 파장 검출 및 안정화 장치
|
| 2 |
2
제1항에 있어서, 상기 제1 광 검출기는 활성층을 구성하는 물질의 두께를 조절하여 투과되는 빔의 양을 조절하는 파장 검출 및 안정화 장치
|
| 3 |
3
제1항에 있어서, 상기 페브리-페롯 필터는 상기 광원으로부터 입사되는 빔의 파장에 따라 투과율 및 반사율이 변화하는 파장 검출 및 안정화 장치
|
| 4 |
4
제1항에 있어서, 상기 광원과 상기 제1 광 검출기 사이에 위치하며, 상기 광빔의 발산각을 제어하는 렌즈 를 더 포함하는 파장 검출 및 안정화 장치
|
| 5 |
5
제1항에 있어서, 상기 제1 광 검출기와 상기 페브리-페롯 필터 사이에 위치하며, 상기 광빔의 발산각을 제어하는 렌즈 를 더 포함하는 파장 검출 및 안정화 장치
|
| 6 |
6
광원으로부터 나오는 빔의 파장을 검출하고 안정화시키는 방법에 있어서, a) 상기 광원으로부터 나오는 빔을 분리하고, 일정량의 빔은 흡수하고 나머지는 투과시켜서 상기 흡수된 광 전력을 검출하여 상기 광 전력에 대응되는 광 전류를 출력하는 단계; b) 상기 투과한 빔이, 상기 광원으로부터 일정거리에 위치하며 레이저빔의 광축에 대하여 일정각을 가지도록 정렬된 페브리-페롯 필터로 입사되는 단계; c) 상기 페브리-페롯 필터를 투과한 빔의 광 전력을 검출하여 상기 광 전력에 대응되는 광 전류를 출력하는 단계; 및 d) 상기 a) 단계 및 c) 단계에서 출력된 광 전류의 비와 특정 기준값의 차이에 의해 상기 광원을 제어하여 중심파장을 안정화시키는 단계 를 포함하는 파장 검출 및 안정화 방법
|
| 7 |
7
제6항에 있어서, 상기 중심파장에 일정간격을 가지고 이웃한 두 가지 파장에 대하여 파장을 안정화시킬 때, 상기 페브리-페롯 필터의 투과율의 파장의존곡선에서 FWHM(Full Width Half Maximum)이 상기 이웃한 파장 간격에 일치하도록 조절하여 파장을 안정화시키는 파장 검출 및 안정화 방법
|
| 8 |
8
제6항에 있어서, 상기 페브리-페롯 필터의 각도를 조절하여 상기 FWHM을 제어하는 파장 검출 및 안정화 방법
|
| 9 |
8
제6항에 있어서, 상기 페브리-페롯 필터의 각도를 조절하여 상기 FWHM을 제어하는 파장 검출 및 안정화 방법
|
