| 요약 |
본 발명은 포토마스크에 관한 것으로서, 석영 등의 투명 기판의 일측면에 주마스크와 타측면에 상기 주마스크의 해상력을 증가시키는 보조마스크로 이루어지는데, 상기 주마스크는 투명 기판의 일측면에 크롬(Cr) 또는 산화철(Fe2O3)등과 같은 마스크 패턴 재료나 그밖의 불투명한 물질이 소정 두께로 증착되어 노광 공정시 조사되는 광이 투과되는 것을 방지하는 불투명막과, 이 불투명막이 형성되어 않아 상기 투명 기판이 노출되어 조사되는 광을 동시에 각각 투과시켜 T-게이트전극의 다리 및 머리 부분을 형성하기 위한 제1 및 제2패턴을 가지며, 그리고, 상기 보조 마스크는 투명 기판 타측면의 소정 부분이 소정 깊이로 에칭되어 투과되는 광의 회절 및 간섭이 일어나도록 상기 조사되는 광의 위상을 변화시키지 않고 투과시키는 투과부를 갖는다.따라서, 단일의 포토레지스트층에 1번의 노광 공정과 1번의 현상 공정에 의해 T-게이트전극을 형성하기 위한 포토레지스트 패턴을 형성할 수 있으므로 공정을 간단하게 할 수 있으며, 또한, 보조 마스크의 반전부와 투과부를 통과하는 광의 회절 및 보강 간섭에 의해 해상력을 증가시킬 수 있다.
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