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제 1 유전체 층;상기 제 1 유전체 층을 부분적으로 노출시키는 적어도 하나의 제 1 홀들을 갖는 제 1 그물망 패턴;상기 제 1 그물망 패턴들과 상기 제 1 유전체 층을 덮는 제 2 유전체 층:상기 제 1 홀들과 동일한 모양을 갖고, 상기 홀들 상부의 상기 제 1 유전체 층 상에 형성된 역상 패턴들; 및상기 역상 패턴들과 상기 제 2 유전체 층을 덮는 제 3 유전체 층을 포함하는 필터
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제 1 항에 있어서, 제 1 홀들과 상기 역상 패턴들은 동일한 크기를 갖는 필터
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제 2 항에 있어서, 상기 제 1 홀들과 상기 역상 패턴들은 사각형 또는 원형 중 적어도 하나의 동일한 모양을 갖는 필터
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제 3 항에 있어서, 상기 제 1 그물망 패턴과 상기 역상 패턴은 금, 크롬, 은, 알루미늄, 구리, 및 니켈 중 적어도 하나의 금속을 포함하는 필터
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제 4 항에 있어서상기 제 1 내지 제 3 유전체 층들은 폴리이미드를 포함하는 필터
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제 4 항에 있어서,상기 제 1 내지 제 3 유전체 층들은 알루미늄 산화막, 실리콘 산화막, 티타늄 산화막, 또는 마그네슘 불화막 중 적어도 하나의 금속 유전체 또는 무기 유전체를 포함하는 메타물질 필터
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7
제 4 항에 있어서,상기 제 1 홀들과 상기 역상 패턴들 상부의 상기 제 3 유전체 층을 노출시키는 제 2 홀들을 갖는 제 2 그물망 패턴; 및상기 제 2 그물망 패턴과 상기 제 3 유전체 층을 덮는 제 4 유전체 층을 더 포함하는 필터
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8
제 7 항에 있어서, 상기 제 2 홀들은 상기 제 1 홀들과 상기 역상 패턴들에 정렬되는 필터
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제 8 항에 있어서, 상기 제 3 유전체 층은 상기 제 2 유전체 층과 동일한 두께를 갖는 필터
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10
기판 상에 제 1 유전체 층을 형성하는 단계;상기 제 1 유전체 층의 일부를 노출시키는 적어도 하나의 제 1 홀을 갖는 제 1 그물망 패턴을 형성하는 단계;상기 제 1 그물망 패턴을 덮는 제 2 유전체 층을 형성하는 단계;상기 제 2 유전체 층 상에 상기 제 1 홀과 동일한 모양을 갖는 역상 패턴을 형성하는 단계;상기 역상 패턴과 상기 제 2 유전체 층 상에 제 3 유전체 층을 덮는 단계; 및상기 제 1 유전체 층으로부터 상기 기판을 분리하는 단계를 포함하는 필터의 제조방법
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제 10 항에 있어서,상기 제 1 홀들 및 상기 역상 패턴들 상부의 상기 제 3 유전체 층을 노출시키는 제 2 홀들을 갖는 제 2 그물망 패턴을 형성하는 단계; 및상기 제 2 그물망 패턴과 상기 제 3 유전체 층을 덮는 제 4 유전체 층을 형성하는 단계를 더 포함하는 메타물질 구조를 갖는 필터의 제조방법
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제 11 항에 있어서,상기 제 1 및 제 2 그물망 패턴들 및 상기 역상 패턴은 잉크젯 프린팅 방법으로 형성되는 필터의 제조방법
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제 12 항에 있어서, 상기 제 1 내지 제 4 유전체 층들은 스핀코팅방법으로 형성되는 필터의 제조방법
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