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멤스 마이크로폰 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015089819
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 멤스 마이크로폰 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 기판; 상기 기판의 전면 내부에 형성되어 있는 후방음향챔버; 상기 기판 상부에 형성되고, 배기 구멍을 가지는 진동판; 상기 진동판 상부에 형성되는 고정전극; 및 상기 후방음향챔버의 바닥에 지지되고, 상기 배기 구멍을 통해 상기 고정전극에 연결되는 고정전극 지지대를 포함한다.
Int. CL H01L 29/84 (2006.01) H04R 19/04 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020110104107 (2011.10.12)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2013-0039504 (2013.04.22) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 18

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 제창한 대한민국 대전광역시 유성구
2 이재우 대한민국 대전광역시 유성구
3 양우석 대한민국 대전시 서구
4 김종대 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김용인 대한민국 서울특별시 송파구 올림픽로 ** (잠실현대빌딩 *층)(특허법인(유한)케이비케이)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.10.12 수리 (Accepted) 1-1-2011-0797316-65
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2013.01.23 수리 (Accepted) 1-1-2013-0064539-16
3 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2013.08.28 수리 (Accepted) 1-1-2013-0785027-18
4 [대리인사임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Resignation of Agent] Report on Agent (Representative)
2014.11.18 수리 (Accepted) 1-1-2014-1110974-46
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
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번호 청구항
1 1
기판;상기 기판의 전면 내부에 형성되어 있는 후방음향챔버;상기 기판 상부에 형성되고, 배기 구멍을 가지는 진동판;상기 진동판 상부에 형성되는 고정전극; 및상기 후방음향챔버의 바닥에 지지되고, 상기 배기 구멍을 통해 상기 고정전극에 연결되는 고정전극 지지대;를 포함하는 멤스 마이크로폰
2 2
제1항에 있어서,상기 진동판은 상기 기판의 상부 표면과 같은 높이에 형성되거나, 상기 기판으로부터 일정 간격 이격되어 형성되는 것을 특징으로 하는 멤스 마이크로폰
3 3
제1항에 있어서,상기 진동판은 외주연에 형성된 진동판-기판 연결부를 이용하여 상기 기판에 연결되는 것을 특징으로 하는 멤스 마이크로폰
4 4
제1항에 있어서,상기 고정전극은 상기 진동판으로부터 일정 간격 이격되어 형성되는 것을 특징으로 하는 멤스 마이크로폰
5 5
제1항에 있어서,상기 고정전극은 외주연에 형성된 고정전극-기판 연결부를 이용하여 상기 기판에 연결되는 것을 특징으로 하는 멤스 마이크로폰
6 6
제1항에 있어서,상기 배기 구멍의 직경은 상기 고정전극 지지대의 횡단면의 직경보다 큰 것을 특징으로 하는 멤스 마이크로폰
7 7
제1항에 있어서,상기 고정전극 지지대의 외벽과 상기 후방음향챔버 내벽에는 식각방지벽이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 멤스 마이크로폰
8 8
제7항에 있어서,상기 식각방지벽은 산화막, 질화막 및 메탈 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 멤스 마이크로폰
9 9
제1항에 있어서,상기 고정전극은 메탈과 절연막으로 구성되는 것을 특징으로 하는 멤스 마이크로폰
10 10
기판;상기 기판의 전면 내부에 형성되어 있는 후방음향챔버;상기 기판 상부에 형성되고, 다수의 배기 구멍을 가지는 진동판;상기 진동판 상부에 형성되는 고정전극; 및상기 후방음향챔버의 바닥에 지지되고, 상기 다수의 배기 구멍을 통해 상기 고정전극에 연결되는 다수의 고정전극 지지대;를 포함하는 멤스 마이크로폰
11 11
제10항에 있어서,각각의 배기 구멍의 직경은 각각의 고정전극 지지대의 횡단면의 직경보다 큰 것을 특징으로 하는 멤스 마이크로폰
12 12
제10항에 있어서,각각의 고정전극 지지대의 외벽과 상기 후방음향챔버 내벽에는 식각방지벽이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 멤스 마이크로폰
13 13
제12항에 있어서,상기 식각방지벽은 산화막, 질화막 및 메탈 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 멤스 마이크로폰
14 14
기판의 다측 영역을 일정 깊이만큼 식각하여 고정전극 지지대를 형성하는 단계;식각된 영역에 식각방지용 물질을 매립하여 식각방지벽을 형성하는 단계;상기 기판 상부에 제1 희생층을 형성하는 단계;상기 제1 희생층 상부에 진동판을 형성하는 단계;상기 진동판 상부에 제2 희생층을 형성하는 단계;상기 제2 희생층 상부에 고정전극을 형성하는 단계;상기 제1 희생층 및 상기 제2 희생층을 제거하는 단계; 및상기 진동판 하부의 기판을 식각하여 후방음향챔버를 형성하는 단계;를 포함하는 멤스 마이크로폰의 제조 방법
15 15
제14항에 있어서, 상기 고정전극 지지대를 형성하는 단계에서,상기 기판의 다측 영역을 이방성 식각을 통해 상기 고정전극 지지대의 높이와 상기 후방음향챔버의 깊이만큼 식각하여 상기 고정전극 지지대를 형성하는 것을 특징으로 하는 멤스 마이크로폰의 제조 방법
16 16
제14항에 있어서, 상기 고정전극을 형성하는 단계는,상기 제2 희생층 상부에 메탈을 증착하는 단계; 및상기 메탈 상부에 절연막을 증착하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 멤스 마이크로폰의 제조 방법
17 17
제14항에 있어서, 상기 제1 희생층 및 상기 제2 희생층을 제거하는 단계에서,상기 제1 희생층 및 상기 제2 희생층을 건식 식각 또는 습식 식각을 통해 제거하는 것을 특징으로 하는 멤스 마이크로폰의 제조 방법
18 18
제14항에 있어서, 상기 후방음향챔버를 형성하는 단계에서,상기 진동판 하부의 기판을 등방성 식각을 통해 식각하는 것을 특징으로 하는 멤스 마이크로폰의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US08705777 US 미국 FAMILY
2 US20130094675 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2013094675 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US8705777 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.