1 |
1
하우징;상기 하우징 내에 형성된 평판형 광회로 소자;상기 평판형 광회로 소자의 일측의 상기 하우징 내에 형성된 펌프 광 소스; 및상기 펌프 광 소스에 대향되는 상기 평판형 광회로 소자의 타측의 상기 하우징 내에 형성된 변조부를 포함하는 파장가변 외부공진 레이저
|
2 |
2
제 1 항에 있어서,상기 하우징은 상기 펌프 광 소스, 상기 평판형 광회로 소자, 및 상기 변조부를 각각 둘러싸는 제 1 내지 제 3 하우징을 포함하는 파장가변 외부공진 레이저
|
3 |
3
제 2 항에 있어서,상기 변조부에 고주파 신호를 전달하고, 상기 제 3 하우징에 체결되는 고주파 커넥터를 더 포함하는 파장가변 외부공진 레이저
|
4 |
4
제 3 항에 있어서,상기 고주파 커넥터에서 상기 제 3 하우징 내부의 상기 변조부에 연결되는 고주파 리드 프레임과, 상기 고주파 리드 프레임에 형성된 임피던스 매칭 저항을 더 포함하는 파장가변 외부공진 레이저
|
5 |
5
제 4 항에 있어서,상기 변조부는 이에이 변조기를 포함하는 파장가변 외부공진 레이저
|
6 |
6
제 5 항에 있어서,상기 변조부는 상기 이에이 변조기에 단일집적되는 광증폭기를 더 포함하는 파장가변 외부공진 레이저
|
7 |
7
제 6 항에 있어서,상기 광 증폭기는 상기 펌프 광 소스에서 상기 평판형 광회로 소자까지의 연장선에 수직인 입력단과, 상기 연장선에서 기울어진 출력단을 갖는 파장가변 외부공진 레이저
|
8 |
8
제 6 항에 있어서,상기 변조부는 상기 광증폭기와 상기 이에이 변조기의 마주보는 양측 외곽에 형성된 비반사 코팅막들을 더 포함하는 파장가변 외부공진 레이저
|
9 |
9
제 6 항에 있어서,상기 변조부는 상기 광증폭기와 상기 이에이 변조기의 온도를 일정하게 유지하는 열전 냉각기와 써미스터를 더 포함하는 파장가변 외부공진 레이저
|
10 |
10
제 2 항에 있어서,상기 펌프 광 소스는 패키지 프레임에 형성된 2-부분 수퍼루미네센스 다이오드를 구비한 티오캔 패키지를 포함하는 파장가변 외부공진 레이저
|
11 |
11
제 10 항에 있어서,상기 제 1 하우징은 상기 패키지 프레임과, 상기 패키지 프레임 상의 상기 2-부분 수퍼루미네센스 다이오드를 둘러싸는 패키지 캡을 포함하는 파장가변 외부공진 레이저
|
12 |
12
제 10 항에 있어서,상기 2-부분 수퍼루미네센스 다이오드는 이득 영역과, 미세 변조 영역을 포함하는 파장가변 외부공진 레이저
|
13 |
13
제 12 항에 있어서,상기 이득 영역과 상기 미세 변조 영역은 5도 내지 15도로 기울어진 파장가변 외부공진 레이저
|
14 |
14
제 10 항에 있어서,상기 티오캔 패키지는 상기 2-부분 수퍼루미네센스 다이오드에서 상기 평판형 광회로 소자까지 펌프 광의 진행 경로를 변경하는 거울을 포함하는 파장가변 외부공진 레이저
|
15 |
15
제 2 항에 있어서,상기 평판형 광회로 소자는 브래그 그레이팅을 구비하는 폴리머 도파로를 포함하는 파장가변 외부공진 레이저
|
16 |
16
제 1 항에 있어서,상기 하우징은 상기 펌프 광 소스를 둘러싸는 제 1 하우징과, 상기 평판형 광회로 소자 및 상기 변조부를 동시에 둘러싸는 제 4 하우징을 포함하는 파장가변 외부공진 레이저
|