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입사된 레이저 빔에 의해 이온을 발생시키되, 반구 형태의 거품을 형성할 수 있는 이온 발생용 물질; 및상기 반구 형태의 거품을 지지하는 지지부를 포함하는 이온 발생용 타깃
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제 1항에 있어서,상기 이온은 양성자 또는 탄소 이온인 이온 발생용 타깃
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제 2항에 있어서,상기 이온은 양성자이고, 상기 이온 발생용 물질은 물인 이온 발생용 타깃
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제 2항에 있어서,상기 이온은 탄소 이온이고, 상기 이온 발생용 물질은 탄소 성분을 포함하는 기름인 이온 발생용 타깃
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제 1항에 있어서,상기 지지부는 투명 기판 또는 고리형 거품 지지대인 이온 발생용 타깃
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제 1항에 있어서,상기 거품의 막의 두께는 상기 이온 발생용 물질의 점도에 의해 조절되는 이온 발생용 타깃
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제 1항에 있어서,상기 이온 발생용 물질은 그래핀 분말 또는 흑연 분말을 더 포함하는 이온 발생용 타깃
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제 1항의 이온 발생용 타깃;상기 지지부 상에 상기 이온 발생용 물질을 상기 반구 형태의 거품으로 형성하기 위한 거품 발생 부재; 및상기 이온 발생용 물질로부터 이온을 발생시켜 환자의 종양 부위로 투사하기 위해, 상기 거품의 표면으로 레이저 빔을 입사시키기 위한 레이저를 포함하는 이온 빔 치료 장치
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제 8항에 있어서,상기 지지부는 투명 기판 또는 고리형 거품 지지대인 이온 빔 치료 장치
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제 9항에 있어서,상기 지지부는 투명 기판이고, 상기 거품 발생 부재는:공기 발생 장치; 및상기 공기 발생 장치로부터 발생한 공기를 상기 투명 기판과 상기 이온 발생용 물질 사이로 제공하여 상기 거품을 형성하는 공기 전달용 도관을 포함하는 이온 빔 치료 장치
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제 10항에 있어서,상기 거품의 크기 및 상기 거품의 막의 두께는 상기 공기의 압력에 의해 조절되는 이온 빔 치료 장치
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제 9항에 있어서,상기 지지부는 고리형 거품 지지대이고, 상기 거품 발생 부재는 상기 고리형 거품 지지대의 고리 부분으로 바람을 보내는 바람 발생 장치인 이온 빔 치료 장치
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제 12항에 있어서,상기 거품의 크기 및 상기 거품의 막의 두께는 상기 바람의 속도에 의해 조절되는 이온 빔 치료 장치
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제 8항에 있어서,상기 레이저 빔은 상기 거품의 중앙 표면에 비스듬하게 입사되는 이온 빔 치료 장치
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제 8항에 있어서,상기 레이저 빔은 상기 거품의 외측 표면 또는 내측 표면으로 입사되는 이온 빔 치료 장치
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제 8항에 있어서,상기 레이저 빔은 펨토 초 레이저 빔인 이온 빔 치료 장치
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제 8항에 있어서,상기 거품의 상기 표면으로 상기 레이저 빔을 집약하기 위한 광학 부재를 더 포함하는 이온 빔 치료 장치
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제 8항에 있어서,상기 거품의 상기 표면으로 상기 레이저 빔을 집약하기 위한 광학 부재를 내장하는 진공 챔버를 더 포함하는 이온 빔 치료 장치
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제 18항에 있어서,상기 진공 챔버는:상기 레이저 빔이 입력되는 입력창;상기 레이저 빔을 집약하기 위한 상기 광학 부재; 및상기 거품의 상기 표면으로 상기 집약된 레이저 빔을 입사시키기 위한 출력창을 포함하는 이온 빔 치료 장치
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제 19항에 있어서,상기 광학 부재는:상기 입력된 레이저 빔을 반사시키는 평면 반사경; 및상기 반사된 레이저 빔을 반사시키는 동시에 집약하기 위한 비축 반사경을 포함하는 이온 빔 치료 장치
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