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베이스 기판 상에 인쇄 방법을 이용하여 전극 패턴을 형성할 인쇄층을 형성하는 단계;상기 인쇄층이 형성된 베이스 기판 상에 상기 인쇄층을 임베디드하기 위한 유기물 매립층을 형성하는 단계;상기 유기물 매립층 위에 인쇄층을 전사할 타겟 기판을 적층하고 라미네이션하는 단계; 및 상기 타겟 기판에 디라미네이션 공정을 이용하여 상기 유기물 매립층과 인쇄층을 상기 베이스 기판으로부터 이탈시키고 상기 타겟 기판으로 전사시켜 상기 인쇄층을 평탄화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 평탄화된 인쇄전자소자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 베이스 기판 상에 인쇄층을 형성하는 단계 이전에, 상기 베이스 기판 상에 표면 처리를 하거나 또는 표면층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평탄화된 인쇄전자소자의 제조 방법
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제 2 항에 있어서, 상기 베이스 기판과 인쇄층이 상기 디라미네이션 공정을 통해 박리되도록 표면 처리를 하는 것을 특징으로 하는 평탄화된 인쇄전자소자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 타겟 기판을 적층하고 라미네이션하는 단계는, 상기 타겟 기판에 라미네이션용 접착제를 코팅하고, 코팅된 타겟 기판이 상기 인쇄층이 인쇄된 베이스 기판과 부착되도록 라미네이션을 하는 것을 특징으로 하는 평탄화된 인쇄전자소자의 제조 방법
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제 4 항에 있어서,상기 라미네션용 접착제를 코팅하는 과정은, 상기 라미네이션용 접착제에 의해 부착된 상기 타겟 기판과 상기 유기물 매립층이 상기 디라미네이션 공정에 의해서도 그 접착이 유지될 수 있도록 열처리 과정을 통해 접착 상태를 조절하는 것을 특징으로 하는 평탄화된 인쇄전자소자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 라미네이션하는 단계는, 상기 타겟 기판 상에 라미네이션용 롤러를 이용하여 60℃ 내지 100℃사이에서 압력과 열을 가하는 것을 특징으로 하는 평탄화된 인쇄전자소자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 유기물 매립층을 형성하는 단계는,폴리아크릴레이트(Polyacrylate)를 비롯하여 폴리이미드(Polyimide, PI), 폴리우레탄(Polyurethane), 폴리에틸렌(polyethylene), 폴리메틸 메타크릴레이트(Poly(Methyl Methacrylate), PMMA), 폴리비닐페놀(poly(vinyl phenol), PVP), 폴리비닐알코올(Polyvinyl Alcohol, PVA)을 포함한 폴리머 잉크를 사용하여 폴리머 절연층을 형성하는 것을 특징하는 평탄화된 인쇄전자소자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 인쇄 방법은 잉크젯 프린팅, 그라비아 인쇄법, 스크린 인쇄법, 오프셋, 플렉소그라피, 리버스 오프셋 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 평탄화된 인쇄전자소자의 제조 방법
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타겟 기판;상기 타겟 기판 상에 디라미네이션 공정을 통해 전사된 유기물 매립층;상기 유기물 매립층에 임베디드되고 상기 유기물 매립층의 상면과 단차를 이루지 않고 평탄하게 형성된 인쇄층를 포함하는 평탄화된 인쇄전자소자
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제 9 항에 있어서, 상기 타겟 기판과 상기 유기물 매립층 사이에 접착제를 코팅하거나 접착 필름을 삽입한 접착층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평탄화된 인쇄전자소자
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