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제 1 면 및 상기 제 1 면에 대향하는 제 2 면을 포함하는 기판; 및상기 기판의 상기 제 2 면에 부착되어 상기 기판에 통과된 레이저 빔에 의해 이온 빔을 발생시키는 이온 발생용 박막을 포함하되,상기 기판은:상기 제 1 면에 배치되어 상기 레이저 빔을 유입시키고, 제 1 직경을 갖는 입사구: 상기 제 2 면에 배치되어 상기 제 1 직경보다 작은 제 1 직경을 갖고, 상기 레이저 빔을 상기 이온 발생용 박막으로 출사시키는 출사구; 및상기 입사구에서 상기 출사구까지 상기 기판을 관통하여 상기 제 1 면에서 상기 제 2 면의 방향으로 상기 입사구에서 상기 출사구까지 테이퍼지고 상기 제 1 및 제 2 면들의 반사율보다 높은 반사율을 갖는 상기 기판의 내벽에 의해 정의되고, 상기 입사구에서의 상기 레이저 빔을 상기 출사구로 집속하는 콘형 구멍을 더 포함하되,상기 이온 발생용 박막은 상기 제 2 면에서의 상기 출사구를 가로막아 상기 콘형 구멍을 차단하여 상기 출사구에 의해 정의되는 상기 레이저 빔의 노광 영역을 갖고, 상기 레이저 빔이 상기 콘형 구멍으로 제공될 때 상기 제 1 직경보다 작은 상기 제 2 직경과 동일하거나 상기 제 2 직경보다 작은 빔사이즈의 상기 이온 빔을 상기 콘형 구멍의 반대 방향으로 방출하는 이온 발생용 타깃
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제 1항에 있어서,상기 기판은 금속 물질을 포함하는 이온 발생용 타깃
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제 2항에 있어서,상기 금속 물질은 은, 구리, 금 또는 알루미늄을 포함하는 이온 발생용 타깃
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제 1항에 있어서,상기 기판은 절연 물질을 포함하는 이온 발생용 타깃
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제 4항에 있어서,상기 콘형 구멍에 의해 노출된 상기 기판의 내면 상에 제공된 콘형 금속 박막을 더 포함하는 이온 발생용 타깃
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제 5항에 있어서,상기 콘형 금속 박막은 은, 구리, 금 또는 알루미늄을 포함하는 이온 발생용 타깃
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제 5항에 있어서,상기 콘형 금속 박막의 내주면은 경면 처리된 이온 발생용 타깃
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제 1항에 있어서,상기 콘형 구멍에 의해 노출된 상기 기판의 내벽은 경면 처리된 이온 발생용 타깃
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제 1항에 있어서,상기 콘형 구멍의 내부에 제공되는 불활성 가스를 더 포함하는 이온 발생용 타깃
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10
제 1항에 있어서,상기 입사구의 상기 제 1 직경은 수십 μm이고, 그리고상기 출사구의 상기 제 2 직경은 수십 nm ~ 수 μm 범위인 이온 발생용 타깃
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11
제 1항에 있어서,상기 이온 빔은 양성자 또는 탄소 이온을 포함하는 이온 발생용 타깃
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제 11항에 있어서,상기 이온 빔은 양성자를 포함하고, 상기 이온 발생용 박막은 수소를 함유하는 물질을 포함하는 이온 발생용 타깃
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13
제 12항에 있어서,상기 수소를 함유하는 물질은 실리콘 질화물, 실리콘 산화물 또는 금속인 이온 발생용 타깃
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제 11항에 있어서,상기 이온 빔은 탄소 이온을 포함하고, 상기 이온 발생용 박막은 그래핀, 탄소 원자들이 구형 또는 기둥형으로 연결된 플러린, 또는 탄소 나노튜브를 포함하는 물질인 이온 발생용 타깃
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제 1항에 있어서,상기 기판은 복수의 콘형 구멍들을 가지되, 상기 복수의 콘형 구멍들을 정렬된 배열을 갖는 이온 발생용 타깃
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레이저 빔을 생성하는 레이저; 및상기 레이저 빔을 수신하여 이온 빔을 생성하는 이온 발생용 타깃을 포함하되,상기 이온 발생용 타깃은:제 1 면 및 상기 제 1 면에 대향하는 제 2 면을 포함하는 기판; 및상기 기판의 상기 제 2 면에 부착되어 상기 기판에 통과된 레이저 빔에 의해 상기 이온 빔을 발생시키는 이온 발생용 박막을 포함하되,상기 기판은:상기 제 1 면에 배치되어 상기 레이저 빔을 유입시키고, 제 1 직경을 갖는 입사구: 상기 제 2 면에 배치되어 상기 제 1 직경보다 작은 제 1 직경을 갖고, 상기 레이저 빔을 상기 이온 발생용 박막으로 출사시키는 출사구; 및상기 입사구에서 상기 출사구까지 상기 기판을 관통하여 상기 제 1 면에서 상기 제 2 면의 방향으로 상기 입사구에서 상기 출사구까지 테이퍼지고 상기 제 1 및 제 2 면들의 반사율보다 높은 반사율을 갖는 상기 기판의 내벽에 의해 정의되고, 상기 입사구에서의 상기 레이저 빔을 상기 출사구로 집속하는 콘형 구멍을 더 포함하되,상기 이온 발생용 박막은 상기 제 2 면에서의 상기 출사구를 가로막아 상기 콘형 구멍을 차단하여 상기 출사구에 의해 정의되는 상기 레이저 빔의 노광 영역을 갖고, 상기 레이저 빔이 상기 콘형 구멍으로 제공될 때 상기 제 1 직경보다 작은 상기 제 2 직경과 동일하거나 상기 제 2 직경보다 작은 빔사이즈의 상기 이온 빔을 생성하되,상기 콘형 구멍의 내부로 입사된 상기 레이저 빔은 콘형 구멍에 의한 집속에 의해 그 세기가 증강되고, 증강된 레이저 빔에 의해 상기 이온 발생용 박막으로부터 상기 이온 빔이 방출되는 이온 빔 치료 장치
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제 16항에 있어서,상기 콘형 구멍에 의해 노출된 상기 기판의 내벽은 경면 처리된 이온 빔 치료 장치
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제 16항에 있어서,상기 콘형 구멍의 내부에 제공되는 불활성 가스를 더 포함하는 이온 빔 치료 장치
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제 16항에 있어서,상기 레이저는 상기 기판의 상기 제 1 면 측에 배치되는 이온 빔 치료 장치
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제 16항에 있어서,상기 레이저 빔은 펨토 초 레이저 빔인 이온 빔 치료 장치
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