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기판;상기 기판 상에 제 1 방향으로 연장되는 제 1 전극;상기 제 1 전극 상의 층간 절연막; 및 상기 층간 절연막 상에 상기 제 1 방향과 교차되는 제 2 방향으로 연장되는 제 2 전극을 포함하되,상기 층간 절연막은 상기 기판으로 입사되는 가시 광으로부터 상기 제 1 전극과 상기 제 2 전극 사이의 정전 용량의 변화를 유도하는 양자 점들을 갖는 터치 스크린
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제 1 항에 있어서,상기 양자 점들은 실리콘 나노입자를 포함하는 터치 스크린
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제 2 항에 있어서,상기 실리콘 나노입자는 2나노미터 내지 7나노미터의 입경을 갖는 터치 스크린
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제 2 항에 있어서,상기 실리콘 나노입자는 1X1016 내지 1X1018개/cm3의 밀도로 게이트 절연막 내에 배치된 터치 스크린
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제 1 항에 있어서,상기 게이트 절연막은 실리콘 산화막 또는 실리콘 질화막을 포함하는 터치 스크린
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 전극 및 제 2 전극은 투명 금속을 포함하는 터치 스크린
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제 6 항에 있어서,상기 투명 금속은 인듐주석 산화물 또는 인듐아연 산화물을 포함하는 터치 스크린
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제 1 항에 있어서,상기 제 2 전극은, 상기 제 1 전극들로부터 상기 제 2 방향으로 분리되어 상기 기판 상에 형성된 분리 전극; 및 상기 분리 전극과 연결되며 상기 층간 절연막 상에 형성된 브릿지 전극을 포함하는 터치 스크린
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기판 상에 제 1 전극을 형성하는 단계;상기 제 1 전극 상에 양자 점을 갖는 층간 절연막을 형성하는 단계; 및상기 층간 절연막 상에 제 2 전극을 형성하는 단계를 포함하는 터치 스크린의 제조방법
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제 9 항에 있어서,상기 층간 절연막은 플라즈마 증강된 화학기상증착방법으로 형성된 터치 스크린의 제조방법
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제 10 항에 있어서,상기 플라즈마 증강된 화학기상증착방법은 실란 가스와 질소 가스를 소스 가스로 사용하는 터치 스크린의 제조방법
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제 11 항에 있어서,상기 실란 가스와 상기 질소 가스는 1:1000 내지 1:4000의 비율로 혼합된 터치 스크린의 제조방법
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제 10 항에 있어서,상기 플라즈마 증강된 화학기상증착방법은 실란 가스와 암모니아 가스를 소스 가스로 사용하는 터치 스크린의 제조방법
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제 13 항에 있어서,상기 실란 가스와 상기 암모니아 가스는 1:1 내지 1:5의 비율로 혼합된 터치 스크린의 제조방법
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