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이온 빔에 응답하여 광을 생성하는 섬광 검출 모듈;상기 광을 전기 펄스로 변환하는 광전 변환 모듈; 및상기 전기 펄스를 분석하여 상기 이온 빔의 에너지 분포 및 진행 경로를 계산하는 분석 모듈을 포함하며,상기 섬광 검출 모듈은, 제1 방향으로 신장되고 상기 이온 빔에 응답하여 제1 광을 생성하는 제1 섬광체, 및 상기 제1 광을 집광하여 생성된 광전자를 상기 광전 변환 모듈에 출력하는 제1 검출체를 포함하는 제1 섬광 검출 레이어; 및제2 방향으로 신장되고 상기 이온 빔에 응답하여 제2 광을 생성하는 제2 섬광체, 및 상기 제2 광을 집광하여 생성된 광전자를 상기 광전 변환 모듈에 출력하는 제2 검출체를 포함하는 제2 섬광 검출 레이어를 포함하되,상기 제1 섬광 검출 레이어 및 상기 제2 섬광 검출 레이어는 제3 방향으로 서로 인접하게 배치되는 이온 빔 프로파일러
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제 1항에 있어서,상기 제1 및 제2 섬광체들 각각은 삼각 기둥 구조, 사각 기둥 구조, 육각 기둥 구조 또는 원기둥 구조를 가지는 이온 빔 프로파일러
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제 1항에 있어서,상기 제1 및 제2 섬광체들 각각의 외벽은 감마선을 전반사하도록 형성되는 이온 빔 프로파일러
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삭제
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제 1항에 있어서,상기 제1 검출체는 상기 제1 섬광체와 상기 제2 방향으로 연결되고,상기 제2 검출체는 상기 제2 섬광체와 상기 제1 방향으로 연결되는 이온 빔 프로파일러
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제 1항에 있어서,상기 분석 모듈은 상기 전기 펄스를 시간에 대하여 적분한 값을 이용하여 상기 이온 빔의 입사 에너지를 계산하고, 상기 계산된 이온 빔의 입사 에너지를 이용하여 상기 이온 빔의 에너지 분포 및 진행 경로를 계산하는 이온 빔 프로파일러
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제 1항에 있어서,상기 분석 모듈은 상기 전기 펄스를 이용하여 상기 섬광 검출 모듈에서 상기 이온 빔이 소멸한 섬광 검출 레이어를 특정하고, 상기 특정된 섬광 검출 레이어의 위치를 이용하여 상기 이온 빔의 에너지 분포 및 진행 경로를 계산하는 이온 빔 프로파일러
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8
기초 이온 빔에 응답하여 광을 생성하며, 상기 기초 이온 빔을 이용하여 집속 이온 빔을 제공하는 섬광 검출 모듈;상기 광을 전기 펄스로 변환하는 광전 변환 모듈; 및상기 전기 펄스를 분석하여 상기 이온 빔의 에너지 분포 및 진행 경로를 계산하는 분석 모듈을 포함하며,상기 섬광 검출 모듈은 적층된 복수의 섬광 검출 레이어들을 포함하되, 적어도 하나의 홀이 상기 복수의 섬광 검출 레이어들 중 일부를 관통하도록 형성되고, 상기 복수의 섬광 검출 레이어들 각각은, 일방향으로 신장되며, 상기 이온 빔에 응답하여 상기 광을 생성하는 복수의 섬광체들을 포함하고,상기 복수의 섬광 검출 레이어들 중 서로 인접한 섬광 검출 레이어들 각각에 포함되는 섬광체의 신장 방향은 서로 다르고,상기 집속 이온 빔의 에너지 분포는 상기 홀에 응답하여 결정되는 이온 빔 필터
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제 8항에 있어서,상기 홀은 상기 섬광 검출 모듈의 입사면 측으로부터 형성되는 이온 빔 필터
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제 8항에 있어서,상기 홀은 상기 섬광 검출 모듈의 출력면 측으로부터 형성되는 이온 빔 필터
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제 8항에 있어서,상기 홀은 상기 섬광 검출 모듈의 내부에 형성되는 이온 빔 필터
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제 8항에 있어서,상기 집속 이온 빔의 에너지 분포는 상기 적어도 하나의 홀의 길이의 총합에 응답하여 결정되는 이온 빔 필터
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이온을 가속시켜 기초 이온 빔을 생성하는 이온 빔 생성기; 및상기 기초 이온 빔을 이용하여 집속 이온 빔을 제공하는 이온 빔 필터를 포함하고,상기 이온 빔 필터는 상기 기초 이온 빔에 응답하여 광을 생성하며, 상기 기초 이온 빔을 이용하여 집속 이온 빔을 제공하는 섬광 검출 모듈;상기 광을 전기 펄스로 변환하는 광전 변환 모듈; 및상기 전기 펄스를 분석하여 상기 이온 빔의 에너지 분포 및 진행 경로를 계산하는 분석 모듈을 포함하며,상기 섬광 검출 모듈은 적층된 복수의 섬광 검출 레이어들을 포함하되, 적어도 하나의 홀이 상기 복수의 섬광 검출 레이어들 중 일부를 관통하도록 형성되고, 상기 복수의 섬광 검출 레이어들 각각은, 일방향으로 신장되며, 상기 이온 빔에 응답하여 상기 광을 생성하는 복수의 섬광체들을 포함하고,상기 복수의 섬광 검출 레이어들 중 서로 인접한 섬광 검출 레이어들 각각에 포함되는 섬광체의 신장 방향은 서로 다르고,상기 집속 이온 빔의 에너지 분포는 상기 홀에 응답하여 결정되는 이온 빔 생성 장치
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제 13항에 있어서,상기 이온 빔 생성기는극초단 펄스 레이저를 생성하는 펄스 레이저;상기 극초단 펄스 레이저의 펄스 폭을 신장하는 펄스 신장기;상기 신장된 펄스 레이저 중 특정 펄스를 선택하는 펄스 선택기;상기 선택된 펄스의 크기를 증폭하는 증폭기; 및상기 증폭된 펄스의 펄스 폭을 축소하는 펄스 감축기를 포함하는 이온 빔 생성 장치
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제 14항에 있어서,상기 펄스 선택기는 포켈스 셀(Pockels Cell)을 포함하는 이온 빔 생성 장치
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