맞춤기술찾기

이전대상기술

저전력 구동을 위한 마이크로 반도체식 가스 센서 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015091795
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 저전력 구동을 위한 마이크로 반도체식 가스 센서 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 에어 갭(air gap)을 갖는 기판, 상기 기판 상에 제공되고 전극패드들을 포함하는 주변부, 상기 에어 갭 상에 플로팅(floating) 되고 상기 전극패드들로부터 연결되는 감지 전극들과 상기 감지 전극들상의 감지막을 포함하는 센서부 및 상기 주변부와 상기 센서부를 연결하고 상기 전극패드들과 상기 감지 전극들을 전기적으로 연결하는 도전선들을 포함하는 연결부를 포함하고, 상기 에어 갭은 상기 기판을 관통하고, 상기 에어 갭으로부터 상기 주변부와 상기 센서부 사이로 연장되는 열 고립영역이 제공되는 마이크로 반도체식 가스 센서 및 그의 제조 방법이 제공된다.
Int. CL G01N 27/12 (2006.01)
CPC G01N 27/12(2013.01) G01N 27/12(2013.01) G01N 27/12(2013.01)
출원번호/일자 1020130085557 (2013.07.19)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2015-0010473 (2015.01.28) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.04.22)
심사청구항수 7

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이대식 대한민국 대전 유성구
2 정문연 대한민국 대전광역시 유성구
3 김승환 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인 고려 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.07.19 수리 (Accepted) 1-1-2013-0654156-61
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2015.01.16 수리 (Accepted) 1-1-2015-0048803-70
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
4 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2016.04.22 수리 (Accepted) 1-1-2016-0390312-87
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2016.11.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2017.01.10 수리 (Accepted) 9-1-2017-0000353-45
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.01.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0076548-48
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.03.31 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0318197-89
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.03.31 수리 (Accepted) 1-1-2017-0318196-33
10 등록결정서
Decision to grant
2017.07.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0470554-54
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
에어 갭(air gap)을 갖는 기판;상기 기판 상에 제공되고, 전극패드들을 포함하는 주변부;상기 전극패드들로부터 연결되는 감지 전극들 및 상기 감지 전극들 상의 감지막을 포함하고, 상기 에어 갭 상에 플로팅(floating) 되는 센서부; 및상기 주변부와 상기 센서부를 연결하고, 상기 전극패드들과 상기 감지 전극들을 전기적으로 연결하는 도전선들을 포함하는 연결부를 포함하고,상기 에어 갭은 상기 기판을 관통하고,상기 에어 갭으로부터 상기 주변부와 상기 센서부 사이로 연장되는 열 고립영역이 제공되고,상기 연결부는 상기 열 고립영역에 의해 정의되는 측벽을 갖고 상기 주변부로부터 연장되는 하나의 캔티레버(cantilever) 형상을 포함하고,상기 주변부, 센서부 및 연결부는 차례로 적층된 제1 멤브레인, 제2 멤브레인 및 제3 멤브레인을 더 포함하되, 상기 제1 및 제3 멤브레인들은 실리콘 산화막 및 실리콘 질화막 중 어느 하나를 포함하고, 제2 멤브레인은 실리콘 산화막 및 실리콘 질화막 중 다른 하나를 포함하고,상기 센서부는 상기 제2 멤브레인 상의 히팅 저항체 및 상기 제1 멤브레인과 상기 제2 멤브레인 사이에 제공되는 열 분산막을 더 포함하는 마이크로 반도체식 가스 센서
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제 1 항에 있어서,상기 감지 전극들은 상기 제2 멤브레인 상에 제공되고, 상기 제3 멤브레인은 상기 감지 전극들을 노출하며 상기 히팅 저항체를 덮고, 상기 감지막은 상기 제3 멤브레인 상에 제공되고 상기 노출된 감지 전극들과 전기적으로 연결되는 마이크로 반도체식 가스 센서
5 5
삭제
6 6
제 1 항에 있어서,상기 센서부는 상기 제2 멤브레인과 상기 제3 멤브레인 사이에 제공되는 온도 센서를 더 포함하는 마이크로 반도체식 가스 센서
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 히팅 저항체는 백금(Pt), 금(Au), 텅스텐(W), 팔라듐(Pd), 실리콘(Si), 실리콘 합금 또는 전도성 금속 산화물 중 적어도 하나를 포함하는 마이크로 반도체식 가스 센서
8 8
삭제
9 9
삭제
10 10
제 1 항에 있어서, 상기 기판은 실리콘, 산화 알루미늄(Al2O3), 유리, 석영(quartz), 갈륨 비소(GaAs) 및 갈륨 질소(GaN) 중 적어도 하나를 포함하는 마이크로 반도체식 가스 센서
11 11
제 1 항에 있어서, 상기 감지 전극들은 백금(Pt), 금(Au), 텅스텐(W), 팔라듐(Pd), 실리콘(Si), 실리콘 합금 및 전도성 금속 산화물 중 적어도 하나를 포함하는 마이크로 반도체식 가스 센서
12 12
제 1 항에 있어서,상기 감지막은 금속 산화물, 금 나노입자, 그래핀(graphene), 탄소나노튜브(Carbon nanoTube), 풀러렌(fullerene) 및 이황화 몰리브덴(MoS2) 중 적어도 하나를 포함하는 마이크로 반도체식 가스 센서
13 13
삭제
14 14
삭제
15 15
삭제
16 16
삭제
17 17
삭제
18 18
삭제
19 19
삭제
지정국 정보가 없습니다
순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - 패밀리정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US20150021716 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - DOCDB 패밀리 정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2015021716 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.