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기판 상에 그래핀들이 포함된 용액을 제공하는 것;상기 기판 상에 패턴을 갖는 몰드를 눌러 상기 패턴에 상기 용액을 채우고, 상기 몰드에 온도 및 압력을 가해 상기 그래핀들을 상기 기판의 표면에 교차하게 배향시키는 것;상기 용액을 제거하는 것; 및상기 몰드를 상기 기판으로부터 분리하여 상기 기판 상에 상기 그래핀들을 포함하는 전극을 형성하는 것을 포함하는 그래핀 전극의 형성방법
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제 1 항에 있어서,상기 용액에 포함된 상기 그래핀들은 배향성 없이 상기 용액 내에 분포되어 있는 그래핀 전극의 형성방법
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제 1 항에 있어서,상기 용액은 열처리공정 또는 건조공정에 의해 제거되는 그래핀 전극의 형성방법
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제 1 항에 있어서,상기 기판 상에 상기 용액을 제공하는 것은, 상기 기판 상에 용액방울을 떨어뜨리거나 또는 상기 기판 상에 용액을 도포하여 용액막을 형성하는 것을 포함하는 그래핀 전극의 형성방법
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제 1 항에 있어서,상기 몰드는 PDMS, 폴리우레탄(PUA), 폴리염화비닐(PVC), 실리콘, 실리콘 산화물, 또는 니켈을 포함하는 그래핀 전극의 형성방법
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제 1 기판;상기 제 1 기판 상에 상기 제 1 기판의 표면에 교차하게 배향된 제 1 그래핀들을 포함하는 제 1 그래핀 전극;
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제 6 항에 있어서,상기 제 1 그래핀 전극은 상기 제 1 그래핀들과 결합 및/또는 혼합 또는 상기 제 1 그래핀들 사이를 채우는 활물질을 더 포함하는 커패시터
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제 7 항에 있어서,상기 활물질은 산화물, 질화물, 이들의 혼합물질 또는 전기전도성 고분자 물질인 커패시터
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제 6 항에 있어서,상기 제 1 그래핀 전극 및 상기 제 2 그래핀 전극은 돌출영역과 오목영역을 반복적으로 가지며, 상기 제 1 그래핀 전극의 돌출영역과 상기 제 2 그래핀 전극의 돌출영역 및 상기 제 1 그래핀 전극의 오목영역 및 상기 제 2 그래핀 전극의 오목영역은 서로 마주보며 배치되는 커패시터
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제 9 항에 있어서,상기 분리막은 상기 제 1 그래핀 전극과 상기 제 2 그래핀 전극의 돌출영역들 사이에 제공되고, 상기 오목 영역들 사이에는 제공되지 않는 커패시터
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11
제 6 항에 있어서,상기 제 1 기판 상에 상기 제 1 기판에 수평으로 배향된 제 1 수평 그래핀들; 및상기 제 2 기판 상에 상기 제 2 기판에 수평으로 배향된 제 2 수평 그래핀들을 더 포함하는 커패시터
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제 11 항에 있어서,서로 인접하는 상기 제 1 그래핀 전극과 상기 제 2 그래핀 전극의 일부 영역에 상기 분리막을 관통하는 홀들을 포함하는 커패시터
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제 6 항에 있어서,상기 제 1 그래핀 전극 및 상기 제 2 그래핀 전극 사이를 채우는 전해질을 더 포함하는 커패시터
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제 13 항에 있어서,상기 분리막은 기공들을 포함하되,상기 전해질은 상기 제 1 그래핀들 사이의 공간 상기 제 2 그래핀들 사이의 공간 및 상기 기공들의 일부 또는 전부를 채우는 커패시터
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제 6 항에 있어서,상기 제 1 기판 및 상기 제 2 기판은 고분자 기판, 알루미늄과 같은 금속 물질이 코팅된 기판, 금속 기판, 금속호일 또는 실리콘 및 유리가 혼합된 기판인 커패시터
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