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나노와이어 물질과 고분자 물질의 혼합 용액을 제조하는 단계;접지된 기판에 상기 혼합 용액을 전기방사 방식으로 분사하여 나노와이어 라인패턴을 형성하는 단계;상기 나노와이어 라인 패턴이 형성된 상기 기판을 그래핀 시트 분산 용액에 디핑하는 단계; 및상기 나노와이어 라인패턴 간의 경계면을 제거하도록 열처리를 실시하는 단계를 포함하는 나노와이어와 그래핀 혼성(hybrid) 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 나노와이어 물질은 금속 계열의 Ag, Cu, Au, Pt, Mo, W, Ni, Cr 중 어느 하나인나노와이어와 그래핀 혼성 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 고분자 물질은 폴리비닐 알코올(PVA), 폴리우레탄(PU), 폴리이미드(PI), 폴리에틸렌 옥사이드(PEO), 폴리비닐 피놀리딘(PVP), 폴리스티렌(PS), 및 폴리아크릴 나이트릴(PAN)로 이루어진 군에서 일종 이상 선택되는나노와이어와 그래핀 혼성 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 나노와이어 라인 패턴의 선폭은 10 내지 90 ㎛ 인 나노와이어와 그래핀 혼성 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 혼합 용액을 제조하는 단계는,나노와이어를 용제 내에 0
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제1항에 있어서,나노와이어 라인패턴을 형성하는 단계는,시린지 내에 상기 혼합 용액을 주입하는 단계;노즐과 플레이트 간의 거리를 3 내지 5 mm로 조절하는 단계;노즐과 플레이트 사이에 1 내지 1
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제1항에 있어서,상기 열처리를 실시하는 단계는 70 내지 90℃의 온도에서 5 내지 20분간 열처리를 실시하는 나노와이어와 그래핀 혼성 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 나노와이어와 그래핀 혼성 구조체는 메쉬 형태를 갖는 나노와이어와 그래핀 혼성 구조체의 제조방법
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제1항 내지 제8항 중 어느 하나의 항에 따른 방법으로 제조된 나노와이어와 그래핀 혼성 구조체를 적용한 투명 전극
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