1 |
1
제 1 영역 그리고 상기 제 1 영역의 외곽을 점유하는 제 2 영역을 갖는 기판;상기 제 1 영역에서 상기 기판의 상부에 형성된 리세스 영역들;상기 기판 상에 제공되며, 상기 리세스 영역들과 연결되는 복수개의 제 1 구멍들을 가지는 제 1 멤브레인;상기 제 1 멤브레인 상에 제공되는 발열저항체;상기 제 1 멤브레인 상에 제공되어 상기 발열저항체를 덮으며 상기 리세스 영역들과 연결되는 복수개의 제 2 구멍들을 가지는 제 2 멤브레인; 및상기 제 1 영역 내의 상기 제 2 멤브레인 상에 제공되는 가스흡수체들 및 가스센서들을 포함하되, 상기 가스 센서들은 전기화학식 가스 센서를 포함하며,상기 전기 화학식 가스 센서는,상기 제 2 멤브레인 상에 배치되는 고체 전해질 패턴; 상기 제 2 멤브레인 상에 배치되며 상기 고체 전해질 패턴의 일 단부와 접하는 기준 물질 패턴; 및상기 제 2 멤브레인 상에 배치되며 상기 고체 전해질 패턴의 다른 단부와 접하는 감지 물질 패턴을 포함하는 전자 후각 소자
|
2 |
2
제 1 항에 있어서,상기 제 1 구멍들은 상기 제 2 구멍들과 각각 수직적으로 중첩되는 전자 후각 소자
|
3 |
3
제 1 항에 있어서,상기 가스흡수체들과 상기 가스센서들은 제 1 방향을 따라 교대로 배치되는 전자 후각 소자
|
4 |
4
제 1 항에 있어서,상기 가스 센서들은 반도체식 가스센서 및 접촉연소식 가스센서 중 적어도 하나를 더 포함하는 전자 후각 소자
|
5 |
5
제 1 항에 있어서,상기 제 2 구멍들은 상기 가스 흡수체들과 상기 가스 센서들 사이에 배치되는 전자 후각 소자
|
6 |
6
제 1 항에 있어서,상기 리세스 영역들은 상기 제 1 멤브레인의 하부면을 노출시키는 전자 후각 소자
|
7 |
7
삭제
|
8 |
8
제 1 항에 있어서,상기 기준 물질 패턴과 상기 감지 물질은 각각 평면적으로 인터디지털, 그리드형 및 사각형 중 어느 하나의 형태를 가지는 전자 후각 소자
|
9 |
9
제 1 항에 있어서,상기 제 2 영역에서 상기 제 2 멤브레인 상에 배치되는 발열저항체 패드 및 감지 전극 패드를 더 포함하는 전자 후각 소자
|
10 |
10
서로 대향되는 제 1 면과 제 2 면을 가지는 기판;상기 제 1 면에 인접한 상기 기판에 형성된 제 1 리세스 영역들;상기 제 2 면에 인접한 상기 기판에 형성된 제 2 리세스 영역들;상기 기판의 제 1 면 상에 제공되며 상기 제 1 리세스된 영역들과 연결되는 복수개의 제 1 구멍들을 가지는 제 1 멤브레인;상기 기판의 제 2 면 상에 제공되며 상기 제 2 리세스된 영역들과 연결되는 복수개의 제 2 구멍들을 가지는 제 2 멤브레인;상기 제 1 멤브레인 상에 배치되며 서로 이격된 가스 흡수체들; 및상기 제 2 멤브레인 상에 배치되며 서로 이격된 가스 센서들을 포함하는 전자 후각 소자
|
11 |
11
제 10 항에 있어서,상기 제 1 구멍들은 상기 가스 흡수체들 사이에 배치되고,상기 제 2 구멍들은 상기 가스 센서들 사이에 배치되는 전자 후각 소자
|
12 |
12
제 10 항에 있어서,상기 가스 흡수체들 사이 또는 상기 가스 센서들 사이에서 상기 제 2 멤브레인, 상기 기판 및 상기 제 1 멤브레인을 관통하는 가스흐름용 구멍을 더 포함하는 전자 후각 소자
|
13 |
13
제 12 항에 있어서,상기 가스흐름용 구멍은 위치에 따라 폭이 다른 전자 후각 소자
|