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제 1 기판과 상기 제 1 기판 아래에 놓이는 제 2 기판;상기 제 1 기판 아래에 순차적으로 배치되는 제 1 주름막, 제 1 전극 및 전기화학반응층;상기 제 2 기판 상에 배치되는 제 2 전극; 상기 전기화학반응층과 상기 제 2 전극 사이에 배치되는 전해질층; 및상기 제 2 전극과 상기 제 2 기판 사이에 개재되는 제 2 주름막을 포함하되,상기 제 1 주름막 및 상기 제 2 주름막은 각각 주름 구조를 가지며, 상기 전기화학반응층, 상기 제 1 전극 및 상기 제 2 전극은 상기 주름 구조가 전사된 표면 형태를 가지는 표시 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 주름막 및 상기 제 2 주름막의 주름들 간의 간격과 주름의 폭은 각각 1nm~99㎛인 표시 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 전극과 상기 제 2 전극은 투명한 표시 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 주름막 및 상기 제 2 주름막은 유기 고분자막으로 이루어지는 표시 장치
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제 1 항에 있어서,상기 전기 화학 반응층은 전기 변색층 또는 전기 화학 발광층이며, 상기 표시 장치는 전기 변색 소자 또는 전기 화학 발광 소자인 표시 장치
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제 1 기판 상에 주름들을 가지는 제 1 주름막을 형성하는 단계;상기 제 1 주름막 상에 제 1 전극과 전기화학반응층을 차례로 콘포말하게 형성하는 단계;제 2 기판 상에 주름들을 가지는 제 2 주름막을 형성하는 단계;상기 제 2 주름막 상에 제 2 전극을 형성하는 단계; 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판을 합착시키는 단계; 및상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판 사이에 전해질액을 주입하는 단계를 포함하는 표시 장치의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 제 1 주름막을 형성하는 단계는,프리 폴리머를 포함하는 조성물을 제 1 기판 상에 코팅하는 단계; 및상기 조성물을 경화시키는 단계를 포함하는 표시 장치의 제조 방법
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제 8 항에 있어서,상기 제 1 주름막은 유기 고분자막으로 이루어지는 표시 장치의 제조 방법
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제 9 항에 있어서,상기 조성물은 광경화 개시제를 더 포함하며, 상기 조성물을 경화시키는 단계는 상기 조성물에 대하여 자외선을 조사하는 단계를 포함하는 표시 장치의 제조 방법
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제 10 항에 있어서,상기 제 1 주름막을 형성하는 단계는, 상기 제 1 주름막의 주름 두께와 주름들 간의 간격과 주름 폭을 조절하는 단계를 포함하며,상기 조성물을 코팅하는 속도를 증가시킬수록 상기 주름 두께는 얇아지고 상기 주름간 간격과 주름 폭은 좁아지는 표시 장치의 제조 방법
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제 7항에 있어서,상기 제 2 주름막은 상기 제 1 주름막과 동일한 방법으로 형성되는 표시 장치의 제조 방법
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