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이차원 물질을 이용한 접합 전자 소자의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015092482
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 이차원 물질들을 화학적으로 박리(exfoliation)하여 원하는 위치에 배치하여 접합 전자 소자를 제작하는 방법에 관한 것으로, 상기 방법은 기판의 표면을 표면처리하여 패턴을 형성하는 단계; 상기 패턴이 형성된 기판 상에 이차원 물질 조각을 용해시킨 액체 용액을 분사하여 이차원 물질을 전사하는 단계; 기판 상에 배치된 이차원 물질 양쪽에 제 1 전극을 형성하는 단계; 상기 형성된 제 1 전극위에 유전체층을 형성하는 단계; 및 상기 유전체층 위에 제 2 전극을 형성하는 단계를 포함하며, 이와 같은 방법을 통해 특정 기판 위에 선택적으로 이차원 물질 만을 배치할 수 있어 다양한 이차원 물질 기반 접합 소자를 용이하게 제작할 수 있다.
Int. CL H01B 13/00 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020140014679 (2014.02.10)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2015-0093977 (2015.08.19) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유영준 대한민국 대전 서구
2 김진수 대한민국 서울 동대문구
3 최홍규 대한민국 대전광역시 유성구
4 최진식 대한민국 대전 서구
5 김진태 대한민국 대전 유성구
6 정광효 대한민국 대전 유성구
7 윤두협 대한민국 대전 유성구
8 최춘기 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 문용호 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 ** 디타워 D* **층(법무법인세종)
2 이용우 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 ** 디타워 D* **층(법무법인세종)
3 강신섭 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 ** 디타워 D* **층(법무법인세종)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2014.02.10 수리 (Accepted) 1-1-2014-0125989-47
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
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번호 청구항
1 1
기판의 표면을 표면처리하여 패턴을 형성하는 단계;상기 패턴이 형성된 기판 상에 이차원 물질 조각을 용해시킨 액체 용액을 분사하여 이차원 물질을 전사하는 단계;상기 기판 상에 배치된 상기 이차원 물질 양쪽에 제 1 전극을 형성하는 단계;상기 제1 전극 위에 유전체층을 형성하는 단계; 및상기 유전체층 위에 제 2 전극을 형성하는 단계를 포함하는 이차원 물질을 이용한 접합 전자 소자의 제조방법
2 2
제 1 항에 있어서,상기 기판으로는 실리콘, 산화물 실리콘 및 플라스틱 기판으로 이루어진 군에서 선택되는 것인 이차원 물질을 이용한 접합 전자 소자의 제조방법
3 3
제 1 항에 있어서,상기 이차원 물질로는 MoS2, WS2, MoSe2 및 WSe2로 이루어진 군에서 선택될 수 있으며, 상기 이차원 물질이 용해되는 액체로는 에탄올과 물을 혼합한 용액이 선택되는 이차원 물질을 이용한 접합 전자 소자의 제조방법
4 4
제 1 항에 있어서,상기 기판의 표면처리는 원자힘현미경(atomic force microscope, AFM)을 이용한 기계적 리소그래피를 이용해서 시편 위에 원하는 패턴을 나노크기로 패터닝(Patterning)하는 것인 이차원 물질을 이용한 접합 전자 소자의 제조방법
5 5
제 1 항에 있어서,상기 기판의 표면처리는 상기 기판상에 폴리메틸 메타크릴레이트(PMMA)를 형성하고, 전자빔리소그래피(e-beam lithography)를 이용하여 상기 폴리메틸 메타크릴레이트(PMMA)를 패터닝하고, 이어서 개구된 부분에 자기조립분자(SAM)을 형성하고, 상기 폴리메틸메타크릴레이트를 제거하는 것인 이차원 물질을 이용한 접합 전자 소자의 제조방법
6 6
제 1 항에 있어서,상기 제1 및 제2 전극은 금속 전극 또는 그래핀이 사용되는 것인 이차원 물질을 이용한 접합 전자 소자의 제조방법
7 7
제 1 항에 있어서,상기 유전체층은 HfO2, AlO3 및 SiO2 로 이루어진 군에서 일종 이상 선택되는 물질로 형성되는 것인 이차원 물질을 이용한 접합 전자 소자의 제조방법
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1 US09275860 US 미국 FAMILY
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1 US2015228481 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US9275860 US 미국 DOCDBFAMILY
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