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기판;상기 기판의 표면에 형성된 전극;상기 전극의 하부에 위치되고, 상기 기판 내에 형성된 제1 다공성 구조체;상기 기판 상에 형성되고, 상기 전극을 노출시키는 개구부를 포함하는 전극 보호막; 및상기 개구부를 통해 노출된 상기 전극 상에 형성된 제2 다공성 구조체를 포함하는 플렉시블 전극
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제1항에 있어서,상기 제1 및 제2 다공성 구조체는 전도성 나노입자 또는 금속산화물을 포함하는플렉시블 전극
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제1항에 있어서,상기 제1 및 제2 다공성 구조체는 금 나노입자, 금-백금 복합 나노입자, 백금 및 IrOx로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 물질을 포함하는 플렉시블 전극
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제1항에 있어서,상기 전극은 금을 포함하는플렉시블 전극
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제1항에 있어서,상기 기판은 PMMA(폴리메틸 메타크릴레이트), PC(폴리카보네이트), LCP(액정 폴리머), 폴리이미드, PFA(퍼플루오로알콕시), PVDF(폴리비닐리덴 플루오라이드) 또는 테프론(Teflon)을 포함하는플렉시블 전극
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제1 기판 상에 전극을 형성하는 단계;상기 전극 상에 제1 다공성 구조체를 형성하는 단계;플렉시블한 제2 기판으로 상기 제1 다공성 구조체 및 상기 전극을 전사시키는 단계; 상기 플렉시블한 제2 기판 상에, 상기 전극을 노출시키는 개구부를 포함하는 전극 보호막을 형성하는 단계; 및상기 개구부 내에 노출된 상기 전극 상에 제2 다공성 구조체를 형성하는 단계를 포함하는 플렉시블 전극의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 전극을 형성하기 전에, 상기 제1 기판 상에 절연막을 형성하는 단계를 더 포함하는 플렉시블 전극의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 제1 다공성 구조체 및 상기 전극을 전사시키는 단계는,상기 제1 다공성 구조체 및 상기 전극이 형성된 상기 제1 기판에 상기 플렉시블한 제2 기판을 압축 성형하는 단계; 및상기 상기 제1 기판을 분리시키는 단계를 포함하는 플렉시블 전극의 제조방법
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제6항에 있어서, 상기 제1 및 제2 다공성 구조체는 전착(electro deposition) 방식으로 형성되는 플렉시블 전극의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 전극, 상기 제1 다공성 구조체 및 상기 제2 다공성 구조체는 금을 포함하는플렉시블 전극의 제조방법
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