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1
산화물 단결정 기판, 및 상기 기판 상에 Ba(Zrx, Ti1-x)O3(0<x<1), Ba(Hfy, Ti1-y)O3(0<y<1), 및 Ba(Snz, Ti1-z)O3(0<z<1)로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 포함하는 상유전체막을 포함하는 초고주파 가변 소자용 상유전체 박막
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2
제 1 항에 있어서, 상기 산화물 단결정 기판은 MgO, LaAl2O3, 및 Al2O3 으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나임을 특징으로 하는 초고주파 가변 소자용 상유전체 박막
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3
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 Ba(Zrx, Ti1-x)O3 은 0
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4 |
4
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 Ba(Hfy, Ti1-y)O3 은 0
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5 |
5
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 Ba(Snz, Ti1-z)O3 은 0
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6
제 1 항에 있어서, 상기 기판은 0
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7
제 1 항에 있어서, 상기 상유전체막은 0
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8
산화물 단결정 기판, 및상기 기판 상에 형성되고 Ba(Zrx, Ti1-x)O3(0<x<1), Ba(Hfy, Ti1-y)O3(0<y<1), 및 Ba(Snz, Ti1-z)O3(0<z<1)로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나를 포함하는 다층막(compositionally graded paraelectric film)을 포함하고,상기 다층막은 서로 다른 x, y, 또는 z를 갖는 복수의 상유전체막들을 적어도 2 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 초고주파 가변 소자용 상유전체 박막
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9
제 8 항에 있어서, 상기 산화물 단결정 기판은 MgO, LaAl2O3, 및 Al2O3 중에서 선택되는 어느 하나임을 특징으로 하는 초고주파 가변 소자용 상유전체 박막
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10
제 8 항 또는 제 9 항에 있어서, 상기 Ba(Zrx, Ti1-x)O3 은 0
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11
제 8 항 또는 제 9 항에 있어서, 상기 Ba(Hfy, Ti1-y)O3 은 0
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12
제 8 항 또는 제 9 항에 있어서, 상기 Ba(Snz, Ti1-z)O3 은 0
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13
제 8 항에 있어서, 상기 다층박막은 0
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14
산화물 단결정 기판, 상기 기판상에 형성되는 Ba(Zrx, Ti1-x)O3(0<x1), Ba(Hfy, Ti1-y)O3(0<y<1), 및 Ba(Snz, Ti1-z)O3(0<z<1)로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나를 포함하는 상유전체막, 및 상기 상유전체막 상에 형성되고 적어도 하나 이상의 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 초고주파 가변 소자
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15
제 14 항에 있어서, 상기 산화물 단결정 기판은 MgO, LaAl2O3, 및 Al2O3 중에서 선택되는 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 초고주파 가변 소자
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16
제 14 항에 있어서, Ba(Zrx, Ti1-x)O3(0<x1), Ba(Hfy, Ti1-y)O3(0<y<1), 및 Ba(Snz, Ti1-z)O3(0<z<1) 로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나를 포함하는 다층막을 포함하고, 상기 다층막은 x, y, 또는 z가 서로 다른 복수개의 상유전체막들이 적어도 2 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 초고주파 가변 소자
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17
제 14 항 또는 제 16 항에 있어서, 상기 Ba(Zrx, Ti1-x)O3 은 0
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18
제 14 항 또는 제 16 항에 있어서, 상기 상기 Ba(Hfy, Ti1-y)O3 은 0
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19
제 14 항 또는 제 16 항에 있어서, 상기 Ba(Snz, Ti1-z)O3 은 0
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20
제 14 항 또는 제 16 항에 있어서, 상기 전극은 Au, Ag, Al, Cu, Cr 및 Ti로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 초고주파 가변 소자
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제 14 항 또는 제 16 항에 있어서, 상기 초고주파 소자는 전압조절 가변 축전기, 가변 공진기, 가변 필터, 위상 변위기, 전압제어 발진기, 듀플렉서 및 가변 분배기로 이루어지는 군에서 선택되는 하나를 구성하는 것을 특징으로 하는 초고주파 가변 소자
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