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전도성 구성체들간의 기계적 접촉에 의해 전자 신호를 전달하는 저항식 전자기계적 접촉을 이용하는 미세전자기계적 소자에 있어서, 상기 전도성 구성체들중 적어도 어느 하나의 접촉면에 전도성 산화층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 저항식 전자기계적 접촉을 이용하는 미세전자기계적소자
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제1항에 있어서, 상기 전도성 구성체는 귀금속층으로 몸통을 구성하고, 상기 몸통 상에 상기 전도성 산화층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 저항식 전자기계적 접촉을 이용하는 미세전자기계적 소자
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전도성 구성체들간의 기계적 접촉에 의해 전자 신호를 전달하는 저항식 전자기계적 접촉을 이용하는 미세전자기계적 소자에 있어서, 상기 전도성 구성체들중 어느 하나는 전도성 산화층의 단일층으로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 저항식 전자기계적 접촉을 이용하는 미세전자기계적 소자
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제1항 또는 제3항에 있어서, 상기 전도성 산화층은 루테늄 산화막(ruthenium oxide), 이리듐 산화막(iridium oxide), 인디윰 산화막(indium oxide), 주석 산화막(tin oxide), 아연 산화막(zinc oxide) 또는 인디윰 주석 산화막(indium tin oxide)으로 구성하는 것을 특징으로 하는 저항식 전자기계적 접촉을 이용하는 미세전자기계적 소자
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제1항 또는 제3항에 있어서, 상기 전도성 산화층은 반응성 마그네트론 스퍼터링법과 같은 물리적 증착법 또는 유기금속화학증착법과 같은 화학적 증착법(chemical vapor deposition method)으로 형성된 것을 특징으로 하는 저항식 전자기계적 접촉을 이용하는 미세전자기계적 소자
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기판 상에 형성되고 입력단과 출력단의 두 부분이 단락된 신호선; 상기 신호선과 이격되어 기판 상에 형성된 하부전극; 상기 하부 전극과 이격되어 상기 기판 상에 형성된 앵커(anchor); 상기 앵커에 일단부가 고정되고 타단부는 상기 하부 전극 및 신호선의 단락부와 기판의 수직방향으로 일정 간격 떠있는 칸티레버; 상기 칸티레버의 타단부에 상기 신호선의 단락부와 마주보도록 형성된 콘택 패드; 및 상기 칸티레버 상에 형성된 상부전극을 포함하여 이루어지되, 상기 신호선 및 상기 콘택 패드의 표면중 적어도 어느 하나에는 전도성 산화층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 저항식 전자기계적 접촉을 이용하는 미세전자기계적 소자
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제6항에 있어서, 상기 신호선 및 콘택 패드는 귀금속층으로 몸통을 구성하고, 상기 몸통 상에 상기 전도성 산화층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 저항식 전자기계적 접촉을 이용하는 미세전자기계적 소자
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기판 상에 형성되고 입력단과 출력단의 두 부분이 단락된 신호선; 상기 신호선과 이격되어 기판 상에 형성된 하부전극; 상기 하부 전극과 이격되어 상기 기판 상에 형성된 앵커(anchor); 상기 앵커에 일단부가 고정되고 타단부는 상기 하부 전극 및 신호선의 단락부와 기판의 수직방향으로 일정 간격 떠있는 칸티레버; 상기 칸티레버의 타단부에 상기 신호선의 단락부와 마주보도록 형성되고 전도성 산화층으로 구성된 콘택 패드; 및 상기 칸티레버 상에 형성된 상부전극을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 저항식 전자기계적 접촉을 이용하는 미세전자기계적 소자
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제8항에 있어서, 상기 신호선은 귀금속층으로 구성하는 것을 특징으로 하는 저항식 전자기계적 접촉을 이용하는 미세전자기계적 소자
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제6항 또는 제8항에 있어서, 상기 전도성 산화층은 루테늄 산화막(ruthenium oxide), 이리듐 산화막(iridium oxide), 인디윰 산화막(indium oxide), 주석 산화막(tin oxide), 아연 산화막(zinc oxide) 또는 인디윰 주석 산화막(indium tin oxide)으로 구성하는 것을 특징으로 하는 저항식 전자기계적 접촉을 이용하는 미세전자기계적 소자
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제6항 또는 제8항에 있어서, 상기 전도성 산화층은 반응성 마그네트론 스퍼터링법과 같은 물리적 증착법 또는 유기금속화학증착법과 같은 화학적 증착법으로 형성된 것을 특징으로 하는 저항식 전자기계적 접촉을 이용하는 미세전자기계적 소자
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