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갈륨비소기판상에 활성영역을 정의하기 위해 감광막패턴을 형성한 다음, 상기 활성영역에 n형 불순물을 이온주입하는 공정과, 상기 감광막패턴을 제거한 다음 규소층과 금속층을 순차 형성하는 공정과, 상기 금속층 상에 감광막패턴을 형성하여 게이트를 정의하는 공정과, 상기 게이트정의용 감광막패턴을 마스크로 사용하여 상기 금속층 및 규소층을 제거하여 이중층의 게이트를 형성하는 공정과, 다시 감광막패턴을 상기 기판상에 형성하여 소오스/드레인영역을 정의한 다음 이 감광막패턴과 상기 이중층의 게이트를 마스크로 사용하여 고농도의 n형 불순물을 상기 소오스/드레인영역에 이온주입하는 공정과, 이어, 열처리공정에 의해 상기 규소층이 금속규화물로 변하고 아울러, 이 규소층과 접촉하는 상기 금속층의 일부분이 금속규화물로 변하게 하는 공정 및, 상기 소오스/드레인영역위에 오옴전극을 형성하는 공정을 포함하는 이중층의 내열성 게이트를 사용한 자기정렬형 GaAs 전계효과 트랜지스터의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 금속층은 텅스텐, 탄탈륨, 백금, 몰리브네늄 및 티타늄중 적어도 하나로 이루어진 자기정렬형 GaAs 전계효과 트랜지스터의 제조방법
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