반도체 재료의 물성분석을 위해 사용되는 시편보유기와 연결된 시편회전장치를 통해 고 진공장치 내부에서 시료표면을 식각하는 이온선 시각방법에 있어서, 상기 시편 보유기에 2차원 조절기능을 갖는 조정 수단은 부가하고, 상기 고 진공장치 외부에서 상기 조정수단에 연결되는 원격조정수단을 통해 상기 시료를 공기중에 노출시키지 않고 식각하고자 하는 정확히 회전중심에 조정되도록한 것을 특징으로 하는 반도체 재료의 물성분석용 이온선 식각장치에서의 회전중심 조절방법

반도체 재료의 물성분석을 위해 사용되는 시편보유기와 연결된 시편회전장치를 통해 고 진공장치 내부에서 시료표면을 식각하는 이온선 시각장치에 있어서, 상기 시편보유기에 조절부를 갖는 시편보유기(19)와; 상기 고 진공장치(16) 외부에서 연결되어 상기 시편 보유기를 조정하는 원격조정기(20)를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 재료의 물성분석용 이온선 식각장치에서의 회전중심 조절장치

제2항에 있어서, 상기 시편보유기(19)는 시편고정핀(2)과 시편고정나사(3)를 구비한 상부지지대(4)와, 상기 상부지지대(4)의 저면중심에 위치조정나사(6)의 나사홈에 연결되고 수명유지장치(8)에 의해 균형을 유지하는 중간지지대(5)와, 상기 상부지지대(4)와 상기 중간지지대(5)의 연결방법과 동일한 방법으로 상기 중간지지대(5)에 연결되되 상기 위치조정나사(6, 6')의 위치가 서로 직교되는 위치에 고정된 하부지지대(9)를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 재료의 물성분석용 이온선 식각장치에서의 회전중심 조절장치

제2항에 있어서, 상기 원격조정기(20)는 상기 위치조정나사(6, 6')를 조절할 수 있는 소정길이의 드라이버(13)와, 상기 고 진공장치(16) 외부에 고정되는 플랜지(12)와, 상기 플랜지(12)의 중심을 관통하고 일측에 조정래버(15)가 고정된 소정길이의 조정막대(l4)와, 상기 드라이버(13)와 상기 조정막대(14)를 연결하고 상기 조정막대(14)를 연결하고 상기 조정막대(14)와 상기 플랜지(12) 사이의 기밀을 유지시키는 벨로우즈(10) 및 회전전달 벨로우즈(11)를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 재료의 물성분석용 이온선 식각장치에서의 회전중심 조절장치