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투명한 평판을 준비하는 단계;상기 평판의 일면 상에 폴리머 박막을 형성하는 단계;상기 폴리머 박막의 표면을 화학적으로 처리하는 단계; 및상기 폴리머 박막 상에 마이크로 렌즈를 형성하는 단계를 포함하되, 상기 폴리머 박막의 표면을 화학적으로 처리하는 단계는, 상기 폴리머 박막의 표면 거칠기 또는 표면 조도를 증가시키는 것을 특징으로 하는 도광판 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 평판의 일면 상에 상기 폴리머 박막을 형성하는 단계는,폴리머 용액을 제조하는 단계; 및상기 폴리머 용액을 상기 평판의 일면 상에 코팅하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 도광판 제조 방법
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제 3 항에 있어서,상기 폴리머 용액을 제조하는 단계는,폴리머를 준비하는 단계;상기 폴리머에 대한 용해도가 큰 제 1 용매를 준비하는 단계; 및상기 폴리머를 상기 제 1 용매에 용해시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 도광판 제조 방법
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제 4 항에 있어서,상기 폴리머 박막의 표면을 화학적으로 처리하는 단계는,상기 폴리머에 대한 용해도가 낮은 제 2 용매를 준비하는 단계; 상기 폴리머 박막이 형성된 평판을 상기 제 2 용매에 디핑(dipping)하는 단계; 및건조 공정을 진행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 도광판 제조 방법
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제 5 항에 있어서,상기 폴리머 박막이 형성된 평판을 상기 제 2 용매에 디핑하는 단계는 상기 제 1 용매가 모두 증발하기 전에 진행되는 것을 특징으로 하는 도광판 제조 방법
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제 5 항에 있어서,상기 폴리머와 상기 평판 중 적어도 하나는 폴리메틸 메타크릴레이트(Poly Methyl Methacrylate, PMMA), 폴리스티렌(Polystyrene, PS), 폴리이미드(Polyimide, PI), 폴리퍼플루오로알킬에틸메타크릴라이트(poly(perfluoroalkylethyl methacrylate), PFMA), 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane, PDMS), 및 이의 유도체(derivative)를 포함하는 그룹에서 선택되는 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 도광판 제조 방법
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제 5 항에 있어서,상기 제 1 용매는 디클로로메탄인 것을 특징으로 하는 도광판 제조 방법
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제 5 항에 있어서,상기 제 2 용매는 톨루엔, 2-부타논, P-자일렌, 디클로로벤젠, 아세톤, 벤젠, 및 이소프로필 알콜을 포함하는 그룹에서 선택되는 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 도광판 제조 방법
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투명한 평판;상기 투명한 평판의 일면에 배치되는 폴리머 박막; 및상기 폴리머 박막 상에 배치되는 마이크로 렌즈들을 포함하되, 상기 폴리머 박막은 상기 평판의 표면 거칠기보다 큰 표면거칠기를 가지는 것을 특징으로 하는 도광판
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