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캐리어 가스가 유입되는 가스 유입구 및 내부에서 발생된 저온 대기압 플라즈마를 분사하는 플라즈마 분사구를 갖는 중공의 실린더 형태의 유전체 튜브; 상기 유전체 튜브 내에 설치되는 제 1 전극;상기 제 1 전극에 전원을 인가하는 전원부;상기 유전체 튜브의 상기 가스 유입구로 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급부; 및상기 유전체 튜브 내에서 발생되는 저온 대기압 플라즈마로 키토산을 공급하는 키토산 공급부를 포함하는 키토산 도포 장치
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제 1 항에 있어서,상기 유전체 튜브의 측벽에 상기 키토산 공급부로부터 키토산이 유입되는 키토산 유입구가 형성된 키토산 도포 장치
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제 1 항에 있어서,상기 키토산 공급부는 상기 캐리어 가스와 함께 상기 유전체 튜브의 상기 가스 유입구로 상기 키토산을 공급하는 키토산 도포 장치
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제 1 항에 있어서,상기 키토산 공급부는 상기 플라즈마 분사구에서 분사되는 상기 저온 대기압 플라즈마로 직접 상기 키토산을 공급하는 키토산 도포 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 전극은 막대 형태 또는 링 형태를 갖는 키토산 도포 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 전극은 상기 유전체 튜브보다 짧고 직경이 작은 중공의 실린더 형태를 갖되,상기 키토산 공급부는 상기 제 1 전극의 내부로 상기 키토산을 공급하며, 상기 캐리어 가스 공급부는 상기 유전체 튜브와 상기 제 1 전극 사이의 내부 공간으로 상기 캐리어 가스를 공급하는 키토산 도포 장치
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제 1 항에 있어서,상기 플라즈마 분사구의 직경이 상기 가스 유입구의 직경보다 작은 키토산 도포 장치
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제 1 항에 있어서,상기 전원부와 연결되며 상기 유전체 튜브에서 상기 플라즈마 분사구와 인접하게 설치된 제 2 전극을 더 포함하는 키토산 도포 장치
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제 1 항에 있어서,상기 전원부는 상기 제 1 전극과 직렬로 연결되어 아크 방전을 방지하는 저항기(resistor)를 더 포함하는 키토산 도포 장치
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캐리어 가스가 유입되는 가스 유입구 및 내부에서 발생된 저온 대기압 플라즈마를 분사하는 플라즈마 분사구를 갖는 중공의 실린더 형태의 제 1 유전체 튜브, 상기 제 1 유전체 튜브에 설치되는 제 1 전극, 상기 제 1 전극에 전원을 인가하는 전원부, 및 상기 제 1 유전체 튜브의 상기 가스 유입구로 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급부를 포함하는 플라즈마 발생 장치; 및중공의 실린더 형태를 갖는 제 2 유전체 튜브를 통해 상기 제 1 유전체 튜브에서 발생되는 상기 저온 대기압 플라즈마로 키토산을 공급하는 키토산 공급 장치를 포함하는 키토산 도포 장치
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제 10 항에 있어서,상기 플라즈마 발생 장치 및 상기 키토산 공급 장치 서로 분리되어 설치되되,상기 플라즈마 발생 장치에서 발생된 상기 플라즈마를 상기 키토산 공급 장치의 상기 제 2 유전체 튜브의 측벽으로 분사하는 키토산 도포 장치
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제 10 항에 있어서,상기 플라즈마 발생 장치의 상기 제 1 유전체 튜브는 상기 키토산 공급 장치의 상기 제 2 유전체 튜브의 측벽에 연결되어, 상기 플라즈마 발생 장치에서 발생된 상기 저온 대기압 플라즈마를 상기 제 2 유전체 튜브의 내부로 분사하는 키토산 도포 장치
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제 10 항에 있어서,상기 키토산 도포 장치는 복수 개의 상기 플라즈마 발생 장치들을 포함하는 키토산 도포 장치
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제 10 항에 있어서,상기 키토산 공급 장치는 에어로졸 형태로 상기 키토산을 분사하는 키토산 도포 장치
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