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기판, 상기 기판 상에 형성되며 게이트 절연막에 의해 상기 기판과 절연되는 게이트 전극, 상기 게이트 전극 일측부의 상기 기판에 형성된 제 1 플로팅 영역, 상기 게이트 전극 다른 일측부의 상기 기판에 형성된 포토다이오드용 제 1 불순물영역, 상기 포토다이오드용 제 1 불순물영역과 상기 게이트 전극 사이의 상기 기판에 형성된 제 2 플로팅 영역, 상기 포토다이오드용 제 1 불순물영역과 상기 제 2 플로팅 영역을 포함하는 상기 기판의 표면부에 형성된 포토다이오드용 제 2 불순물영역을 포함하는 것을 특징으로 하는 시모스 이미지센서
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제 1 항에 있어서, 상기 포토다이오드용 제 1 불순물영역과 상기 제 2 플로팅 영역이 소정 거리 이격된 것을 특징으로 하는 시모스 이미지센서
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3
제 1 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 플로팅 영역에 동일한 형의 불순물이 주입된 것을 특징으로 하는 시모스 이미지센서
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4
제 1 항에 있어서, 상기 포토다이오드용 제 1 불순물영역과 상기 포토다이오드용 제 2 불순물영역에 서로 다른 형의 불순물이 주입된 것을 특징으로 하는 시모스 이미지센서
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제 1 항에 있어서, 상기 포토다이오드용 제 1 불순물영역과 상기 제 2 플로팅 영역 사이의 상기 기판에 형성된 제 3 불순물영역을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 시모스 이미지센서
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제 5 항에 있어서, 상기 제 3 불순물영역이 상기 포토다이오드용 제 1 불순물영역의 측면에 형성된 것을 특징으로 하는 시모스 이미지센서
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7 |
7
제 5 항에 있어서, 상기 제 3 불순물영역이 상기 제 2 플로팅영역과 동일한 깊이로 형성된 것을 특징으로 하는 시모스 이미지센서
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제 5 항에 있어서, 상기 제 3 불순물영역에 상기 포토다이오드용 제 1 불순물영역과 같은 형의 불순물이 주입된 것을 특징으로 하는 시모스 이미지센서
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8
제 5 항에 있어서, 상기 제 3 불순물영역에 상기 포토다이오드용 제 1 불순물영역과 같은 형의 불순물이 주입된 것을 특징으로 하는 시모스 이미지센서
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