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미해상회절마스크

  • 기술번호 : KST2015095300
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 광노광장치를 이용하여 반도체장치의 미세패턴을 형성하는데 사용되는 미해상회절마스크에 관한 것으로, 광노광장비를 이용하여 리쏘그래피 공정을 수행함에 있어서, 주마스크와 보조적으로 사용하되 웨이퍼에 전혀 상이 전달되지 않는 미세 반복패턴으로 구성되고, 변형조명이나 초해상필터를 사용한 노광장비를 사용함에 있어서, 주마스크와 보조적으로 사용하되, 웨이퍼에 전혀 상이 전달되지 않는 미세 반복패턴으로 구성된 미해성회절층을 갖는다.
Int. CL G03F 1/36 (2006.01) G03F 1/54 (2006.01) G03F 1/58 (2006.01)
CPC G03F 1/36(2013.01) G03F 1/36(2013.01) G03F 1/36(2013.01)
출원번호/일자 1019920023361 (1992.12.04)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-1993-0024107 (1993.12.21) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   92-8888   |   1992.05.26
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1992.12.04)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 오용호 대한민국 대전직할시중구
2 전영진 대한민국 대전직할시유성구
3 차재현 대한민국 대전직할시서구
4 김효중 대한민국 대전직할시대덕구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영길 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 대흥빌딩 ***호 (역삼동)
2 김명섭 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 *, 테헤란오피스빌딩 ***호 시몬국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1992.12.04 수리 (Accepted) 1-1-1992-0126830-92
2 출원심사청구서
Request for Examination
1992.12.04 수리 (Accepted) 1-1-1992-0126831-37
3 특허출원서
Patent Application
1992.12.04 수리 (Accepted) 1-1-1992-0126826-19
4 우선권주장증명서류제출서
Submission of Priority Certificate
1992.12.04 수리 (Accepted) 1-1-1992-0126827-54
5 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1992.12.04 수리 (Accepted) 1-1-1992-0126829-45
6 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1992.12.04 수리 (Accepted) 1-1-1992-0126828-00
7 대리인사임신고서
Notification of resignation of agent
1994.03.03 수리 (Accepted) 1-1-1992-0126832-83
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
1995.07.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1992-0041847-34
9 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
1995.08.26 수리 (Accepted) 1-1-1992-0126833-28
10 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
1995.09.26 수리 (Accepted) 1-1-1992-0126834-74
11 거절사정서
Decision to Refuse a Patent
1995.11.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1992-0041848-80
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2001.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0046046-20
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

노광장비를 이용하여 리소그래피 공정을 수행함에 있어서, 주마스크와 보조적으로 사용하되, 노광장비의 광학적상 전사특성 및 감광제의 특성상 웨이퍼 위의 감광제에 상이 해상되지 않도록 미세한 반복패턴으로 구성되는 미해상 회절층(20,20a)을 갖는 미해상 회절 마스크

2 2

제1항에 있어서, 상기 미해상 회절층(20,20a)은 단층 혹은 다층으로 구성하되, 주마스크(10)와 일체 혹은 분리되는 것을 특징으로 하는 미해상 회절 마스크

3 3

제1항에 있어서, 미해상 회절층은 석영기판 상에 차광막패턴(21), 투영막패턴(22) 및 석영기판을 식각한 패턴(23)중 하나로 된 것을 특징으로 하는 미해상 회절 마스크

4 4

제1항에 있어서, 미해상 회절층은 석영기판 상에 차광막패턴(21), 투영막패턴(22) 및 석영기판을 식각한 패턴(23)을 적어도 2개의 조합으로 된 것을 특징으로 하는 미해상 회절 마스크

5 5

제3항에 있어서, 상기 차광막 패턴(21)은 크롬으로 된 것을 특징으로 하는 미해상 회절 마스크

6 6

제1항에 있어서, 미해상 회절층(20,20a)을 형성하는 패턴은 주기성이 있는 일차원 또는 이차원의 격자(Grating)형 패턴 및 유사한 반복 패턴으로 구성한 것을 특징으로 하는 미해상 회절 마스크

7 7

제6항에 있어서, 상기 미해상 회절층(20,20a)을 형성하는 격자패턴은 1주기가 주마스크(10)의 차광막(11)의 반복패턴 주기의 정수배인 것을 특징으로 하는 미해상 회절 마스크

8 8

제6항에 있어서, 상기 미해상 회절층(20,20a)과 주마스크(10) 사이의 거리는 미해상 회절층(20,20a)을 구성하는 반복패턴(21,22,23)의 주기보다 상대적으로 큰 것을 특징으로 하는 미해상 회절 마스크

9 9

제1항에 있어서, 미해상 회절층(20,20a)은 주마스크(10)의 차광막(11)패턴에 따라 서로 다른 주기의 반복 패턴군이 구역별로 서로 다른 방향성을 갖는 패턴으로 형성된 것을 특징으로 하는 미해상 회절 마스크

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 EP00571929 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
2 JP06035172 JP 일본 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP6035172 JP 일본 DOCDBFAMILY
2 JPH0635172 JP 일본 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.