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광화학 합성 장치

  • 기술번호 : KST2015095501
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 광화학 합성 장치를 제공한다. 이 장치는 기판이 로딩되고 원료 물질들을 구성하는 반응 분자들이 공급되는 반응 챔버, 기판 상부에 배치되어 반응광을 제공하는 광원 및 광원과 기판 사이에 배치되어 반응광이 기판으로 투과될 수 있는 영역을 가변적으로 조절하는 투과 영역 제어 장치를 포함한다. 이때, 반응광은 높은 결맞음 정도를 갖는 레이저일 수 있다.
Int. CL G01N 27/22 (2006.01) G01N 33/48 (2006.01) G01N 33/53 (2006.01) B01L 99/00 (2010.01)
CPC G01N 33/48(2013.01) G01N 33/48(2013.01) G01N 33/48(2013.01) G01N 33/48(2013.01)
출원번호/일자 1020070120900 (2007.11.26)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0919820-0000 (2009.09.24)
공개번호/일자 10-2009-0054169 (2009.05.29) 문서열기
공고번호/일자 (20091001) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.11.26)
심사청구항수 25

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정문연 대한민국 대전 유성구
2 신동호 대한민국 대전 유성구
3 박세호 대한민국 대전 유성구
4 표현봉 대한민국 대전 유성구
5 전치훈 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 오세준 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)(특허법인 고려)
2 권혁수 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(삼일빌딩, 역삼동)(KS고려국제특허법률사무소)
3 송윤호 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 *** (역삼동) *층(삼일빌딩)(케이에스고려국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 대한민국(산업통상자원부장관) 세종특별자치시 한누리대
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2007.11.26 수리 (Accepted) 1-1-2007-0848295-41
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2008.09.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2008.10.13 수리 (Accepted) 9-1-2008-0065294-95
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2009.03.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0096877-46
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2009.04.01 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0196965-32
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2009.04.01 수리 (Accepted) 1-1-2009-0196973-08
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
8 등록결정서
Decision to grant		 2009.08.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0339901-33
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
원료 물질을 기판의 소정 영역에 선택적으로 형성하기 위한 광화학 합성 장치에 있어서, 상기 기판이 로딩되고, 상기 원료 물질들을 구성하는 반응 분자들이 공급되는 반응 챔버; 상기 기판 상부에 배치되어, 반응광을 제공하는 광원; 및 상기 광원과 상기 기판 사이에 배치되어, 상기 반응광이 상기 기판으로 투과될 수 있는 영역을 가변적으로 조절하는 투과 영역 제어 장치(device for controlling transmitting region)를 포함하되, 상기 반응광은 레이저인 것을 특징으로 하는 광화학 합성 장치
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 반응광은 상기 원료 물질의 상기 기판으로의 부착을 유도하는 파장을 갖는 것을 특징으로 하는 광화학 합성 장치
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 원료 물질은 유전자 발현 진단(gene expression) 및 단일염기 다형성(Single Nucleotide Polymorphism) 분석을 위한 DNA 모노머들 및 엑티베이터(activator) 용액, 단백질 합성을 위한 아미노산들 및 단백질들, 폴리머 합성을 위한 단위체들(monomers) 및 중합체들(polymers), 그리고 세정액(cleaning solution) 중의 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 광화학 합성 장치
4 4
제 3 항에 있어서, 상기 원료 물질은 상기 반응광에 의한 광탈착(photo-deprotection)될 수 있는 보호기를 갖는 것을 특징으로 하는 광화학 합성 장치
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 투과 영역 제어 장치는 2차원적으로 배열된 투과영역들을 구비하되, 상기 투과영역들의 광투과도(Transmittance)는 전기적 신호에 응답하여 제어되는 것을 특징으로 하는 광화학 합성 장치
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 투과 영역 제어 장치는 액정층의 광투과도-전압(Transmittance-Voltage) 특성을 이용하는 액정 표시 장치이고, 상기 액정 표시 장치는 2차원적으로 배열된 화소들; 상기 화소들의 광투과도를 제어하는 동작 전압을 생성하는 화소 제어부; 및 상기 화소들에 연결되어, 상기 화소들에 상기 동작 전압을 전달하는 배선들을 구비하는 것을 특징으로 하는 광화학 합성 장치
7 7
제 6 항에 있어서, 상기 원료 물질은 DNA 모노머들 중의 적어도 한가지를 포함하고, 상기 반응광은 자외선 대역의 레이저이되, 상기 동작 전압은 상기 자외선 대역의 레이저에 의한 상기 액정 표시 장치의 손상을 예방할 수 있는 범위에서 선택되는 것을 특징으로 하는 광화학 합성 장치
8 8
제 7 항에 있어서, 상기 동작 전압은 상기 액정층이 완전 투과 모드 및 완전 차단 모드에서 동작하도록 선택되는 것을 특징으로 하는 광화학 합성 장치
9 9
제 1 항에 있어서, 상기 투과 영역 제어 장치는 0도 내지 10도의 시야각을 갖도록 구성되는 것을 특징으로 하는 광화학 합성 장치
10 10
제 1 항에 있어서, 상기 광원과 상기 기판 사이에 배치되어, 상기 반응광의 진행 방향, 세기 및 상기 기판으로의 입사 각도 중의 적어도 하나를 제어하는 반응광 제어부를 더 포함하는 광화학 합성 장치
11 11
제 1 항에 있어서, 상기 반응광 제어부는 상기 반응광이 상기 기판의 상부면에 수직하게 입사되는 평행광을 형성하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 광화학 합성 장치
12 12
원료 물질을 기판의 소정 영역에 선택적으로 형성하기 위한 광화학 합성 장치에 있어서, 반응광을 생성하는 적어도 하나의 광원; 복수개의 기판들이 각각 로딩되는 복수개의 반응 챔버들; 상기 기판들로 상기 반응광을 가이드하는 반응광 제어부; 및 상기 반응광 제어부와 상기 기판 사이에 배치되어, 상기 반응광이 상기 기판으로 투과될 수 있는 영역을 가변적으로 조절하는 투과 영역 제어 장치를 포함하되, 상기 반응광 제어부는, 상기 반응광이 복수의 기판들로 제공되도록, 상기 반응광을 분할하는 광분배기들(beam splitter)을 포함하는 것을 특징으로 하는 광화학 합성 장치
13 13
제 12 항에 있어서, 상기 반응광 제어부는, 입사광을 이에 평행한 방향 및 이에 수직한 방향으로 각각 진행하는 투과광 및 반사광으로 분할하는, 복수개의 하프 미러들을 포함하되, 상기 하프 미러들은 상기 광원 또는 다른 하프 미러로부터 전송되는 상기 투과광 또는 상기 반사광을 상기 기판 또는 또다른 하프 미러로 전송하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 광화학 합성 장치
14 14
제 12 항에 있어서, 상기 반응광 제어부는 상기 기판들로 입사되는 상기 반응광의 세기가 같아지도록 구성되는 것을 특징으로 하는 광화학 합성 장치
15 15
제 14 항에 있어서, 상기 광분배기들은 상기 기판들 각각에 대응되어 배치되되, 상기 반응광 제어부는 적어도 하나의 상기 기판과 이에 대응되는 광분배기 사이에 배치되는 적어도 하나의 감쇠기(attenuator)를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 광화학 합성 장치
16 16
제 15 항에 있어서, 상기 기판과 이에 대응되는 광분배기 사이에 배치되는 적어도 하나의 감쇠기는 상기 기판으로 입사되는 상기 반응광의 진행 경로 상에 배치되는 상기 광분배기의 수가 많을수록 낮은 감쇠률을 갖도록 구성되는 것을 특징으로 하는 광화학 합성 장치
17 17
제 14 항에 있어서, 상기 반응광 제어부는, 상기 반응광과 상기 기판들 사이에, 상기 기판들에 입사되는 제 1 반응광 경로 및 상기 제1 반응광 경로의 순서에 대해 역순으로 상기 기판들에 입사되는 제 2 반응광 경로를 형성하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 광화학 합성 장치
18 18
제 12 항에 있어서, 상기 반응광은 상기 원료 물질의 상기 기판으로의 부착을 유도하는 파장을 가지는 레이저인 것을 특징으로 하는 광화학 합성 장치
19 19
제 12 항에 있어서, 상기 원료 물질은 유전자 발현 진단(gene expression) 및 단염기 다형성(Single Nucleotide Polymorphism) 분석을 위한 DNA 모노머들 및 엑티베이터(activator) 용액, 단백질 합성을 위한 아미노산들 및 단백질들, 폴리머 합성을 위한 단위체들(monomers) 및 중합체들(polymers), 그리고 세정액(cleaning solution) 중의 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 광화학 합성 장치
20 20
제 19 항에 있어서, 상기 원료 물질은 상기 반응광에 의한 광탈착(photo-deprotection)될 수 있는 보호기를 갖는 것을 특징으로 하는 광화학 합성 장치
21 21
제 19 항에 있어서, 상기 투과 영역 제어 장치는 2차원적으로 배열된 투과영역들을 구비하되, 상기 투과영역들의 광투과도(Transmittance)는 전기적 신호에 응답하여 제어되는 것을 특징으로 하는 광화학 합성 장치
22 22
제 21 항에 있어서, 상기 투과 영역 제어 장치는 액정층의 광투과도-전압(Transmittance-Voltage) 특성을 이용하는 액정 표시 장치이고, 상기 액정 표시 장치는 2차원적으로 배열된 화소들 및 상기 화소들의 광투과도를 제어하는 동작 전압을 생성하는 화소 제어부를 구비하되, 상기 화소 제어부는, 상기 원료 물질이 상기 기판 상에 서로 다른 적층 구조로 형성되도록, 화소들의 위치 및 상기 반응 챔버로 공급되는 상기 원료 물질의 종류에 따라 상기 화소들의 광투과도를 조절하는 것을 특징으로 하는 광화학 합성 장치
23 23
제 22 항에 있어서, 상기 원료 물질은 DNA 모노머들 중의 적어도 한가지를 포함하고, 상기 반응광은 자외선 대역의 레이저이되, 상기 동작 전압은 상기 자외선 대역의 레이저에 의한 상기 액정 표시 장치의 손상을 예방할 수 있는 범위에서 선택되는 것을 특징으로 하는 광화학 합성 장치
24 24
제 23 항에 있어서, 상기 동작 전압은 상기 액정층이 완전 투과 모드 및 완전 차단 모드에서 동작하도록 선택되는 것을 특징으로 하는 광화학 합성 장치
25 25
제 12 항에 있어서, 상기 반응광 제어부는 상기 반응광이 상기 기판들의 상부면에 같은 세기를 가지고 수직하게 입사되는 평행광을 형성하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 광화학 합성 장치
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1 정보통신부 및 정보통신연구진흥원 한국전자통신연구원 IT원천기술개발 유비쿼터스 건강관리용 모듈 시스템